技術(shù)編號(hào)：11275443
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種直寫曝光光路系統(tǒng)及其一次性直寫曝光方法，屬于直寫曝光機(jī)技術(shù)領(lǐng)域。背景技術(shù)直寫式光刻機(jī)設(shè)備又稱影像直接轉(zhuǎn)移設(shè)備(LDI)，在半導(dǎo)體及PCB生產(chǎn)領(lǐng)域是一個(gè)關(guān)鍵設(shè)備。現(xiàn)有技術(shù)的直寫光刻設(shè)備，特別是采用DMD方式進(jìn)行曝光的LDI，都采用多光路單排放置、多條帶的步進(jìn)掃描曝光方式，所采用工件臺(tái)均為X、Y軸的十字形結(jié)構(gòu)X軸用于在步進(jìn)方向上進(jìn)行步進(jìn)，Y軸用于在掃描方向進(jìn)行勻速掃描，也就是整個(gè)圖形掃描不能夠一次掃描完成，需要Y軸進(jìn)行往復(fù)運(yùn)動(dòng)。這樣會(huì)導(dǎo)致下述三個(gè)問題：一是圖形經(jīng)過多個(gè)往復(fù)掃描的條帶拼湊...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。