技術(shù)編號(hào)：10698132
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。公知有使用由微波激勵(lì)的高密度等離子體對(duì)被處理基板進(jìn)行處理的微波等離子體處理裝置。微波等離子體處理裝置通過(guò)例如使用排列有多個(gè)縫隙的平板狀的天線而將微波輻射至處理裝置內(nèi)，能夠在處理裝置內(nèi)產(chǎn)生更加均勻的微波。由此，微波等離子體處理裝置使供給到處理裝置內(nèi)的氣體進(jìn)行電離而能夠生成更加均勻的高密度等離子體。另外，在上述天線的下表面設(shè)置有由電介質(zhì)形成的電介質(zhì)窗。為了確保機(jī)械強(qiáng)度而在該電介質(zhì)窗形成有肋。參照日本特開2015-18686號(hào)公報(bào)。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的一技術(shù)方案的等...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。