技術(shù)編號(hào)：10614462
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 離子注入工藝是半導(dǎo)體制造過程中常用的工藝?；旧?，幾乎所有集成電路的制 造都會(huì)用到離子注入工藝。離子注入的原理是，離子是原子或分子經(jīng)過離子化后形成的，即 等離子體;等離子體帶有一定量的電荷?？赏ㄟ^電場(chǎng)對(duì)離子進(jìn)行加速，并利用磁場(chǎng)使其運(yùn)動(dòng) 方向改變，運(yùn)樣就可W控制離子W-定的能量進(jìn)入晶圓內(nèi)部達(dá)到滲雜的目的。 PFS(Plasma Flood System,也稱為淹沒式等離子體系統(tǒng)或等離子淋浴系統(tǒng)）和 PFG(Plasma Flood Gun,也稱為淹沒式等離...
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