入氣體隔離間隙中的惰性氣體從第一栗出區(qū)域和第二栗出區(qū)域?qū)С?，其中第一栗出區(qū)域與氣體隔離隧道的輸入?yún)^(qū)域鄰接，并且其中第二栗出區(qū)域與氣體隔離隧道的輸出區(qū)域鄰接。
[0023]此外，氣體隔離結構可以板狀地構建并且布置在真空室中，氣體隔離結構基本上平行于運輸平面延伸，其中運輸平面(以及運輸方向)由輸送系統(tǒng)限定。
[0024]此外，板狀的氣體隔離結構可以具有一個或多個穿通開口，使得可以穿過氣體隔離結構至氣體隔離間隙進行栗接入(Pumpzugriff)。
[0025]根據(jù)不同的實施形式，真空室還可以具有如下部件:第一處理裝置，用于在第一處理區(qū)域中處理要處理的襯底，其中第一處理裝置設置為在第一處理區(qū)域中提供第一氣體(具有第一壓力和第一氣體組分)；以及第二處理裝置，用于在第二處理區(qū)域中處理要處理的襯底，其中第二處理裝置設置為在第二處理區(qū)域中提供第二氣體(具有第二壓力和第二氣體組分)。
[0026]此外，可以提供氣體隔離結構，使得氣體隔離間隙具有橫向于要處理的襯底的運輸方向的間隙高度和沿著要處理的襯底的運輸方向的間隙長度，其中間隙長度大于五倍的間隙高度。例如，當氣體隔離間隙更長和不那么高時，氣體隔離間隙能夠?qū)崿F(xiàn)更有效的氣體分隔。
[0027]根據(jù)不同的實施形式，氣體隔離間隙可以具有從大約Imm到大約50mm的范圍的間隙高度。在此，間隙高度可以與要處理的襯底的厚度(高度)匹配。此外，氣體隔離間隙可以具有從大約Im到大約5m的范圍的間隙寬度。在此，間隙寬度可以與要處理的襯底的寬度匹配。此外，氣體隔離間隙可以具有沿著要處理的襯底的運輸方向的在大約5cm到大約120cm的范圍中的間隙長度，例如在大約1cm到大約10cm的范圍中的間隙長度。此外，間隙長度可以與真空室或氣體隔離室的尺寸匹配。此外，多個氣體隔離室可以相繼地設置，以便能夠?qū)崿F(xiàn)足夠的氣體隔離。此外，多個氣體隔離結構可以相繼地設置在真空室中，以便能夠?qū)崿F(xiàn)足夠的氣體隔離。
[0028]根據(jù)不同的實施形式，用于運行真空室的方法可以具有如下步驟:將襯底沿著運輸方向運輸穿過真空室中的氣體隔離區(qū)域，其中在氣體隔離區(qū)域中的氣體隔離結構形成氣體隔離間隙，使得阻止氣體粒子沿著和/或逆著運輸方向擴散；以及將惰性氣體直接導入在氣體隔尚結構與穿過氣體隔尚區(qū)域被運輸?shù)囊r底之間的氣體隔尚間隙中。
[0029]根據(jù)不同的實施形式，用于運行真空處理設備的方法可以具有如下步驟:將襯底從真空處理設備的第一處理室穿過真空處理設備的氣體隔離室運輸至真空處理設備的第二處理室中，其中襯底穿過氣體隔離室的導入開口被運輸至氣體隔離室中并且穿過氣體隔離室的輸出開口從氣體隔離室運輸出來，其中氣體隔離室具有氣體隔離結構，使得氣體隔離間隙通過襯底形成，將惰性氣體直接導入氣體隔離間隙中，使得借助被導入的惰性氣體阻止氣體粒子從這兩個處理室中的一個處理室穿過氣體隔離室擴散至這兩個處理室中的另一處理室中。
[0030]根據(jù)不同的實施形式，用于運行真空室或真空處理設備的方法還可以具有:將真空室或氣體隔離室排空。
[0031]此外，進行惰性氣體的導入，使得在氣體隔離間隙中提供惰性氣體壓力，從而使得最大地阻止氣體粒子從處理區(qū)域擴散到第二處理區(qū)域中或從第二處理區(qū)域中擴散進該處理區(qū)域中。明顯地，可以存在氣體壓力，在該氣體壓力的情況下在氣體隔離間隙中借助惰性氣體的氣體隔離是最大的。該氣體壓力例如可以通過如下方式來確定:借助在氣體隔離間隙中的剩余氣體分析(例如借助質(zhì)譜儀)根據(jù)惰性氣體的部分壓力來測量要隔離的氣體(例如使用在處理區(qū)域中的至少一個處理區(qū)域中的反應氣體)的部分壓力。在此，在氣體隔離間隙中于是可以提供大約如下部分壓力的惰性氣體(例如借助惰性氣體的入流調(diào)節(jié)和/或抽吸管路的調(diào)節(jié))，在該部分壓力的情況下曾確定要隔離的氣體的最低部分壓力。
[0032]根據(jù)不同的實施形式，惰性氣體可以足夠大量地(質(zhì)量或體積)導入到氣體隔離間隙中，例如氣體流量在大約10sccm到大約100sccm的范圍中(sccm定義每分鐘在單位立方厘米中流動的氣體量)。標準立方厘米定義在物理的正常條件(T = 0°C且P =1013.25hPa)下V = Icm3的氣體體積。在此，所需的氣流可以取決于所親接的真空栗的抽吸管路和/或數(shù)目，例如對于每個耦接的渦輪分子栗可以提供范圍從大約lOOsccm到大約100sccm的氣流。
[0033]根據(jù)不同的實施形式，在氣體隔離間隙中可以提供惰性氣體的在大約10 5Hibar到大約10 1IIibar的范圍中的部分壓力，例如在大約10 4mbar到大約10 3mbar的范圍中的部分壓力。
[0034]根據(jù)不同的實施形式，真空室還可以具有真空栗裝置，用于將真空室排空直至壓力小于大約0.lmbar。此外，第一處理裝置和/或第二處理裝置可以具有真空栗裝置，用于將真空室排空直至壓力小于大約0.lmbar。
[0035]此外，第一處理裝置可以具有第一真空栗裝置，該第一真空栗裝置由于氣體隔離結構而基本上接入到(zugreifen)第一處理區(qū)域中。此外，第二處理裝置可以具有第二真空栗裝置，該第二真空栗裝置由于氣體隔離結構而基本上接入到(zugreifen)第二處理區(qū)域中。根據(jù)不同的實施形式，氣體隔離間隙可以間接地在處理區(qū)域之上被排空。
[0036]此外，在真空室中或在氣體隔離室中可以提供至少一個栗出區(qū)域，其中栗出區(qū)域直接與氣體隔離間隙鄰接，其中氣體隔離間隙借助真空栗裝置來排空，該真空栗裝置接入到栗出區(qū)域(例如直接或間接)。明顯地，導入氣體隔離間隙中的惰性氣體可以相同地在與氣體隔離間隙鄰接的栗出區(qū)域中又被栗出。明顯地，導入氣體隔離間隙中的惰性氣體可以相同地在兩個在兩側(cè)與氣體隔離間隙鄰接的栗出區(qū)域中又被栗出。
[0037]根據(jù)不同的實施形式，借助氣體隔離結構可以提供至少一種氣體(例如氧氣或氮氣)在真空室中在第一處理區(qū)域與第二處理區(qū)域之間的部分壓力差，例如在第一處理區(qū)域中的部分壓力與在第二處理區(qū)域中的部分壓力的部分壓力比在大約2到大約1000的范圍中。
[0038]根據(jù)不同的實施形式，真空室可以具有如下部件:至少一個第一處理區(qū)域和至少一個第二處理區(qū)域，用于在真空室中對襯底進行處理；用于將要處理的襯底至少從第一處理區(qū)域沿著運輸面(例如彎曲的運輸面或者平面的運輸面)運輸?shù)降诙幚韰^(qū)域中的運輸裝置；在第一處理區(qū)域與第二處理區(qū)域之間設置的氣體隔離結構，其中當襯底處于氣體隔離間隙中時氣體隔離結構在氣體隔離結構與運輸面之間形成氣體隔離間隙，使得阻止氣體粒子從兩個處理區(qū)域中的一個處理區(qū)域穿過氣體隔離間隙擴散至兩個處理區(qū)域中的另一個處理區(qū)域中；以及在第一處理區(qū)域與第二處理區(qū)域之間設置的用于將惰性氣體導入氣體隔尚間隙中的氣體輸送部。
【附圖說明】
[0039]在附圖中示出本發(fā)明的實施例并且下面更為詳細地予以闡述。
[0040]在附圖中:
[0041]圖1示出了根據(jù)不同的實施形式的真空室的示意性側(cè)視圖或橫截面視圖；
[0042]圖2示出了根據(jù)不同的實施形式的真空室的示意性側(cè)視圖或橫截面視圖；
[0043]圖3示出了根據(jù)不同的實施形式的真空室或真空處理設備的示意性側(cè)視圖或橫截面視圖；
[0044]圖4示出了根據(jù)不同的實施形式的真空室或真空處理設備的示意性側(cè)視圖或橫截面視圖；
[0045]圖5示出了根據(jù)不同的實施形式的真空室或真空處理設備中的氣體隔離部的示意性側(cè)視圖或橫截面視圖；
[0046]圖6示出了根據(jù)不同的實施形式的真空室或真空處理設備的示意性側(cè)視圖或橫截面視圖；
[0047]圖7以示意性側(cè)視圖或橫截面視圖示出了根據(jù)不同的實施形式的真空室或真空處理設備的詳細視圖。
【具體實施方式】
[0048]在下文中參考所附的附圖進行詳細的描述，所述附圖形成其一部分并且在附圖中示出了具體實施形式用于闡述，在這些實施形式中可以實施本發(fā)明。在這方面，方向術語譬如“上方”、“下方”、“前部”、“后部”、“較前的”、“較后的”等參考所描述的圖的定向來使用。由于實施形式的部件可以按多個不同的取向定位，所以方向術語用于闡述而絕無限制意義。應理解的是，可以使用其他實施形式和進行結構的或邏輯的改變，而不偏離于本發(fā)明的保護范圍。應理解的是，其中所描述的示例性實施形式的特征可以彼此組合，只要未明顯言明不同。因此，以下詳細的描述并不能理解為限制性含義，并且本發(fā)明的保護范圍通過所附的權利要求來限定。
[0049]在該說明書的范圍中，術語“連接”、“接連”以及“耦接”用于描述不僅直接而且間接的連接、直接或間接的接連以及直接或間接的耦接。在附圖中，相同的或相似的元件設置有相同的附圖標記，只要這是適宜的。
[0050]通常，真空處理設備可以用于對襯底譬如板狀襯底、玻璃片、晶片或其他載體進行處理，例如真空處理設備可以用作真空涂層設備，用于在真空涂層設備內(nèi)對襯底進行覆層。在此，真空處理設備(真空室)具有多個腔室、部分(隔間)或處理室以及用于將要涂層的襯底運輸穿過真空處理設備的運輸系統(tǒng)。真空處理設備的不同真空室可以借助所謂的腔室壁或艙壁彼此分隔，例如在水平連續(xù)涂層設備(串行設備)中借助豎直的腔室壁或豎直的艙壁來分隔。在此，每個腔室壁(或艙壁)可以具有襯底運送開口(襯底運送間隙)，使得襯底可以穿過腔室壁被運輸，例如從真空處理設備的第一腔室運輸進真空處理設備的第二腔室中。根據(jù)不同的實施形式，在真空處理設備中橫向于襯底運輸方向延伸的腔室壁或艙壁能夠?qū)崿F(xiàn)氣體隔離。此外，腔室壁或艙壁可以具有例如可封閉的開口，使得例如可以將隔間穿過開口從相鄰的隔間排空(栗出)。借助在腔室壁或艙室中的開口可以將在真空室或真空處理設備中的抽吸管分布或適配。
[0051]根據(jù)不同的實施形式，真空室可以由至少一個腔室殼體(真空室殼體)形成，所述腔室殼體具有至少一個蓋板開口和至少一個相關的腔室蓋板。此外，一個腔室(隔間)可以借助腔室殼體來提供，或多個腔室(隔間)可以在共同的腔室殼體中提供，其中腔