率雙面往復(fù)連續(xù)鍍膜磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)，其前處理裝置包括離子源預(yù)處理機(jī)構(gòu)和冷井盤管深冷機(jī)構(gòu)，離子源預(yù)處理機(jī)構(gòu)用于清洗基帶表面的污物；冷井盤管深冷機(jī)構(gòu)用于冷凝對(duì)基帶前處理過程中釋放的大量水汽，前處理裝置對(duì)基帶表面處理干凈整潔，保證了鍍膜加工質(zhì)量。
【附圖說明】
[0025]圖1為本發(fā)明的一種高效率雙面往復(fù)連續(xù)鍍膜磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)的原理示意圖；
[0026]圖2為本發(fā)明中的回轉(zhuǎn)換靶裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027]圖3為本發(fā)明中的陰極小室的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0028]不意圖中的標(biāo)號(hào)說明:
[0029]1、真空室；2、開卷室；201、開卷機(jī)構(gòu)；3、糾偏裝置；4、閘板閥；5、前處理裝置；6、基帶；7、換向輥；8、冷輥；9、收卷室；901、收卷機(jī)構(gòu)；10、回轉(zhuǎn)換靶裝置；1001、機(jī)座；1002、軸向伸縮機(jī)構(gòu)；1003、回轉(zhuǎn)盤；1004、徑向伸縮機(jī)構(gòu)；1005、極靶座板；11、陰極小室；1101、冷卻板;1102、冷卻水管;1103、真空隔離室;12、靶芯;13、進(jìn)氣閥;14、粗抽閥;15、粗抽泵；16、深冷泵；17、分子泵閘閥；18、分子泵；19、前級(jí)泵閘閥；20、前級(jí)泵。
【具體實(shí)施方式】
[0030]為進(jìn)一步了解本發(fā)明的內(nèi)容，結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作詳細(xì)描述。
[0031]結(jié)合圖1，本發(fā)明的一種高效率雙面往復(fù)連續(xù)鍍膜磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)，主要由執(zhí)行鍍膜工作的真空室1、設(shè)于真空室I兩側(cè)的開卷室2和收卷室9、提供鍍膜工藝條件的外設(shè)泵組、檢測(cè)和控制鍍膜加工狀態(tài)的檢測(cè)控制系統(tǒng)等幾部分組成。其中，開卷室2內(nèi)設(shè)有開卷機(jī)構(gòu)201，收卷室9內(nèi)設(shè)有收卷機(jī)構(gòu)901，真空室I內(nèi)設(shè)有兩組并排設(shè)置的冷輥8、用于基帶6換向的換向輥7、回轉(zhuǎn)換靶裝置10及陰極小室11，開卷室2與真空室I之間、收卷室9與真空室I之間均設(shè)置有閘板閥4，開卷機(jī)構(gòu)201和收卷機(jī)構(gòu)901之間的基帶6經(jīng)過設(shè)于真空室I內(nèi)的換向輥7換向后呈“S”形纏繞于兩組冷輥8上，開卷機(jī)構(gòu)201和收卷機(jī)構(gòu)901處各設(shè)置一組糾偏裝置3，且糾偏裝置3位于開卷室2和收卷室9內(nèi)；每組冷輥8的包覆有基帶6的圓周面上至少對(duì)應(yīng)設(shè)置兩組回轉(zhuǎn)換靶裝置10，每組回轉(zhuǎn)換靶裝置10與對(duì)應(yīng)的冷輥8之間均設(shè)置有一組兩面開口的陰極小室11，且每組回轉(zhuǎn)換靶裝置10、陰極小室11和對(duì)應(yīng)的冷輥8位于同一軸線上，在開卷機(jī)構(gòu)201處還設(shè)置有位于真空室I內(nèi)的前處理裝置5。外設(shè)泵組包括粗抽泵組、深冷泵16和分子泵組，粗抽泵組包括粗抽泵15、進(jìn)氣閥13和粗抽閥14，粗抽泵15、進(jìn)氣閥13和粗抽閥14按照如圖1所示的連接結(jié)構(gòu)與真空室I相連通，主要用于將真空室I內(nèi)的氣體快速抽出，達(dá)到分子泵的工作條件；深冷泵16與真空室I相連通，主要用于快速對(duì)真空室I進(jìn)行降溫，并配合粗抽泵組和分子泵組使真空室I內(nèi)達(dá)到極限真空狀態(tài)；分子泵組包括前級(jí)泵20、前級(jí)泵閘閥19、分子泵18和分子泵閘閥17，前級(jí)泵20、前級(jí)泵閘閥19、分子泵18和分子泵閘閥17依次連接后與真空室I相連通，主要用于實(shí)現(xiàn)快速達(dá)到極限真空狀態(tài)。檢測(cè)控制系統(tǒng)包括氣體分析儀、真空計(jì)、氣體流量計(jì)、光纖感應(yīng)探頭、張力控制系統(tǒng)及計(jì)算機(jī)，氣體分析儀設(shè)于陰極小室11內(nèi)，用于分析陰極小室11內(nèi)的氣體成分和含量；真空計(jì)設(shè)于真空室I內(nèi)，用于測(cè)量真空室I內(nèi)的氣壓；氣體流量計(jì)設(shè)于陰極小室11的進(jìn)氣管道上，用于控制陰極小室11的進(jìn)氣量；光纖感應(yīng)探頭伸入陰極小室11中，用于對(duì)靶材濺射出來的金屬氧化物氣體進(jìn)行在線收集分析；張力控制系統(tǒng)設(shè)于開卷機(jī)構(gòu)201、冷輥8、收卷機(jī)構(gòu)901及設(shè)于基帶6上的張緊輥上，用于控制柔性基帶6的平穩(wěn)運(yùn)行；氣體分析儀、真空計(jì)、氣體流量計(jì)和光纖感應(yīng)探頭分別于計(jì)算機(jī)相連，用于對(duì)各個(gè)工藝參數(shù)進(jìn)行計(jì)算和控制。
[0032]本發(fā)明的一種高效率雙面往復(fù)連續(xù)鍍膜磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)，旨在提供一種結(jié)構(gòu)緊湊、控制方便、加工效率高的雙面鍍膜機(jī)。利用兩組糾偏裝置3實(shí)現(xiàn)基帶6的往復(fù)連續(xù)運(yùn)動(dòng)，使基帶6的收卷邊緣整齊，達(dá)到鍍多層膜的加工目的；利用基帶6在兩組冷輥8上“S”形纏繞，實(shí)現(xiàn)基帶6的雙面鍍膜；同時(shí)通過在每組冷輥8上對(duì)應(yīng)設(shè)置至少兩組回轉(zhuǎn)換靶裝置10，一次鍍膜行程可以完成基材兩面多層膜的鍍制，大大提高了鍍膜機(jī)雙面鍍膜的效率，且鍍膜精度高，同時(shí)在不打開鍍膜真空室的情況下即可及時(shí)更換陰極靶，節(jié)省了傳統(tǒng)換靶后再次抽真空所需的時(shí)間，簡(jiǎn)化了鍍膜機(jī)的電氣控制裝置及程序；設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地空間小，尤其適合于大批量生產(chǎn)。
[0033]下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的描述。
[0034]實(shí)施例
[0035]如圖1所示，本實(shí)施例的一種高效率雙面往復(fù)連續(xù)鍍膜磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)，包括真空室1、開卷室2、設(shè)于開卷室2內(nèi)的開卷機(jī)構(gòu)201、收卷室9、設(shè)于收卷室9內(nèi)的收卷機(jī)構(gòu)901、設(shè)于真空室I內(nèi)的兩組冷輥8、糾偏裝置3和回轉(zhuǎn)換靶裝置10，開卷室2與真空室I之間、收卷室9與真空室I之間均設(shè)置有閘板閥4，用于阻止開卷室2和收卷室9內(nèi)的氣體進(jìn)入真空室I中，影響真空室I的真空度；真空室I內(nèi)還設(shè)有用于改變基帶6方向的換向輥7，開卷機(jī)構(gòu)201和收卷機(jī)構(gòu)901之間的基帶6經(jīng)過換向輥7換向后呈“S”形纏繞于兩組冷輥8上，兩組冷輥8橫向并排布置，結(jié)構(gòu)緊湊，占地空間小；鍍膜加工時(shí)，開卷機(jī)構(gòu)201、冷輥8和收卷機(jī)構(gòu)901同步聯(lián)動(dòng)，同時(shí)冷輥8中還通入-15?-20°C的冷卻液，用于降低鍍膜所產(chǎn)生的高溫，保證鍍膜質(zhì)量，在鍍膜結(jié)束后，又能夠使冷輥8快速回到室溫狀態(tài)。開卷機(jī)構(gòu)201和收卷機(jī)構(gòu)901處各設(shè)置一組糾偏裝置3，且糾偏裝置3位于開卷室2和收卷室9內(nèi)，開卷機(jī)構(gòu)201和收卷機(jī)構(gòu)901均具有收卷和放卷功能，在收卷和放卷的往復(fù)運(yùn)動(dòng)中，兩組糾偏裝置3可以確保基帶6收卷邊緣整齊，從而保證了基帶6往復(fù)運(yùn)動(dòng)的穩(wěn)定性。每組冷輥8的包覆有基帶6的圓周面上至少對(duì)應(yīng)設(shè)置兩組回轉(zhuǎn)換靶裝置10，每組回轉(zhuǎn)換靶裝置10與對(duì)應(yīng)的冷輥8之間均設(shè)置有一組兩面開口的陰極小室11，且每組回轉(zhuǎn)換靶裝置10、陰極小室11和對(duì)應(yīng)的冷輥8位于同一軸線上，將基帶6采用“S”形的方式纏繞于兩組冷輥8上，基帶6的正面包裹在其中一個(gè)冷輥8上，則基帶6的背面包裹在另一個(gè)冷輥8上，即在較小的空間內(nèi)可以實(shí)現(xiàn)基帶6的雙面鍍膜，同時(shí)回轉(zhuǎn)換靶裝置10可以通過回轉(zhuǎn)的方式，在不打開鍍膜真空室I的情況下即可及時(shí)更換陰極靶，實(shí)現(xiàn)了在基帶6的兩面上連續(xù)鍍多層膜的功能，克服了現(xiàn)有鍍膜機(jī)在真空室I外部換靶時(shí)需要再次抽真空，浪費(fèi)大量時(shí)間和能源的不足。具體在本實(shí)施例中，每組冷輥8上設(shè)置有兩組回轉(zhuǎn)換靶裝置10，即在基帶6的一個(gè)運(yùn)動(dòng)行程上即可在基帶6的兩個(gè)面上鍍兩層功能膜，結(jié)合基帶6的往復(fù)運(yùn)動(dòng)和回轉(zhuǎn)換靶裝置10的快速換靶，可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)鍍多層功能膜，同時(shí)合理地利用了真空室I的有限空間，結(jié)構(gòu)緊湊，占地空間小。
[0036]如圖2所示，本實(shí)施例給出了一種回轉(zhuǎn)換靶裝置10的具體結(jié)構(gòu)示意圖，該回轉(zhuǎn)換靶裝置10包括固定于真空室I內(nèi)的機(jī)座1001、通過回轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)連接于機(jī)座1001上的回轉(zhuǎn)盤1003、通過徑向伸縮機(jī)構(gòu)1004均勻分布于回轉(zhuǎn)盤1003上的兩個(gè)或兩個(gè)以上的用于安裝靶芯12的極靶座板1005 ;此外，為了在一次鍍膜完成后方便地進(jìn)行靶芯12的更換，在回轉(zhuǎn)換靶裝置10的機(jī)座1001上還設(shè)置有沿回轉(zhuǎn)盤1003軸向伸縮的軸向伸縮機(jī)構(gòu)1002，通過軸向伸縮機(jī)構(gòu)1002將回轉(zhuǎn)盤1003連同其上的極靶座板1005推出真空室1，無需進(jìn)入真空室I就可以進(jìn)行靶芯12的更換，操作簡(jiǎn)單方便。具體在本實(shí)施例中，極靶座板1005均勻設(shè)置有4個(gè)，一次換靶后可至少連續(xù)在基帶6的兩面各鍍4層以上的功能膜，且極靶座板1005上的靶芯12采用法蘭連接方式，方便了靶芯12的拆裝更換；上述的回轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)為步進(jìn)電機(jī)，可以帶動(dòng)回轉(zhuǎn)盤1003按設(shè)定程序定角度旋轉(zhuǎn)，控制方便、定位準(zhǔn)確；軸向伸縮機(jī)構(gòu)1002包括三層圓筒式導(dǎo)軌和電動(dòng)推桿，三層圓筒式導(dǎo)軌的一端固定于回轉(zhuǎn)盤1003上，另一端設(shè)于機(jī)座1001上，采用三層圓筒式導(dǎo)軌確保了軸向伸縮機(jī)構(gòu)1002具有足夠的剛性，確?？梢陨斐鲚^遠(yuǎn)的距離；徑向伸縮機(jī)構(gòu)1004為電動(dòng)推桿，每個(gè)極靶座板1005均由一個(gè)電動(dòng)推桿控制伸縮。在本實(shí)施例中，極靶座板1005旋轉(zhuǎn)到陰極小室11的對(duì)應(yīng)開口處，向外伸出并嵌入陰極小室11內(nèi)，實(shí)現(xiàn)工藝鍍膜；并且，結(jié)合開卷機(jī)構(gòu)201和收卷機(jī)構(gòu)901的往復(fù)運(yùn)動(dòng)，帶動(dòng)基