覆銅板的蝕刻設(shè)備及覆銅板的蝕刻系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種覆銅板的蝕刻設(shè)備及覆銅板的蝕刻系統(tǒng)。該覆銅板的蝕刻設(shè)備，包括：圖形蝕刻框，包括內(nèi)框與外框，外框套設(shè)于內(nèi)框外，且外框與內(nèi)框之間存在間隙，外框與內(nèi)框用于承載待蝕刻覆銅板的一端為圖形蝕刻框的承載端，間隙為圖形蝕刻框的蝕刻區(qū)；噴淋件，包括噴淋器，噴淋器的噴頭設(shè)于蝕刻區(qū)內(nèi)；固定件，包括抽真空裝置及與抽真空裝置連接的氣管，氣管的數(shù)目為多條，若干條氣管遠(yuǎn)離抽真空裝置的一端穿設(shè)于內(nèi)框上，若干條氣管遠(yuǎn)離抽真空裝置的一端穿設(shè)于外框上，多條氣管用于除去待蝕刻覆銅板與承載端接觸處的氣體。使用上述覆銅板的蝕刻設(shè)備可以得到較高的產(chǎn)品良率。
【專利說(shuō)明】
覆銅板的蝕刻設(shè)備及覆銅板的蝕刻系統(tǒng)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及印制電路板【技術(shù)領(lǐng)域】，特別是涉及一種覆銅板的蝕刻設(shè)備及覆銅板的蝕刻系統(tǒng)。

【背景技術(shù)】
[0002]目前在印制電路板(Printed Circuit Board,PCB)行業(yè)中主要采用干膜或濕膜法對(duì)覆銅板進(jìn)行蝕刻，其工藝過(guò)程需經(jīng)歷樣品清洗、貼膜、曝光、顯影、蝕刻、脫膜等主要步驟。在整個(gè)過(guò)程中人工對(duì)樣品的操作高達(dá)4次以上，而設(shè)備的自動(dòng)操作也最少4次。對(duì)樣品的操作次數(shù)越多，樣品皺褶概率越大，產(chǎn)品良率下降。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]基于此，有必要提供一種可以得到較高產(chǎn)品良率的覆銅板的蝕刻設(shè)備及覆銅板的蝕刻系統(tǒng)。
[0004]一種覆銅板的蝕刻設(shè)備，包括:
[0005]圖形蝕刻框，包括內(nèi)框與外框，所述外框套設(shè)于所述內(nèi)框外，且所述外框與所述內(nèi)框之間存在間隙，所述外框與所述內(nèi)框用于承載待蝕刻覆銅板的一端為所述圖形蝕刻框的承載端，所述間隙為所述圖形蝕刻框的蝕刻區(qū)；
[0006]噴淋件，包括噴淋器，所述噴淋器的噴頭設(shè)于所述蝕刻區(qū)內(nèi)；及
[0007]固定件，包括抽真空裝置及與所述抽真空裝置連接的氣管，所述氣管的數(shù)目為多條，若干條氣管遠(yuǎn)離所述抽真空裝置的一端穿設(shè)于所述內(nèi)框上，若干條氣管遠(yuǎn)離所述抽真空裝置的一端穿設(shè)于所述外框上，所述多條氣管用于除去待蝕刻覆銅板與所述承載端接觸處的氣體。
[0008]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述內(nèi)框的形狀與所述外框的形狀相同，且所述內(nèi)框與所述外框同心疊放。
[0009]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述內(nèi)框上開(kāi)設(shè)有貫穿其相對(duì)的兩個(gè)端面的安裝孔，所述安裝孔的數(shù)目為若干個(gè)，每一氣管通過(guò)一安裝孔穿設(shè)于所述內(nèi)框上。
[0010]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述外框與所述內(nèi)框之間的間距大于20mm。
[0011]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述噴頭的直徑為1mm?20mm。
[0012]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述噴淋件還包括蝕刻液存儲(chǔ)槽、清洗液存儲(chǔ)槽及液體回收槽，所述蝕刻液存儲(chǔ)槽用于存儲(chǔ)蝕刻液，以為所述噴淋器提供蝕刻液，所述清洗液存儲(chǔ)槽用于存儲(chǔ)清洗液，以為所述噴淋器提供清洗液，所述液體回收槽設(shè)于所述圖形蝕刻框遠(yuǎn)離所述承載端的一端處，所述液體回收槽通過(guò)導(dǎo)流管分別與所述刻液存儲(chǔ)槽及所述清洗液存儲(chǔ)槽連通。
[0013]一種覆銅板的蝕刻系統(tǒng)，包括按順時(shí)針?lè)较蚧蚰鏁r(shí)針?lè)较蜷g隔排列的待蝕刻覆銅板存放架、上述的覆銅板的蝕刻設(shè)備、烘干設(shè)備及產(chǎn)品回收架，以及傳動(dòng)設(shè)備，所述待蝕刻覆銅板存放架、所述覆銅板的蝕刻設(shè)備、所述烘干設(shè)備及所述產(chǎn)品回收架圍合形成傳動(dòng)區(qū)；
[0014]所述傳動(dòng)設(shè)備包括傳動(dòng)桿、吸附板及驅(qū)動(dòng)控制裝置，所述傳動(dòng)桿位于所述傳動(dòng)區(qū)內(nèi)，所述吸附板設(shè)于所述傳動(dòng)桿上，用于吸附待蝕刻覆銅板，所述驅(qū)動(dòng)控制裝置與所述傳動(dòng)桿連接，用于控制所述傳動(dòng)桿間隔運(yùn)動(dòng)以使所述吸附板依次運(yùn)動(dòng)至所述待蝕刻覆銅板存放架、所述覆銅板的蝕刻設(shè)備、所述烘干設(shè)備及所述產(chǎn)品回收架。
[0015]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述待蝕刻覆銅板存放架與所述烘干設(shè)備正對(duì)設(shè)置，所述覆銅板的蝕刻設(shè)備與所述產(chǎn)品回收架正對(duì)設(shè)置；
[0016]所述傳動(dòng)桿的數(shù)目為兩根，所述兩根傳動(dòng)桿成夾角設(shè)置，所述吸附板的數(shù)目為四塊，所述四塊吸附板分別設(shè)于所述兩根傳動(dòng)桿的四個(gè)端部，所述驅(qū)動(dòng)控制裝置控制每一吸附板依次運(yùn)動(dòng)至所述待蝕刻覆銅板存放架、所述覆銅板的蝕刻設(shè)備、所述烘干設(shè)備及所述產(chǎn)品回收架，且所述待蝕刻覆銅板存放架、所述覆銅板的蝕刻設(shè)備、所述烘干設(shè)備及所述產(chǎn)品回收架處同時(shí)具有吸附板。
[0017]在其中一個(gè)實(shí)施例中，每一傳動(dòng)桿在水平面上呈圓形軌跡運(yùn)動(dòng)或者在垂直面上呈橢圓形軌跡運(yùn)動(dòng)。
[0018]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述吸附板上設(shè)有多個(gè)間隔排布的真空吸盤；
[0019]或者，所述烘干設(shè)備為帶有熱源的風(fēng)刀。
[0020]當(dāng)待蝕刻覆銅板覆蓋圖形蝕刻框的承載端時(shí)，也即，待蝕刻覆銅板與內(nèi)框及外框一端的端面接觸時(shí)，抽真空裝置通過(guò)氣管除去覆銅板與內(nèi)框及外框接觸處的氣體，從而使得覆銅板與內(nèi)框及外框的接觸處具有良好的密封性，進(jìn)而可以有效防止蝕刻液浸入到其他不需要蝕刻的部位。通過(guò)噴頭向待蝕刻覆銅板噴灑蝕刻液，使得待蝕刻覆銅板位于內(nèi)框及外框之間的部分(位于蝕刻區(qū)的部分)因蝕刻而去除。再通過(guò)噴頭向經(jīng)蝕刻處理后的覆銅板噴灑清洗液，即得到平面尺寸與內(nèi)框的平面尺寸相同的產(chǎn)品(簡(jiǎn)單的大圖形)。
[0021]采用上述覆銅板的蝕刻設(shè)備進(jìn)行蝕刻時(shí)，最終產(chǎn)品的形狀與內(nèi)框的橫截面的形狀相同，可以省去在普通蝕刻方法中必須對(duì)樣品貼干膜、曝光、顯影等步驟，直接進(jìn)入到蝕刻步驟，從而可以有效減少對(duì)覆銅板的操作次數(shù)，大幅降低覆銅板的皺褶概率，進(jìn)而具有較高產(chǎn)品良率。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0022]圖1為一實(shí)施方式的覆銅板的蝕刻系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖2為圖1中的覆銅板的蝕刻設(shè)備處于蝕刻狀態(tài)下的剖面圖；
[0024]圖3為圖1中的覆銅板的蝕刻設(shè)備俯視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0025]如圖1-3所示，一實(shí)施方式的覆銅板的蝕刻系統(tǒng)10，包括待蝕刻覆銅板存放架100、覆銅板的蝕刻設(shè)備200、烘干設(shè)備300、產(chǎn)品回收架400以及傳動(dòng)設(shè)備500。其中，待蝕刻覆銅板的厚度比較小，在本實(shí)施方式中，待蝕刻覆銅板的厚度小于30 μ m。
[0026]在本實(shí)施方式中，待蝕刻覆銅板存放架100、覆銅板的蝕刻設(shè)備200、烘干設(shè)備300及產(chǎn)品回收架400按順時(shí)針?lè)较蜷g隔排列，且待蝕刻覆銅板存放架100、覆銅板的蝕刻設(shè)備200、烘干設(shè)備300及產(chǎn)品回收架400圍合形成傳動(dòng)區(qū)600?？梢岳斫猓谄渌麑?shí)施方式中，待蝕刻覆銅板存放架100、覆銅板的蝕刻設(shè)備200、烘干設(shè)備300及產(chǎn)品回收架400也可以按逆時(shí)針?lè)较蜷g隔排列。
[0027]進(jìn)一步，在本實(shí)施方式中，待蝕刻覆銅板存放架100與烘干設(shè)備300正對(duì)設(shè)置，覆銅板的蝕刻設(shè)備200與產(chǎn)品回收架400正對(duì)設(shè)置。
[0028]待蝕刻覆銅板存放架100用于存放待蝕刻覆銅板20。
[0029]覆銅板的蝕刻設(shè)備200包括圖形蝕刻框210、噴淋件220及固定件230。
[0030]圖形蝕刻框210包括內(nèi)框212與外框214。外框214套設(shè)于內(nèi)框212外，且外框214與內(nèi)框212之間存在間隙。其中，外框214與內(nèi)框212用于承載待蝕刻覆銅板20的一端為圖形蝕刻框210的承載端(圖未標(biāo))，間隙為圖形蝕刻框210的蝕刻區(qū)216。
[0031]在本實(shí)施方式中，內(nèi)框212的形狀與外框214的形狀相同，且內(nèi)框212與外框214同心疊放。進(jìn)一步，在本實(shí)施方式中，內(nèi)框212的橫截面呈方形。可以理解，在其他實(shí)施方式中，內(nèi)框212的橫截面也可以呈圓形、三邊形、五邊形等。外框214的形狀也可以不同于內(nèi)框212的形狀。即使內(nèi)框212的形狀與外框214的形狀相同時(shí)，內(nèi)框212與外框214也可以不同心疊放。
[0032]進(jìn)一步，在本實(shí)施方式中，內(nèi)框212兩端的端面分別與外框214兩端的端面共平面,也即，內(nèi)框212與外框214的高度相同?？梢岳斫?在其他實(shí)施方式中，內(nèi)框212 —端的端面與外框214—端的端面共平面(用于承載待蝕刻覆銅板20)，另一端不共平面，也即，內(nèi)框212與外框214的高度不相同。
[0033]進(jìn)一步，在本實(shí)施方式中，外框214與內(nèi)框212之間的間距大于20mm。進(jìn)一步，夕卜框214與內(nèi)框212之間的間距優(yōu)選為20mm?22mm。
[0034]在本實(shí)施方式中，噴淋件220包括噴淋器222、蝕刻液存儲(chǔ)槽(圖未示)、清洗液存儲(chǔ)槽(圖未示)及液體回收槽224。噴淋器222的噴頭223設(shè)于蝕刻區(qū)216內(nèi)，也即噴頭223設(shè)于外框214與內(nèi)框212之間。蝕刻液存儲(chǔ)槽用于存儲(chǔ)蝕刻液，以為噴淋器提供蝕刻液。清洗液存儲(chǔ)槽用于存儲(chǔ)清洗液，以為噴淋器提供清洗液。液體回收槽224設(shè)于圖形蝕刻框210遠(yuǎn)離承載端的一端處。液體回收槽224通過(guò)導(dǎo)流管(圖未示)分別與蝕刻液存儲(chǔ)槽及清洗液存儲(chǔ)槽連通?？梢岳斫?，在其他實(shí)施方式中，蝕刻液存儲(chǔ)槽與清洗液存儲(chǔ)槽可以由儲(chǔ)液罐替代,而液體回收槽224也可以省略。
[0035]進(jìn)一步，在本實(shí)施方式中，噴頭223的數(shù)目為多個(gè)。多個(gè)噴頭223均勻分布于蝕刻區(qū)216內(nèi)?？梢岳斫?，多個(gè)噴頭223可以由一個(gè)噴淋器222提供，也可以由多個(gè)噴淋器222提供。
[0036]進(jìn)一步，在本實(shí)施方式中，噴頭223的直徑為1mm?20mm。如果噴頭223的直徑大于20mm，則會(huì)出現(xiàn)噴頭223不能放進(jìn)蝕刻區(qū)216的情況。也即，會(huì)出現(xiàn)噴頭223位于蝕刻區(qū)216外的情況，進(jìn)而導(dǎo)致蝕刻液噴淋到其他不需要蝕刻的部位。而如果噴頭223的直徑小于10_，則會(huì)出現(xiàn)噴灑到需要蝕刻部位的噴淋液不均勻的情況，進(jìn)而導(dǎo)致蝕刻不完全。在本實(shí)施方式中，噴出的蝕刻液的壓強(qiáng)為2.5kg/cm2，蝕刻液的溫度為蝕刻液的反應(yīng)溫度。
[0037]固定件230包括抽真空裝置(圖未示)及與抽真空裝置連接的氣管232。氣管232的數(shù)目為多條。若干條氣管232遠(yuǎn)離抽真空裝置的一端穿設(shè)于內(nèi)框212上，若干條氣管232遠(yuǎn)離抽真空裝置的一端穿設(shè)于外框214上。多條氣管232用于除去覆銅板20與承載端接觸處的氣體，也即，通過(guò)真空吸附的方式使得覆銅板20固定于圖形蝕刻框210的承載端上。在本實(shí)施方式中，抽真空裝置為真空抽氣泵。
[0038]在本實(shí)施方式中，內(nèi)框212上開(kāi)設(shè)有貫徹其相對(duì)的兩個(gè)端面的安裝孔(圖未標(biāo))。安裝孔的數(shù)目為若干個(gè)。每一氣管232通過(guò)一安裝孔穿設(shè)于內(nèi)框212上。外框214上的氣管232的安裝方式與內(nèi)框212上的氣管232的安裝方式相同?？梢岳斫猓谄渌麑?shí)施方式中，安裝孔的兩端可以分別位于內(nèi)框212的承載端上與內(nèi)框212的側(cè)壁上。
[0039]當(dāng)待蝕刻覆銅板20覆蓋圖形蝕刻框210的承載端時(shí)，也即，待蝕刻覆銅板20與內(nèi)框212及外框214 —端的端面接觸時(shí)，抽真空裝置通過(guò)氣管232除去覆銅板20與內(nèi)框212及外框214接觸處的氣體，從而使得覆銅板20與內(nèi)框212及外框214的接觸處具有良好的密封性，進(jìn)而可以有效防止蝕刻液浸入到其他不需要蝕刻的部位。通過(guò)噴頭223向待蝕刻覆銅板20噴灑蝕刻液，使得待蝕刻覆銅板20位于內(nèi)框212及外框214之間的部分(位于蝕刻區(qū)216的部分)因蝕刻而去除。再通過(guò)噴頭223向經(jīng)蝕刻處理后的覆銅板噴灑清洗液，即得到平面尺寸與內(nèi)框212的平面尺寸相同的產(chǎn)品，也即，產(chǎn)品也可以呈方形、圓形、三邊形、五邊形等。
[0040]烘干設(shè)備300用于對(duì)經(jīng)過(guò)蝕刻處理后的覆銅板進(jìn)行烘干處理。在本實(shí)施方式中，烘干設(shè)備300為帶有熱源的風(fēng)刀。
[0041]產(chǎn)品回收架400用于存放經(jīng)烘干處理后的覆銅板，即產(chǎn)品。
[0042]傳動(dòng)設(shè)備500包括傳動(dòng)桿510、吸附板520及驅(qū)動(dòng)控制裝置(圖未示)。傳動(dòng)桿510位于傳動(dòng)區(qū)600內(nèi)。吸附板520設(shè)于傳動(dòng)桿510上，用于吸附待蝕刻覆銅板20。驅(qū)動(dòng)控制裝置與傳動(dòng)桿510連接，用于控制傳動(dòng)桿510間隔運(yùn)動(dòng)以使吸附板520依次運(yùn)動(dòng)至待蝕刻覆銅板存放架100、覆銅板的蝕刻設(shè)備200、烘干設(shè)備300及產(chǎn)品回收架400。
[0043]在本實(shí)施方式中，傳動(dòng)桿510的數(shù)目為兩根,兩根傳動(dòng)桿510成夾角設(shè)置。吸附板520的數(shù)目為四塊，四塊吸附板520分別設(shè)于兩根傳動(dòng)桿510的四個(gè)端部。驅(qū)動(dòng)控制裝置控制每一吸附板520依次運(yùn)動(dòng)至待蝕刻覆銅板存放架100、覆銅板的蝕刻設(shè)備200、烘干設(shè)備300及產(chǎn)品回收架400，且待蝕刻覆銅板存放架100、覆銅板的蝕刻設(shè)備200、烘干設(shè)備300及產(chǎn)品回收架400處同時(shí)具有吸附板520。兩根傳動(dòng)桿510與四塊吸附板520配合使得上述覆銅板的蝕刻系統(tǒng)10具有較高的生產(chǎn)效率?？梢岳斫?，在其他實(shí)施方式中，傳動(dòng)桿510的數(shù)目也可以只有一根，吸附板520也可以只有一塊。
[0044]進(jìn)一步,在本實(shí)施方式中，兩根傳動(dòng)桿510垂直設(shè)置,每一傳動(dòng)桿510在水平面上呈圓形軌跡運(yùn)動(dòng)?？梢岳斫猓谄渌麑?shí)施方式中，兩根傳動(dòng)桿510垂直設(shè)置，每一傳動(dòng)桿510在垂直面上呈橢圓形軌跡運(yùn)動(dòng)。顯然，兩根傳動(dòng)桿510也可以不垂直設(shè)置。
[0045]進(jìn)一步，在本實(shí)施方式中，吸附板520上設(shè)有多個(gè)間隔排布的真空吸盤(圖未示)，從而吸附板520可以有效吸附經(jīng)蝕刻處理后的覆銅板以及在蝕刻處理過(guò)程中形成殘片(吸附在外框214的端面上的部分覆銅板)。
[0046]上述覆銅板的蝕刻系統(tǒng)10工作時(shí)，傳動(dòng)設(shè)備500通過(guò)傳動(dòng)桿510及吸附板520將待蝕刻覆銅板20由待蝕刻覆銅板存放架100運(yùn)送至覆銅板的蝕刻設(shè)備200。待蝕刻覆銅板20與內(nèi)框212及外框214 —端的端面接觸，抽真空裝置通過(guò)氣管232除去覆銅板20與內(nèi)框212及外框214接觸處的氣體。當(dāng)真空度達(dá)到一定程度時(shí)，通過(guò)噴頭223向待蝕刻覆銅板20噴灑蝕刻液，使得待蝕刻覆銅板20位于內(nèi)框212及外框214之間的部分(位于蝕刻區(qū)216的部分)因蝕刻而去除，同時(shí)部分蝕刻液經(jīng)圖形蝕刻框210阻擋并流回至液體回收槽224，再經(jīng)導(dǎo)流管送回蝕刻液存儲(chǔ)槽。蝕刻完成后，再通過(guò)噴頭223向經(jīng)蝕刻處理后的覆銅板噴灑清洗液，同時(shí)部分清洗液經(jīng)圖形蝕刻框210阻擋并流回至液體回收槽224，再經(jīng)導(dǎo)流管送回清洗液存儲(chǔ)槽。清洗完成后，抽真空裝置停止抽真空，覆銅板與圖形蝕刻框210的承載端分離，傳動(dòng)設(shè)備500通過(guò)傳動(dòng)桿510及吸附板520將覆銅板運(yùn)送至烘干設(shè)備300，經(jīng)烘干處理后，再運(yùn)送至產(chǎn)品回收架400。
[0047]采用上述覆銅板的蝕刻設(shè)備200進(jìn)行蝕刻時(shí)，最終產(chǎn)品的形狀(簡(jiǎn)單的大圖形)與內(nèi)框212的橫截面的形狀相同，從而可以省去在普通蝕刻方法中必須對(duì)樣品貼干膜、曝光、顯影等步驟，直接進(jìn)入到蝕刻步驟，從而可以有效減少對(duì)覆銅板的操作次數(shù)，大幅降低覆銅板的皺裙概率，進(jìn)而具有較聞廣品良率。
[0048]以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本實(shí)用新型的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對(duì)本實(shí)用新型專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。因此，本實(shí)用新型專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種覆銅板的蝕刻設(shè)備，其特征在于，包括: 圖形蝕刻框，包括內(nèi)框與外框，所述外框套設(shè)于所述內(nèi)框外，且所述外框與所述內(nèi)框之間存在間隙，所述外框與所述內(nèi)框用于承載待蝕刻覆銅板的一端為所述圖形蝕刻框的承載端，所述間隙為所述圖形蝕刻框的蝕刻區(qū)； 噴淋件，包括噴淋器，所述噴淋器的噴頭設(shè)于所述蝕刻區(qū)內(nèi)；及 固定件，包括抽真空裝置及與所述抽真空裝置連接的氣管，所述氣管的數(shù)目為多條，若干條氣管遠(yuǎn)離所述抽真空裝置的一端穿設(shè)于所述內(nèi)框上，若干條氣管遠(yuǎn)離所述抽真空裝置的一端穿設(shè)于所述外框上，所述多條氣管用于除去待蝕刻覆銅板與所述承載端接觸處的氣體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆銅板的蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述內(nèi)框的形狀與所述外框的形狀相同，且所述內(nèi)框與所述外框同心疊放。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆銅板的蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述內(nèi)框上開(kāi)設(shè)有貫穿其相對(duì)的兩個(gè)端面的安裝孔，所述安裝孔的數(shù)目為若干個(gè)，每一氣管通過(guò)一安裝孔穿設(shè)于所述內(nèi)框上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆銅板的蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述外框與所述內(nèi)框之間的間距大于20mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的覆銅板的蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述噴頭的直徑為1mm?20mmo
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆銅板的蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述噴淋件還包括蝕刻液存儲(chǔ)槽、清洗液存儲(chǔ)槽及液體回收槽，所述蝕刻液存儲(chǔ)槽用于存儲(chǔ)蝕刻液，以為所述噴淋器提供蝕刻液，所述清洗液存儲(chǔ)槽用于存儲(chǔ)清洗液，以為所述噴淋器提供清洗液，所述液體回收槽設(shè)于所述圖形蝕刻框遠(yuǎn)離所述承載端的一端處，所述液體回收槽通過(guò)導(dǎo)流管分別與所述刻液存儲(chǔ)槽及所述清洗液存儲(chǔ)槽連通。
7.一種覆銅板的蝕刻系統(tǒng)，其特征在于，包括按順時(shí)針?lè)较蚧蚰鏁r(shí)針?lè)较蜷g隔排列的待蝕刻覆銅板存放架、如權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的覆銅板的蝕刻設(shè)備、烘干設(shè)備及產(chǎn)品回收架，以及傳動(dòng)設(shè)備，所述待蝕刻覆銅板存放架、所述覆銅板的蝕刻設(shè)備、所述烘干設(shè)備及所述產(chǎn)品回收架圍合形成傳動(dòng)區(qū)； 所述傳動(dòng)設(shè)備包括傳動(dòng)桿、吸附板及驅(qū)動(dòng)控制裝置，所述傳動(dòng)桿位于所述傳動(dòng)區(qū)內(nèi)，所述吸附板設(shè)于所述傳動(dòng)桿上，用于吸附待蝕刻覆銅板，所述驅(qū)動(dòng)控制裝置與所述傳動(dòng)桿連接，用于控制所述傳動(dòng)桿間隔運(yùn)動(dòng)以使所述吸附板依次運(yùn)動(dòng)至所述待蝕刻覆銅板存放架、所述覆銅板的蝕刻設(shè)備、所述烘干設(shè)備及所述產(chǎn)品回收架。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的覆銅板的蝕刻系統(tǒng)，其特征在于，所述待蝕刻覆銅板存放架與所述烘干設(shè)備正對(duì)設(shè)置，所述覆銅板的蝕刻設(shè)備與所述產(chǎn)品回收架正對(duì)設(shè)置； 所述傳動(dòng)桿的數(shù)目為兩根，所述兩根傳動(dòng)桿成夾角設(shè)置，所述吸附板的數(shù)目為四塊，所述四塊吸附板分別設(shè)于所述兩根傳動(dòng)桿的四個(gè)端部，所述驅(qū)動(dòng)控制裝置控制每一吸附板依次運(yùn)動(dòng)至所述待蝕刻覆銅板存放架、所述覆銅板的蝕刻設(shè)備、所述烘干設(shè)備及所述產(chǎn)品回收架，且所述待蝕刻覆銅板存放架、所述覆銅板的蝕刻設(shè)備、所述烘干設(shè)備及所述產(chǎn)品回收架處同時(shí)具有吸附板。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的覆銅板的蝕刻系統(tǒng)，其特征在于，每一傳動(dòng)桿在水平面上呈圓形軌跡運(yùn)動(dòng)或者在垂直面上呈橢圓形軌跡運(yùn)動(dòng)。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的覆銅板的蝕刻系統(tǒng)，其特征在于，所述吸附板上設(shè)有多個(gè)間隔排布的真空吸盤； 或者，所述烘干設(shè)備為帶有熱源的風(fēng)刀。
【文檔編號(hào)】H05K3/06GK204259285SQ201420627332
【公開(kāi)日】2015年4月8日 申請(qǐng)日期:2014年10月27日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月27日
【發(fā)明者】于淑會(huì), 郭歐平, 羅遂斌, 孫蓉 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院深圳先進(jìn)技術(shù)研究院