技術(shù)總結(jié)
本實用新型涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種適用于對熱敏感的基片進行鍍膜的鍍膜裝置，其特征在于：在所述鍍膜源和所述鍍膜傘架之間設(shè)置有具有水冷機構(gòu)的水冷擋板，所述水冷擋板固定在所述真空鍍膜室之中，在所述水冷擋板上開設(shè)有開口，所述開口的開設(shè)位置對應(yīng)于所述鍍膜源的設(shè)置位置，滿足于使所述鍍膜源的出射粒子通過所述開口到達所述鍍膜傘架上的所述工位的需要。本實用新型的優(yōu)點是：對于熱敏感基片的降溫效果明顯，保證鍍膜質(zhì)量；在降溫的同時，便于修正鍍膜均一性；結(jié)構(gòu)簡單，成本低。

技術(shù)研發(fā)人員：余龍;龍汝磊;戴秀海;范濱
受保護的技術(shù)使用者：光馳科技（上海）有限公司
文檔號碼：201621441460
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.27
技術(shù)公布日：2017.06.30