專(zhuān)利名稱(chēng)：平面波導(dǎo)反射衍射光柵的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于光通信的反射衍射光柵，更具體地涉及一種具有減小的偏振靈敏度和增加的自由光譜范圍的平面波導(dǎo)反射衍射光柵器件。
背景技術(shù)：
在光學(xué)系統(tǒng)中，衍射光柵是反射或透明基底上精細(xì)、平行、相等間距溝槽(“刻線(xiàn)”)的陣列，該溝槽引起衍射和相互干涉效應(yīng)，其沿離散的方向集中反射或傳輸電磁能，稱(chēng)為“級(jí)”，或“光譜級(jí)”。
溝槽尺寸和間距與正被討論的所述波長(zhǎng)相似。在光學(xué)領(lǐng)域中，衍射光柵的使用是最普遍的，每毫米有上百或成千的溝槽。
零級(jí)相應(yīng)于直接的透射或鏡面反射。更高的級(jí)導(dǎo)致入射光束與由幾何(光線(xiàn))光學(xué)預(yù)測(cè)的方向偏離。利用入射的法線(xiàn)角，表示衍射光線(xiàn)與由幾何光學(xué)預(yù)測(cè)的方向偏離的角度θ由下述方程給出，其中m是光譜級(jí)，λ是波長(zhǎng)，以及d是相鄰溝槽相應(yīng)部分之間的間距θ=±sin-1(mλd)]]>由于衍射光束的偏向角與波長(zhǎng)相關(guān)，因此衍射光柵是色散的，即它將入射光束空間分離為其組成波長(zhǎng)分量，產(chǎn)生光譜。
取決于入射光束的光譜內(nèi)容和光柵上每單位距離的溝槽數(shù)量，由衍射光柵產(chǎn)生的光譜級(jí)可以重疊。光譜級(jí)越高，向下一更低級(jí)的重疊越大。衍射光柵通常用于單色儀和其他光學(xué)儀器中。
通過(guò)控制溝槽的截面形狀，將大多數(shù)衍射能量集中在需要的級(jí)中是可能的。該技術(shù)稱(chēng)為“閃耀”。
最初，高分辨率衍射光柵被刻線(xiàn)。高質(zhì)量刻線(xiàn)機(jī)的構(gòu)造是一項(xiàng)大的任務(wù)。稍后，光刻技術(shù)允許光柵從全息干涉圖案中產(chǎn)生。全息光柵具有正弦溝槽因此不太明亮，但由于它們比閃耀光柵導(dǎo)致低得多的漫射光等級(jí)，因此在單色儀中是優(yōu)選的。復(fù)制技術(shù)允許高質(zhì)量的復(fù)制品從標(biāo)準(zhǔn)光柵中得到，這有助于光柵成本的降低。
平面波導(dǎo)反射衍射光柵包括以規(guī)則順序布置的刻面(facet)陣列。簡(jiǎn)單衍射光柵的性能參考圖1示出。具有多個(gè)波長(zhǎng)信道λ1，λ2，λ3…的光束1以特定入射角θin進(jìn)入光柵間距為Λ、衍射級(jí)為m的衍射光柵2，。然后根據(jù)光柵方程，光束以取決于波長(zhǎng)和級(jí)的角度θout發(fā)生角色散mλ＝Λ(sinθin+sinθout) (1)從光柵方程(1)中，衍射級(jí)形成的條件取決于入射光的波長(zhǎng)λN。當(dāng)考慮到光譜的形成時(shí)，有必要知道衍射角θNout怎樣隨著入射波長(zhǎng)θin變化。因此，通過(guò)將方程(1)對(duì)θNout微分，假定入射角θin固定，則導(dǎo)出下述方程∂θNout/∂λ=m/ΛcosθNout---(2)]]>微分量dθNout/dλ是相應(yīng)于波長(zhǎng)λ的小變化的衍射角θNout的變化，這已知為衍射光柵的角色散。當(dāng)級(jí)m增加，光柵間距Λ減小，以及衍射角θNout增加時(shí)，角色散增加。衍射光柵的線(xiàn)色散是該條件和系統(tǒng)的有效焦距的產(chǎn)物。
由于不同波長(zhǎng)λN的光以不同角度θNout衍射，因此每級(jí)m被拉伸到光譜中。可以由給定衍射光柵產(chǎn)生的級(jí)數(shù)被光柵間距Λ限制，這是因?yàn)棣萅out不能超過(guò)90°。最高級(jí)通過(guò)Λ/給出。因此，粗光柵(具有大的Λ)產(chǎn)生許多級(jí)而精細(xì)光柵可以?xún)H產(chǎn)生一級(jí)或兩級(jí)。
衍射光柵的自由光譜范圍(FSR)被定義為給定級(jí)中最大的帶寬，該級(jí)與相鄰級(jí)中的相同帶寬不重疊。級(jí)m在確定自由光譜范圍中是重要的，在該范圍內(nèi)得到連續(xù)色散。對(duì)于給定的輸入-光柵-輸出結(jié)構(gòu)，光柵在對(duì)于優(yōu)選波長(zhǎng)λ的優(yōu)選衍射級(jí)m工作時(shí)，其它波長(zhǎng)將采用與其它衍射級(jí)相同的路徑。當(dāng)下述方程成立時(shí)，級(jí)的第一重疊發(fā)生mλm＝(m+1)λm+1(3)λm+1=mλm(m+1)---(4)]]>Δλ=λmm+1---(5)]]>閃耀光柵是其中衍射光柵的溝槽被控制以形成具有閃耀角w的直角三角形的光柵，如圖1所示。閃耀角w的選擇特別是對(duì)于給定波長(zhǎng)提供優(yōu)化衍射光柵的總效率模式的機(jī)會(huì)。
對(duì)于密集波分復(fù)用(DWDM)，基于平面波導(dǎo)衍射的器件在近紅外(IR)區(qū)域(1550nm)提供極好的性能。特別是，中階梯光柵的進(jìn)步導(dǎo)致干涉路徑之間的大的相位差，該光柵通常以高衍射級(jí)(40級(jí)至80級(jí))，高的入射角(大約60°)和大的光柵間距工作。由于光柵刻面的尺寸與衍射級(jí)成比例，因此已經(jīng)很早認(rèn)識(shí)到這種大的相位差對(duì)于基于衍射的平面波導(dǎo)器件的可靠制造是必要的。從而，由于需要的高衍射級(jí)(見(jiàn)方程5)，現(xiàn)有的器件被限制在小波長(zhǎng)范圍內(nèi)工作。
此外，對(duì)于在平面波導(dǎo)平臺(tái)中制造的基于衍射光柵的器件，現(xiàn)有技術(shù)中遇到的通常問(wèn)題為偏振相關(guān)損耗，其由與反射刻面F相鄰的導(dǎo)電金屬S(反射涂層)的存在引起的一種偏振的場(chǎng)排斥而引起。
傳播通過(guò)光纖的光學(xué)信號(hào)具有不確定的偏振態(tài)，其需要多路復(fù)用(解復(fù)用)器基本上是偏振不靈敏的，以便最小化偏振相關(guān)損耗。在Littrow條件附近使用的反射光柵中，以及在Littrow條件附近的閃耀光柵中，兩種偏振光相同地從反射刻面(圖1中的F)很好地被反射。然而，金屬化側(cè)壁刻面S引入邊界條件，防止偏振平行于表面的光(TM)存在于該表面附近。此外，與另一種偏振光相比，一種偏振光優(yōu)選被側(cè)壁S上的金屬吸收。最終，側(cè)壁金屬的存在表明器件中的金屬本身作用為偏振相關(guān)損耗(PDL)。
存在許多減小衍射光柵的偏振靈敏度的方法和設(shè)備。Chowdhury在美國(guó)專(zhuān)利US 5,966,483和US 6,097,863中描述了通過(guò)選擇以減小透射帶寬內(nèi)波長(zhǎng)的第一和第二衍射效率之間差別來(lái)減小偏振靈敏度。該方案具有受到限制的實(shí)用性，因?yàn)樗箝W耀角和閃耀波長(zhǎng)的選擇方面的限制。
Sappey等在美國(guó)專(zhuān)利US 6,400,509中教導(dǎo)了偏振靈敏度可以通過(guò)包括被平面分離的反射臺(tái)階表面(reflective step surface)和橫向的上升表面來(lái)減小。該方案也具有受限制的實(shí)用性，因?yàn)樗笠恍┍砻嫔暇哂蟹瓷渫繉拥瞧渌砻娌灰?，?dǎo)致需要選擇處理反射界面的附加制造步驟。
光柵的自由光譜范圍與光柵刻面的尺寸成比例。已經(jīng)長(zhǎng)期考慮具有小衍射級(jí)的光柵不能通過(guò)光刻蝕可靠地形成，因?yàn)榈偷募?jí)通常意味著小于或可作光刻分辨率的級(jí)。光刻分辨率和隨后的處理步驟污損并基本上降低了光柵的性能。因此，刻蝕光柵的領(lǐng)域由于實(shí)際原因?qū)⑾拗破浔旧磉_(dá)到合理的大衍射級(jí)，一般超過(guò)級(jí)10。具有級(jí)范圍接近于1級(jí)的器件的實(shí)現(xiàn)已經(jīng)長(zhǎng)期認(rèn)為是不實(shí)際的。
本發(fā)明的目的是通過(guò)提供一種平面波導(dǎo)反射衍射光柵來(lái)克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，其中該光柵由于在相對(duì)低的級(jí)工作，具有非常小的PDL，以及由于非常小的側(cè)壁長(zhǎng)度而提供增加的帶寬。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明涉及一種用于解復(fù)用光學(xué)信號(hào)的平面波導(dǎo)平臺(tái)上的反射衍射光柵器件，包括輸入端口，以衍射光柵入射角發(fā)射包括多個(gè)由平均波長(zhǎng)限定的波長(zhǎng)信道的光束；反射衍射光柵，用于根據(jù)波長(zhǎng)以多種角度分散波長(zhǎng)信道，反射衍射光柵具有多個(gè)由刻面長(zhǎng)度限定的反射壁，以及多個(gè)由側(cè)壁長(zhǎng)度限定的側(cè)壁；和多個(gè)輸出端口，定位以捕獲波長(zhǎng)信道；其中由側(cè)壁長(zhǎng)度劃分的刻面長(zhǎng)度限定的縱橫比大于3。
本發(fā)明的另一方面涉及一種用于復(fù)用或解復(fù)用由平均波長(zhǎng)限定的光學(xué)信道的平面波導(dǎo)平臺(tái)上的反射衍射光柵器件，包括反射衍射光柵，其包括多個(gè)由刻面長(zhǎng)度限定的反射壁，以及多個(gè)由側(cè)壁長(zhǎng)度限定的非反射側(cè)壁；輸入端口，用于以衍射光柵處入射角發(fā)射包括光學(xué)信道的光束；第一輸出端口，用于輸出光學(xué)信道中的一個(gè)；和第二輸出端口，用于輸出光學(xué)信道中的另一個(gè)；其中選擇刻面長(zhǎng)度和入射角以確保光柵提供絕對(duì)值為7或更低級(jí)的衍射。
本發(fā)明的又一特征提供用于解復(fù)用光學(xué)信號(hào)的平面波導(dǎo)平臺(tái)上的反射衍射光柵器件，包括輸入端口，用于以衍射光柵入射角發(fā)射包括多個(gè)由平均波長(zhǎng)限定的波長(zhǎng)信道的光束；反射衍射光柵，用于根據(jù)波長(zhǎng)以多種角度分散波長(zhǎng)信道，反射衍射光柵具有多個(gè)由刻面長(zhǎng)度限定的反射壁，以及多個(gè)由側(cè)壁長(zhǎng)度限定的側(cè)壁；和多個(gè)輸出端口，定位以捕獲波長(zhǎng)信道；
其中側(cè)壁長(zhǎng)度小于或等于平均波長(zhǎng)的兩倍。


下面將參考代表本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的所附附圖詳細(xì)描述本發(fā)明，其中圖1示出了傳統(tǒng)反射衍射光柵；圖2示出了根據(jù)本發(fā)明的平面波導(dǎo)反射衍射光柵；和圖3示出了包括根據(jù)本發(fā)明的平面波導(dǎo)反射衍射光柵的光學(xué)器件。
具體實(shí)施例方式
平面波導(dǎo)衍射光柵的設(shè)計(jì)中一個(gè)主要關(guān)注問(wèn)題在于反射和側(cè)壁刻面F和S的分別可制造性。此外，迄今為止，刻面的可制造性的主要限制為光刻分辨率限制。一般的光刻過(guò)程限制的分辨率范圍為0.5μm～1.0μm，因此達(dá)到光柵的合理性能的最小要求為反射刻面尺寸F必須大于該分辨率，即尺寸為2.5μm～5μm或更大尺寸。
在圖1中，通過(guò)分別假定輸入和輸出角θin和θNout相同來(lái)簡(jiǎn)化光路。該假定僅簡(jiǎn)化刻面幾何形狀的數(shù)學(xué)處理。因此F≈Λcosθin；以及 (6)方程(1)簡(jiǎn)化為mλ≈2Λsinθin(7)結(jié)合方程6和7推出F≈mλ2tanθm---(8)]]>從圖1中SF≈tanθm---(9)]]>在歷史上，使用45°至65°的入射和輸出角度不可避免地導(dǎo)致光柵刻面縱橫比F/S大約為1(見(jiàn)圖1和方程9)。在波長(zhǎng)1550nm處，從方程(6)中發(fā)現(xiàn)對(duì)于反射F和非反射表面S，10-17μm的刻面尺寸在現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)于DWDM應(yīng)用是容易實(shí)現(xiàn)的。這使得光柵刻面F可制造，但是以作用于偏振相關(guān)損耗的大的非反射刻面(或側(cè)壁)S為代價(jià)。在現(xiàn)有技術(shù)中，刻面尺寸變化也通過(guò)改變衍射級(jí)m實(shí)現(xiàn)，即調(diào)節(jié)方程(8)的分子。
通信網(wǎng)絡(luò)由DWDM至CWDM和FTTH網(wǎng)絡(luò)發(fā)展而來(lái)。后兩個(gè)網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)具有跨越大波長(zhǎng)范圍的信道，該范圍從～1250nm至～1630nm。這些寬的范圍不適合于高衍射級(jí)器件，并且通常需要低至1的級(jí)。現(xiàn)有技術(shù)的專(zhuān)業(yè)人員沒(méi)有意識(shí)到或利用方程(8)。在低衍射級(jí)m和45°至65°的工作角度θin和θout處，由此得到的平面波導(dǎo)衍射光柵的刻面尺寸F將太小以致于實(shí)際上不可制造?，F(xiàn)有的基于平面波導(dǎo)衍射的器件包括AWG和中階梯光柵。它們都依靠高衍射級(jí)；AWG由于引導(dǎo)路由原因需要在高的級(jí)工作，階梯光柵技術(shù)使用高的級(jí)以保持大的刻面尺寸，其更容易制造。因此，現(xiàn)有技術(shù)在平面波導(dǎo)平臺(tái)中尋址CWDM或FTTH網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)方面具有內(nèi)在限制。
本發(fā)明認(rèn)識(shí)到方程(8)的重要性，特別是事實(shí)上可能通過(guò)分母的角相關(guān)性增加光柵刻面的縱橫比F/S。當(dāng)衍射角減小時(shí)，刻面尺寸隨tanθin線(xiàn)性增加。此外，本發(fā)明者認(rèn)識(shí)到刻面縱橫比F/S的增加產(chǎn)生偏振相關(guān)損耗改善和自由光譜范圍較大的器件。
例如，在硅沉積二氧化硅中，5或更小的衍射級(jí)(對(duì)于CWDM或FTTH網(wǎng)絡(luò)產(chǎn)生最小的實(shí)際自由光譜范圍)，在波長(zhǎng)1550nm處以及反射刻面F的尺寸超過(guò)5.0μm時(shí)，將需要F/S增加到大于3，這可以通過(guò)降低衍射角度到約25°來(lái)實(shí)現(xiàn)。從而，本發(fā)明包含所有的平面波導(dǎo)衍射光柵設(shè)計(jì)，其中反射和非反射刻面(或側(cè)壁)的比至少為3。
PDL的量很強(qiáng)地取決于縱橫比F/S和非反射刻面S的長(zhǎng)度。傳統(tǒng)的階梯光柵設(shè)計(jì)具有～1的縱橫比，并且很強(qiáng)地受到側(cè)壁相關(guān)PDL；然而，對(duì)于超過(guò)3的F/S，非反射刻面對(duì)PDL的貢獻(xiàn)基本上很小。通過(guò)進(jìn)一步增加F/S，有可能設(shè)計(jì)可制造刻面，其非反射光柵刻面的尺寸S等于或小于反射光的波長(zhǎng)，例如S≤3000nm，優(yōu)選≤2500nm，更優(yōu)選≤2000nm，最后優(yōu)選≤1550nm。對(duì)于這些具有金屬化側(cè)壁的光柵，光的相互作用長(zhǎng)度很小以致于器件的無(wú)PDL(PDL-free)工作成為可能。
因此，當(dāng)我們進(jìn)入其中tan(θ)小的狀態(tài)，即實(shí)現(xiàn)縱橫比為1/3或θ＜25°，我們可以減小側(cè)壁相關(guān)性PDL。
從可制造性觀點(diǎn)而言，如果反射刻面F大，則刻面本身被如實(shí)地復(fù)制而不管光刻分辨率的限制。小的非反射刻面S不太可能被如實(shí)地復(fù)制，并且會(huì)輕微地圓化，但是光柵性能不會(huì)受到影響。現(xiàn)有技術(shù)的專(zhuān)業(yè)人員毫無(wú)疑問(wèn)認(rèn)識(shí)到按照方程(1)，間距控制著色散。然而，非常普遍的是，使光柵的間距等于反射刻面(圖1中側(cè)壁S)之間的垂直距離。利用該想法，側(cè)壁S的變形可以等于光柵間距的變形。這是一個(gè)錯(cuò)誤的概念，事實(shí)上光柵間距由方程(6)給出。與直覺(jué)相反地，間距隨著F而不是S增加。本發(fā)明者認(rèn)識(shí)到該事實(shí)，并且能夠增加縱橫比，即減小S/F，如方程(9)所示，而沒(méi)有影響光柵間距的風(fēng)險(xiǎn)。實(shí)際上，光柵復(fù)制的保真度不被光刻而是被掩模自身特征的準(zhǔn)確度限制。該限制比光刻分辨率小幾個(gè)數(shù)量級(jí)(百倍)。
結(jié)合方程(8)和(9)，我們發(fā)現(xiàn)S≈mλ2---(10)]]>從而，通過(guò)選擇小的衍射級(jí)(m＝3，2，或1，如果必要)，可以幾乎消除PDL，因?yàn)閭?cè)壁尺寸S小于波長(zhǎng)。
在優(yōu)選實(shí)施例中，如圖3所示，凹的反射衍射光柵10在設(shè)置于芯片12上的平板波導(dǎo)11的邊緣處形成。輸入端口由波導(dǎo)13的端部限定，其從芯片12的邊緣延伸到平板波導(dǎo)11，用于傳輸包括多個(gè)波長(zhǎng)信道(λ1，λ2，λ3…)的輸入波分復(fù)用(WDM)信號(hào)。如上面參考圖2所限定的，衍射光柵10具有大于5的縱橫比(F/S)，側(cè)壁長(zhǎng)度S小于或等于波長(zhǎng)信道(λ1，λ2，λ3…)的平均波長(zhǎng)。輸入波導(dǎo)13被定位以確保入射角θin小于30°，光柵間距Λ被選擇以確保光柵10提供5或更小級(jí)的衍射。衍射光柵10將輸入信號(hào)分散為組成波長(zhǎng)，并以輸出波導(dǎo)15的形式將每個(gè)波長(zhǎng)信道聚集到單獨(dú)的輸出端口，其端部沿由羅蘭(Rowland)圓限定的光柵10的焦線(xiàn)16設(shè)置，用于傳輸回到芯片12的邊緣。所示的器件也可以用于復(fù)用幾個(gè)波長(zhǎng)信道，輸入所述波導(dǎo)15，經(jīng)由輸入波導(dǎo)13成為傳輸?shù)叫酒?2邊緣的單個(gè)輸出信號(hào)。輸入和輸出端口表示平面波導(dǎo)11上的位置，在該位置處光被發(fā)射或捕獲；然而，端口可以與其他傳輸器件光學(xué)耦合或簡(jiǎn)單地被阻擋。
操作上述光學(xué)器件的具體示例為θin＝5°5° 5° 6°m＝1 2 3 2
λavg＝1550nm 1550nm 1550nm 1550nmΛ＝8892nm 17784nm 26676nm 14828nmF＝8858nm17716nm 26574nm 14747nmS＝775nm 1550nm 2325nm 1550nmF/S＝11.411.4 11.4 9.權(quán)利要求
1.一種用于解復(fù)用光學(xué)信號(hào)的平面波導(dǎo)平臺(tái)上的反射衍射光柵器件，包括輸入端口，用于以衍射光柵入射角發(fā)射包括多個(gè)由平均波長(zhǎng)限定的波長(zhǎng)信道的光束；反射衍射光柵，用于根據(jù)波長(zhǎng)以多種角度分散所述波長(zhǎng)信道，所述反射衍射光柵具有多個(gè)由刻面長(zhǎng)度限定的反射壁，和多個(gè)由側(cè)壁長(zhǎng)度限定的側(cè)壁；以及多個(gè)輸出端口，被定位以捕獲所述波長(zhǎng)信道；其中縱橫比大于3，所述縱橫比等于所述刻面長(zhǎng)度除以所述側(cè)壁長(zhǎng)度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的器件，其中所述縱橫比大于5。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的器件，其中所述縱橫比大于10。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的器件，其中所述衍射光柵入射角小于6°。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的器件，其中所述側(cè)壁長(zhǎng)度小于或等于所述平均波長(zhǎng)的兩倍。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的器件，其中所述側(cè)壁長(zhǎng)度小于或等于所述平均波長(zhǎng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的器件，其中所述入射角小于30°。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的器件，其中所述入射角小于15°。
9.一種用于復(fù)用或解復(fù)用由平均波長(zhǎng)限定的光學(xué)信道的平面波導(dǎo)平臺(tái)上的反射衍射光柵器件，包括反射衍射光柵，其包括多個(gè)由刻面長(zhǎng)度限定的反射壁，以及多個(gè)由側(cè)壁長(zhǎng)度限定的非反射側(cè)壁；輸入端口，用于以所述衍射光柵處入射角發(fā)射包括所述光學(xué)信道的光束；第一輸出端口，用于輸出所述光學(xué)信道中的一個(gè)；和第二輸出端口，用于輸出所述光學(xué)信道中的另一個(gè)；其中選擇所述刻面長(zhǎng)度和所述入射角以確保所述光柵提供絕對(duì)值為7或更低級(jí)的衍射。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的器件，其中所述級(jí)為5或更低。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的器件，其中級(jí)為3或更低。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的器件，其中所述衍射光柵入射角小于6°。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的器件，其中所述側(cè)壁長(zhǎng)度小于或等于所述平均波長(zhǎng)。
14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的器件，其中所述入射角小于45°。
15.根據(jù)權(quán)利要求9所述的器件，其中所述入射角小于30°。
16.根據(jù)權(quán)利要求9所述的器件，其中所述入射角小于15°。
17.根據(jù)權(quán)利要求9所述的器件，其中所述側(cè)壁長(zhǎng)度小于或等于所述平均波長(zhǎng)的兩倍。
18.根據(jù)權(quán)利要求9所述的器件，其中所述側(cè)壁長(zhǎng)度小于或等于所述平均波長(zhǎng)。
19.一種用于解復(fù)用光學(xué)信號(hào)的平面波導(dǎo)平臺(tái)上的反射衍射光柵器件，包括輸入端口，用于以衍射光柵入射角發(fā)射包括多個(gè)由平均波長(zhǎng)限定的波長(zhǎng)信道的光束；反射衍射光柵，用于根據(jù)波長(zhǎng)以多種角度分散所述波長(zhǎng)信道，所述反射衍射光柵具有多個(gè)由刻面長(zhǎng)度限定的反射壁，和多個(gè)由側(cè)壁長(zhǎng)度限定的側(cè)壁；以及多個(gè)輸出端口，被定位以捕獲所述波長(zhǎng)信道；其中所述側(cè)壁長(zhǎng)度小于或等于所述平均波長(zhǎng)的兩倍。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的器件，其中所述側(cè)壁長(zhǎng)度小于或等于所述平均波長(zhǎng)的兩倍。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于光學(xué)器件例如波分復(fù)用器的平面波導(dǎo)反射衍射光柵，其提供比傳統(tǒng)平面波導(dǎo)反射衍射光柵增加的帶寬，同時(shí)消除一般與其相關(guān)的偏振相關(guān)損耗(PDL)。因此，提供低的級(jí)(＜3)，高的縱橫比(＞10)的光柵，其具有非常短的側(cè)壁(小于光學(xué)信號(hào)的波長(zhǎng))，用于入射角小于15°。
文檔編號(hào)H04J14/02GK1934476SQ200580009499
公開(kāi)日2007年3月21日 申請(qǐng)日期2005年3月7日 優(yōu)先權(quán)日2004年3月24日
發(fā)明者瑟治·比達(dá)克, 阿斯霍克·巴拉克里斯南, 馬特·皮爾森 申請(qǐng)人:Enablence有限公司