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一種smd石英諧振器離子刻蝕調(diào)整頻率的托盤載料裝置的制造方法

文檔序號:8564574閱讀:189來源:國知局
一種smd石英諧振器離子刻蝕調(diào)整頻率的托盤載料裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及石英諧振器器離子刻蝕調(diào)整頻率的托盤載料裝置,特別是一種SMD石英諧振器離子刻蝕調(diào)整頻率的托盤載料裝置。
【背景技術】
[0002]石英諧振器離子刻蝕是提將石英晶片鍍金膜或銀膜后,搭載入基座后的,裝入托盤并傳入真空腔內(nèi)進行離子刻蝕。在刻蝕前測量系統(tǒng)對來料進行頻率測試并計算出需要刻蝕的時間,在刻蝕后進行再次測量以檢測調(diào)整頻率后產(chǎn)品是事滿足要求。
[0003]離子刻蝕的過程是在真空中通過鎢絲放電使Ar氣體電離成等離子體,接著對Ar離子進行加速使其成為高能量的離子束,最后通過柵極將高能離子束引出,使其射向鍍膜后的石英晶片,產(chǎn)生碰撞使鍍膜表面產(chǎn)生濺射,達到減薄金膜或銀膜而達到頻率調(diào)整的目的。
[0004]石英諧振器在手機的應用領域里面是必不可缺的一款元器件,隨著移動手機的高速發(fā)展的同時也帶動著各種行業(yè)的電子元器件的更新與變迀,隨著手機越來越小,元器件也跟著越來越小,特別是SMD石英諧振器系列,是隨著手機的變小而變小。為了滿足手機的應用,石英諧振器隨之變小,依次從7050發(fā)展到5032、3225、2520、2016、1612。
[0005]在離子刻蝕時,頻率測量系統(tǒng)都是通過探針物理接觸,并且是在真空的環(huán)境中進行。隨著石英諧振器尺寸越來越小,傳統(tǒng)的托盤載料裝置越來越難保證探針精確接觸產(chǎn)品,并且需要大量時間來對探針模塊進行微調(diào)才能達到相對較好的狀態(tài)。由于定位接觸不好會導致的不良后果:在離子刻蝕前探針沒有接觸好則會判定當來料異常,后續(xù)不會再進行離子刻蝕;在離子刻蝕后測試時探針沒有接觸好,則會判定產(chǎn)品刻蝕不良,兩種情況都會導致產(chǎn)品良率低下,需要設備維護人員花大的時間來調(diào)整。
【實用新型內(nèi)容】
[0006]本實用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術的缺點,提供一種提尚廣品定位精度和提尚產(chǎn)品生產(chǎn)良率的SMD石英諧振器離子刻蝕調(diào)整頻率的托盤載料裝置。
[0007]本實用新型的目的通過以下技術方案來實現(xiàn):一種SMD石英諧振器離子刻蝕調(diào)整頻率的托盤載料裝置,它包括基板、離子掩模塊、導向塊鑲板和蓋板,所述的基板、離子掩模塊、導向塊鑲板和蓋板通過螺釘固定在一起,所述的基板上開設有放置孔,所述的導向塊鑲板上開設有導向塊鑲嵌孔,所述的導向塊鑲嵌孔四壁上鑲嵌有帶有錐度的導向塊,所述的離子掩模塊上開設有離子掩??祝龅幕咫x子刻蝕位置開設有離子束通過孔,所述的放置孔、導向塊鑲嵌孔、離子掩??缀碗x子束通過孔的中心處于同一軸線上。
[0008]所述的離子掩模塊上還開設有與導向塊鑲嵌孔大小相同的沉孔,所述的導向塊底部裝配在沉孔內(nèi)。
[0009]所述的放置孔、導向塊鑲嵌孔、離子掩??缀碗x子束通過孔均為方形孔。
[0010]所述的基板的長邊兩側(cè)分布有步進孔。
[0011]本實用新型具有以下優(yōu)點:本實用新型的托盤載料裝置,在導向塊鑲板上鑲嵌有導向塊,導向塊改善了 SMD石英諧振器離子刻蝕的插入率,并且提高了產(chǎn)品的定位精度以及提尚了廣品生廣良率。
【附圖說明】
[0012]圖1是本實用新型的俯視結(jié)構(gòu)示意;
[0013]圖2是圖1中A-A剖面結(jié)構(gòu)示意;
[0014]圖3是圖1中I處放大示意圖;
[0015]圖中,1-蓋板,2-導向塊鑲板,3-離子掩模板,4-基板,5-組成步進孔,6_離子束通過孔,7-離子掩???,8-螺釘,9-導向塊。
【具體實施方式】
[0016]下面結(jié)合附圖對本實用新型做進一步的描述,本實用新型的保護范圍不局限于以下所述:
[0017]如圖1所示,一種SMD石英諧振器離子刻蝕調(diào)整頻率的托盤載料裝置,它包括基板4、離子掩模塊3、導向塊鑲板2和蓋板1,如圖2所示,所述的基板4、離子掩模塊3、導向塊鑲板2和蓋板I通過螺釘8固定在一起,所述的基板4上開設有放置孔10,所述的導向塊鑲板2上開設有導向塊鑲嵌孔11,所述的導向塊鑲嵌孔11四壁上鑲嵌有帶有錐度的導向塊9,產(chǎn)品放入放置孔10后,在導向塊9和自身重力的作用下滑入中心位置,所述的離子掩模塊3上開設有離子掩???,離子掩模孔7只讓限定的離子束通過并進行離子刻蝕調(diào)整頻率,所述的基板4離子刻蝕位置開設有離子束通過孔6,且基板4的長邊兩側(cè)分布有步進孔5,步進孔5使整個拖盤在多次步進后完成離子刻蝕,所述的放置孔10、導向塊鑲嵌孔11、離子掩???和離子束通過孔6的中心處于同一軸線上。
[0018]在本實施例中,如圖2所示,所述的離子掩模塊3上還開設有與導向塊鑲嵌孔11大小相同的沉孔,如圖3所示,所述的導向塊9底部裝配在沉孔內(nèi),所述的放置孔10、導向塊鑲嵌孔11、離子掩???和離子束通過孔6均為方形孔。
【主權(quán)項】
1.一種SMD石英諧振器離子刻蝕調(diào)整頻率的托盤載料裝置,其特征在于:它包括基板(4)、離子掩模塊(3)、導向塊鑲板(2)和蓋板(1),所述的基板(4)、離子掩模塊(3)、導向塊鑲板(2)和蓋板(I)通過螺釘(8)固定在一起,所述的基板(4)上開設有放置孔(10),所述的導向塊鑲板(2)上開設有導向塊鑲嵌孔(11),所述的導向塊鑲嵌孔(11)四壁上鑲嵌有帶有錐度的導向塊(9),所述的離子掩模塊(3)上開設有離子掩???7),所述的基板(4)離子刻蝕位置開設有離子束通過孔(6),所述的放置孔(10)、導向塊鑲嵌孔(11)、離子掩???7)和離子束通過孔(6)的中心處于同一軸線上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種SMD石英諧振器離子刻蝕調(diào)整頻率的托盤載料裝置,其特征在于:所述的離子掩模塊(3)上還開設有與導向塊鑲嵌孔(11)大小相同的沉孔,所述的導向塊(9 )底部裝配在沉孔內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種SMD石英諧振器離子刻蝕調(diào)整頻率的托盤載料裝置,其特征在于:所述的放置孔(10)、導向塊鑲嵌孔(11)、離子掩???7)和離子束通過孔(6)均為方形孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種SMD石英諧振器離子刻蝕調(diào)整頻率的托盤載料裝置,其特征在于:所述的基板(4)的長邊兩側(cè)分布有步進孔(5)。
【專利摘要】本實用新型公開了一種SMD石英諧振器離子刻蝕調(diào)整頻率的托盤載料裝置,它包括基板(4)、離子掩模塊(3)、導向塊鑲板(2)和蓋板(1),基板(4)、離子掩模塊(3)、導向塊鑲板(2)和蓋板(1)通過螺釘(8)固定在一起,基板(4)上開設有放置孔(10),導向塊鑲板(3)上開設有導向塊鑲嵌孔(11),導向塊鑲嵌孔(11)四壁上鑲嵌有帶有錐度的導向塊(9),離子掩模塊(3)上開設有離子掩模孔(7),基板(4)離子刻蝕位置開設有離子束通過孔(6)。本實用新型的有益效果是:它改善了SMD石英諧振器離子刻蝕的插入率,并且提高了產(chǎn)品的定位精度以及提高了產(chǎn)品生產(chǎn)良率。
【IPC分類】H03H3-02
【公開號】CN204272044
【申請?zhí)枴緾N201420655525
【發(fā)明人】李 東
【申請人】東晶銳康晶體(成都)有限公司
【公開日】2015年4月15日
【申請日】2014年11月5日
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