本技術(shù)涉及顯示,特別是涉及一種驅(qū)動基板及其制備方法、顯示面板的制備方法。
背景技術(shù):
1、隨著顯示技術(shù)的發(fā)展,為了降低成本,會采用去除精細(xì)掩膜板的方式形成oled(organic?light-emitting?diode,有機(jī)發(fā)光二極管)顯示器件中的陰極和發(fā)光層。陰極在形成過程中采用蒸鍍的方式形成。陰極通過與隔離結(jié)構(gòu)搭接,以實(shí)現(xiàn)陰極之間的電連接。
2、然而,該蒸鍍方式會出現(xiàn)陰極與隔離結(jié)構(gòu)搭接不良的風(fēng)險(xiǎn)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本技術(shù)主要解決的技術(shù)問題是提供一種驅(qū)動基板及其制備方法、顯示面板的制備方法,解決現(xiàn)有技術(shù)中陰極與隔離結(jié)構(gòu)搭接不良的問題。
2、為了解決上述技術(shù)問題,本技術(shù)提供的第一個(gè)技術(shù)方案為:提供一種驅(qū)動基板的制備方法,包括:
3、提供依次層疊設(shè)置的驅(qū)動層、陽極金屬層、像素定義層;
4、在像素定義層遠(yuǎn)離驅(qū)動層的一側(cè)形成隔離結(jié)構(gòu);
5、其中,隔離結(jié)構(gòu)圍設(shè)形成像素槽;隔離結(jié)構(gòu)包括依次層疊設(shè)置的導(dǎo)電部和屋檐結(jié)構(gòu);屋檐結(jié)構(gòu)在靠近像素槽的方向上延伸出導(dǎo)電部;在隔離結(jié)構(gòu)的壁厚方向上,導(dǎo)電部的寬度均相等;定義在隔離結(jié)構(gòu)的壁厚方向上,屋檐結(jié)構(gòu)超出導(dǎo)電部的頂部的寬度為懸垂寬度,屋檐結(jié)構(gòu)超出導(dǎo)電部的底部的寬度為延伸寬度;像素槽包括第一像素槽和第二像素槽;在圍設(shè)第一像素槽的隔離結(jié)構(gòu)中,懸垂寬度定義為第一懸垂寬度,延伸寬度定義為第一延伸寬度;在圍設(shè)第二像素槽的隔離結(jié)構(gòu)中,懸垂寬度定義為第二懸垂寬度,延伸寬度定義為第二延伸寬度;第一懸垂寬度與第二懸垂寬度的差值為第一預(yù)設(shè)固定值,第一預(yù)設(shè)固定值為正數(shù);第一延伸寬度與第二延伸寬度的差值為第一預(yù)設(shè)固定值。
6、其中,在像素定義層遠(yuǎn)離驅(qū)動層的一側(cè)形成隔離結(jié)構(gòu),包括:
7、在像素定義層遠(yuǎn)離驅(qū)動層的一側(cè)依次形成導(dǎo)電層和屋檐層;
8、刻蝕屋檐層和導(dǎo)電層,以形成像素槽;像素槽的側(cè)壁形成隔離結(jié)構(gòu)。
9、其中,刻蝕屋檐層和導(dǎo)電層,以形成像素槽,包括:
10、在屋檐層上確定待刻蝕區(qū)域,刻蝕待刻蝕區(qū)域處的屋檐層和導(dǎo)電層,以形成預(yù)制像素槽;定義用于形成第一像素槽的預(yù)制像素槽為第一預(yù)制像素槽,用于形成第二像素槽的預(yù)制像素槽為第二預(yù)制像素槽;
11、在未被刻蝕的屋檐層上確定掩膜區(qū)域,去除掩膜區(qū)域外的屋檐層,以使預(yù)制像素槽形成像素槽;
12、其中,在導(dǎo)電層的壁厚方向上,圍設(shè)第一預(yù)制像素槽的屋檐層的內(nèi)側(cè)邊緣與相鄰的掩膜區(qū)域相互靠近的側(cè)邊之間的間距為第一間距,圍設(shè)第二預(yù)制像素槽的屋檐層的內(nèi)側(cè)邊緣與相鄰的掩膜區(qū)域相互靠近的側(cè)邊之間的間距為第二間距,
13、第二間距與第一間距的差值為第一預(yù)設(shè)固定值。
14、其中,刻蝕屋檐層和導(dǎo)電層,以形成像素槽,包括:
15、在屋檐層上確定待刻蝕區(qū)域,刻蝕待刻蝕區(qū)域處的屋檐層和導(dǎo)電層,以形成預(yù)制像素槽;定義用于形成第一像素槽的預(yù)制像素槽為第一預(yù)制像素槽,用于形成第二像素槽的預(yù)制像素槽為第二預(yù)制像素槽,用于形成第三像素槽的預(yù)制像素槽為第三預(yù)制像素槽;
16、在未被刻蝕的屋檐層上確定掩膜區(qū)域,去除掩膜區(qū)域外的屋檐層,以使預(yù)制像素槽形成像素槽;
17、其中,在導(dǎo)電層的壁厚方向上,圍設(shè)第一預(yù)制像素槽的屋檐層的內(nèi)側(cè)邊緣與相鄰的掩膜區(qū)域相互靠近的側(cè)邊之間的間距為第一間距,圍設(shè)第二預(yù)制像素槽的屋檐層的內(nèi)側(cè)邊緣與相鄰的掩膜區(qū)域相互靠近的側(cè)邊之間的間距為第二間距,圍設(shè)第三預(yù)制像素槽的屋檐層的內(nèi)側(cè)邊緣與相鄰的掩膜區(qū)域相互靠近的側(cè)邊之間的間距為第三間距;
18、第二間距與第一間距的差值為第一預(yù)設(shè)固定值,第三間距與第二間距的差值為第二預(yù)設(shè)固定值。
19、為了解決上述技術(shù)問題,本技術(shù)提供的第二個(gè)技術(shù)方案為:提供一種驅(qū)動基板,采用上述的驅(qū)動基板的制備方法制備得到;其中,包括依次層疊設(shè)置的驅(qū)動層、陽極金屬層、像素定義層和隔離結(jié)構(gòu);隔離結(jié)構(gòu)圍設(shè)形成像素槽;隔離結(jié)構(gòu)包括依次層疊設(shè)置的導(dǎo)電部和屋檐結(jié)構(gòu);屋檐結(jié)構(gòu)在靠近像素槽的方向上延伸出導(dǎo)電部;在隔離結(jié)構(gòu)的壁厚方向上,導(dǎo)電部的寬度均相等;
20、其中,定義在隔離結(jié)構(gòu)的壁厚方向上,屋檐結(jié)構(gòu)超出導(dǎo)電部的頂部的寬度為懸垂寬度,屋檐結(jié)構(gòu)超出導(dǎo)電部的底部的寬度為延伸寬度;
21、像素槽包括第一像素槽和第二像素槽;
22、在圍設(shè)第一像素槽的隔離結(jié)構(gòu)中,懸垂寬度定義為第一懸垂寬度,延伸寬度定義為第一延伸寬度;
23、在圍設(shè)第二像素槽的隔離結(jié)構(gòu)中,懸垂寬度定義為第二懸垂寬度,延伸寬度定義為第二延伸寬度;
24、第一懸垂寬度與第二懸垂寬度的差值為第一預(yù)設(shè)固定值,第一預(yù)設(shè)固定值為正數(shù);
25、第一延伸寬度與第二延伸寬度的差值為第一預(yù)設(shè)固定值。
26、其中,像素槽還包括第三像素槽,在圍設(shè)第三像素槽的隔離結(jié)構(gòu)中,懸垂寬度定義為第三懸垂寬度,延伸寬度定義為第三延伸寬度;第二懸垂寬度與第三懸垂寬度的差值為第二預(yù)設(shè)固定值;第二延伸寬度與第三延伸寬度的差值為第二預(yù)設(shè)固定值;第二預(yù)設(shè)固定值為正數(shù)。
27、其中,第一預(yù)設(shè)固定值與第二預(yù)設(shè)固定值相等。
28、其中,預(yù)設(shè)固定值小于或等于3微米,且大于或等于1微米;
29、在垂直于像素定義層的方向上,屋檐結(jié)構(gòu)的厚度為0.1微米~0.3微米,導(dǎo)電部的厚度為0.6微米~1.5微米;屋檐結(jié)構(gòu)具有絕緣性。
30、其中,陽極金屬層包括多個(gè)間隔設(shè)置的陽極;像素槽與陽極對應(yīng)設(shè)置,且覆蓋對應(yīng)陽極所在的區(qū)域。
31、為了解決上述技術(shù)問題,本技術(shù)提供的第三個(gè)技術(shù)方案為:提供一種顯示面板的制備方法,其中,包括:
32、提供一驅(qū)動基板;驅(qū)動基板為上述的驅(qū)動基板;
33、在像素槽內(nèi)蒸鍍形成子像素,且使子像素的陰極與導(dǎo)電部搭接;子像素包括按順序依次形成的第一子像素和第二子像素;第一子像素形成于第一像素槽,第二子像素形成于第二像素槽。
34、本技術(shù)的有益效果:區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù),本技術(shù)提供了一種驅(qū)動基板及其制備方法、顯示面板的制備方法,驅(qū)動基板的制備方法包括:提供依次層疊設(shè)置的驅(qū)動層、陽極金屬層、像素定義層;在像素定義層遠(yuǎn)離驅(qū)動層的一側(cè)形成隔離結(jié)構(gòu);其中,隔離結(jié)構(gòu)圍設(shè)形成像素槽;隔離結(jié)構(gòu)包括依次層疊設(shè)置的導(dǎo)電部和屋檐結(jié)構(gòu);屋檐結(jié)構(gòu)在靠近像素槽的方向上延伸出導(dǎo)電部;在隔離結(jié)構(gòu)的壁厚方向上,導(dǎo)電部的寬度均相等;定義在隔離結(jié)構(gòu)的壁厚方向上,屋檐結(jié)構(gòu)超出導(dǎo)電部的頂部的寬度為懸垂寬度,屋檐結(jié)構(gòu)超出導(dǎo)電部的底部的寬度為延伸寬度;像素槽包括第一像素槽和第二像素槽;在圍設(shè)第一像素槽的隔離結(jié)構(gòu)中,懸垂寬度定義為第一懸垂寬度,延伸寬度定義為第一延伸寬度;在圍設(shè)第二像素槽的隔離結(jié)構(gòu)中,懸垂寬度定義為第二懸垂寬度,延伸寬度定義為第二延伸寬度;第一懸垂寬度與第二懸垂寬度的差值為第一預(yù)設(shè)固定值,第一預(yù)設(shè)固定值為正數(shù);第一延伸寬度與第二延伸寬度的差值為第一預(yù)設(shè)固定值。通過使圍設(shè)不同像素槽的隔離結(jié)構(gòu)的懸垂寬度差異化,以及延伸寬度差異化,以匹配設(shè)置于像素槽中的子像素的制備工藝中對導(dǎo)電部的腐蝕情況,從而對被腐蝕的導(dǎo)電部的寬度進(jìn)行補(bǔ)償,以保證在制成的最終成品中各隔離結(jié)構(gòu)的懸垂寬度均相同;進(jìn)一步,通過使第一懸垂寬度與第二懸垂寬度的差值,和第一延伸寬度與第二延伸寬度的差值相同,以保證單個(gè)隔離結(jié)構(gòu)中懸垂寬度與延伸寬度的差值不變,從而在后續(xù)蒸鍍子像素時(shí)可以進(jìn)一步確保各子像素的蒸鍍角度一致,進(jìn)而有利于各子像素的陰極與導(dǎo)電部的搭接效果一致性以提升導(dǎo)電搭接效果。