本技術(shù)涉及電機(jī)，特別是涉及一種電機(jī)定子及電機(jī)。

背景技術(shù)：

1、現(xiàn)有的齒軛式定子鐵芯結(jié)構(gòu)的齒部與骨架裝配如圖1、2所示，這兩種方案的齒部100和軛部200均為一整圈，便于裝配。不過這兩種方案均需要保證齒部100和軛部200之間過盈配合(最低為過渡配合)。

2、然而，受磁路及繞線要求，定子鐵芯相鄰的兩個(gè)齒之間的相互作用力很小，在電機(jī)工作時(shí)，齒部鐵芯的齒部單元會(huì)相對骨架發(fā)生移動(dòng)(如圖3所示)，最終影響電機(jī)的可靠性。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供一種電機(jī)定子及電機(jī)，通過骨架對定子鐵芯的齒部單元進(jìn)行限位，避免定子齒的移動(dòng)，保證電機(jī)的可靠性。

2、本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：

3、一種電機(jī)定子，包括骨架和齒部鐵芯，所述骨架套設(shè)在所述齒部鐵芯的齒部單元上；

4、所述骨架的內(nèi)壁與所述齒部單元的側(cè)壁之間通過相配合的凹槽與凸起相連接，以防止所述齒部單元相對所述骨架移動(dòng)。

5、優(yōu)選地，所述凸起設(shè)置在所述骨架的內(nèi)壁，所述凹槽設(shè)置在所述齒部單元的側(cè)壁，所述凸起與所述凹槽位置一一對應(yīng)。

6、優(yōu)選地，所述凸起設(shè)置在所述齒部單元的側(cè)壁，所述凹槽設(shè)置在所述骨架的內(nèi)壁，所述凸起與所述凹槽位置一一對應(yīng)。

7、優(yōu)選地，所述凸起設(shè)置在所述骨架的圍繞所述齒部單元的兩個(gè)內(nèi)側(cè)壁，或所述凸起設(shè)置在所述齒部單元的兩個(gè)側(cè)壁。

8、優(yōu)選地，所述凸起設(shè)置在所述骨架的圍繞所述齒部單元的頂面或底面，或所述凸起設(shè)置在所述齒部單元的頂面或底面。

9、優(yōu)選地，所述齒部單元為徑向?qū)ΨQ結(jié)構(gòu)，所述凹槽及所述凸起均包括兩組，兩組所述凹槽及所述凸起均關(guān)于所述齒部單元的徑向?qū)ΨQ軸對稱設(shè)置，且每組所述凹槽均包括若干凹槽單元，每組所述凸起均包括若干凸起單元。

10、優(yōu)選地，所述齒部單元為軸向?qū)ΨQ結(jié)構(gòu)，所述凹槽及所述凸起均包括兩組，兩組所述凹槽及所述凸起均關(guān)于所述齒部單元的軸向?qū)ΨQ軸對稱設(shè)置，且每組所述凹槽均包括若干凹槽單元，每組所述凸起均包括若干凸起單元。

11、優(yōu)選地，所述凹槽單元為半球體，且其直徑為d1，所述齒部單元的寬度為w，d1＝(0.06～0.07)w；

12、所述凸起單元為半球體，且其直徑為d2，所述齒部單元的寬度為w，d2＝(0.06～0.07)w。

13、優(yōu)選地，每個(gè)側(cè)壁上的所述凸起的數(shù)量均為多個(gè)，多個(gè)所述凸起在高度的方向上呈螺旋狀。

14、優(yōu)選地，所述骨架上對應(yīng)所述齒部單元設(shè)有繞線槽，所述繞線槽的底壁設(shè)有至少一組嵌線槽，每組所述嵌線槽均包括若干嵌線槽單元，若干所述嵌線槽在所述骨架的高度方向上呈螺旋狀。

15、一種電機(jī)，包括上述的電機(jī)定子。

16、本實(shí)用新型實(shí)施例的一種電機(jī)定子及電機(jī)，其與現(xiàn)有技術(shù)相比，有益效果在于：通過在骨架的內(nèi)壁與齒部單元的側(cè)壁之間通過相配合的凹槽與凸起相連接，以防止齒部單元相對骨架移動(dòng)。從而實(shí)現(xiàn)了通過骨架對定子鐵芯的齒部單元進(jìn)行限位，避免了定子齒的移動(dòng)，保證了電機(jī)的可靠性。

技術(shù)特征：

1.一種電機(jī)定子，其特征在于，包括骨架和齒部鐵芯，所述骨架套設(shè)在所述齒部鐵芯的齒部單元上；

2.如權(quán)利要求1所述的電機(jī)定子，其特征在于，所述凸起設(shè)置在所述骨架的內(nèi)壁，所述凹槽設(shè)置在所述齒部單元的側(cè)壁，所述凸起與所述凹槽位置一一對應(yīng)。

3.如權(quán)利要求1所述的電機(jī)定子，其特征在于，所述凸起設(shè)置在所述齒部單元的側(cè)壁，所述凹槽設(shè)置在所述骨架的內(nèi)壁，所述凸起與所述凹槽位置一一對應(yīng)。

4.如權(quán)利要求2或3所述的電機(jī)定子，其特征在于，所述凸起設(shè)置在所述骨架的圍繞所述齒部單元的兩個(gè)內(nèi)側(cè)壁，或所述凸起設(shè)置在所述齒部單元的兩個(gè)側(cè)壁。

5.如權(quán)利要求2或3所述的電機(jī)定子，其特征在于，所述凸起設(shè)置在所述骨架的圍繞所述齒部單元的頂面或底面，或所述凸起設(shè)置在所述齒部單元的頂面或底面。

6.如權(quán)利要求4所述的電機(jī)定子，其特征在于，所述齒部單元為徑向?qū)ΨQ結(jié)構(gòu)，所述凹槽及所述凸起均包括兩組，兩組所述凹槽及所述凸起均關(guān)于所述齒部單元的徑向?qū)ΨQ軸對稱設(shè)置，且每組所述凹槽均包括若干凹槽單元，每組所述凸起均包括若干凸起單元。

7.如權(quán)利要求5所述的電機(jī)定子，其特征在于，所述齒部單元為軸向?qū)ΨQ結(jié)構(gòu)，所述凹槽及所述凸起均包括兩組，兩組所述凹槽及所述凸起均關(guān)于所述齒部單元的軸向?qū)ΨQ軸對稱設(shè)置，且每組所述凹槽均包括若干凹槽單元，每組所述凸起均包括若干凸起單元。

8.如權(quán)利要求6或7所述的電機(jī)定子，其特征在于，所述凹槽單元為半球體，且其直徑為d1，所述齒部單元的寬度為w，d1＝(0.06～0.07)w；

9.如權(quán)利要求1所述的電機(jī)定子，其特征在于，每個(gè)側(cè)壁上的所述凸起的數(shù)量均為多個(gè)，多個(gè)所述凸起在高度的方向上呈螺旋狀。

10.如權(quán)利要求8所述的電機(jī)定子，其特征在于，所述骨架上對應(yīng)所述齒部單元設(shè)有繞線槽，所述繞線槽的底壁設(shè)有至少一組嵌線槽，每組所述嵌線槽均包括若干嵌線槽單元，若干所述嵌線槽在所述骨架的高度方向上呈螺旋狀。

11.一種電機(jī)，其特征在于，包括權(quán)利要求1-10任一項(xiàng)所述的電機(jī)定子。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及電機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種電機(jī)定子及電機(jī)，所述電機(jī)定子包括骨架和齒部鐵芯，所述骨架套設(shè)在所述齒部鐵芯的齒部單元上；所述骨架的內(nèi)壁與所述齒部單元的側(cè)壁之間通過相配合的凹槽與凸起相連接，以防止所述齒部單元相對所述骨架移動(dòng)。本技術(shù)提供的電機(jī)定子及電機(jī)，通過在骨架的內(nèi)壁與齒部單元的側(cè)壁之間通過相配合的凹槽與凸起相連接，以防止齒部單元相對骨架移動(dòng)。從而實(shí)現(xiàn)了通過骨架對定子鐵芯的齒部單元進(jìn)行限位，避免了定子齒的移動(dòng)，保證了電機(jī)的可靠性。

技術(shù)研發(fā)人員：譚財(cái)勝,車禮超,冷傳靖,黃捷建,曹希
受保護(hù)的技術(shù)使用者：深圳市雷賽智能控制股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20231206
技術(shù)公布日：2024/12/26