技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
公開了一種電磁屏蔽(100)。電磁屏蔽(100)包括：基部(10)；和相對的凹部壁(20，30，40，50)，其相對于基部(10)延伸所在的平面以一角度從基部延伸，以便與基部(10)一起限定出凹部。至少一個凹部壁(20，30，40，50)可以被布置成使得其具有相對于基部(10)的遠側(cè)邊緣(60)，其中遠側(cè)邊緣包括圓柱部分(70)。替代地或另外地，至少一個凹部壁(20，30，40，50)可以被布置成使得其至少一部分相對于凹部向外或向內(nèi)彎曲。

技術(shù)研發(fā)人員：吳冬;倪晶;L·阿瑞瓦羅;R·蒙塔諾
受保護的技術(shù)使用者：ABB瑞士股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2014.11.05
技術(shù)公布日：2017.08.18