大馬士革一體化刻蝕機腔體和襯底部件的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及集成電路制造領(lǐng)域，特別涉及一種大馬士革一體化刻蝕機腔體和襯底部件。
【背景技術(shù)】
[0002]TEL Vigus機臺是世界最先進的大馬士革一體化刻蝕機，其具有三道復雜的制程(開孔-去膠-刻槽)在同一個反應腔體內(nèi)完成，產(chǎn)生的生成物復雜，尤其是TiN，難以通過分子栗完全排出腔體，大部分含TiN的生成物會粘附在腔體側(cè)壁和角落。
[0003]在每次PM(定時保養(yǎng))時，為了徹底清除腔體內(nèi)殘留的生成物，目前業(yè)界都是人工手動鏟除粘附在側(cè)壁和底部的生成物，尤其是TiN，粘性強，鏟除困難；而且由于腔體本身面積大，深度深，每次徹底清掃干凈需要兩個人力，2個工時左右；另外，長時間對側(cè)壁和腔體底部進行鏟除動作，會對側(cè)壁和底部涂層有損傷，對于像大馬士革一體化這樣精密的工藝來說，會有潛在的風險。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]本發(fā)明提供一種大馬士革一體化刻蝕機腔體和襯底部件，以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述技術(shù)問題。
[0005]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種大馬士革一體化刻蝕機腔體，包括:腔體本體、設置在所述腔體本體內(nèi)部的工藝組件以及設置于所述腔體本體內(nèi)且與所述腔體本體相匹配的襯底部件。
[0006]作為優(yōu)選，襯底部件采用金屬制成。
[0007]作為優(yōu)選，所述襯底部件包括襯底底部和與所述襯底底部一體式設置的襯底側(cè)部。
[0008]作為優(yōu)選，所述襯底側(cè)部設置有挖洞開口。
[0009]作為優(yōu)選，所述襯底部件與所述腔體本體間隙配合。
[0010]本發(fā)明還提供一種襯底部件，安裝于大馬士革一體化刻蝕機腔體的腔體本體中，并與腔體本體匹配。
[0011]作為優(yōu)選，所述襯底部件為采用金屬制成的桶狀結(jié)構(gòu)。
[0012]作為優(yōu)選，所述襯底部件包括襯底底部和與所述襯底底部一體式設置的襯底側(cè)部。
[0013]作為優(yōu)選，所述襯底側(cè)部設置有挖洞開口。
[0014]作為優(yōu)選，所述襯底部件與所述腔體本體間隙配合。
[0015]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供一種大馬士革一體化刻蝕機腔體，包括:腔體本體、設置在所述腔體本體內(nèi)部的工藝組件以及設置于所述腔體本體內(nèi)且與所述腔體本體相匹配的襯底部件。本發(fā)明還提供一種襯底部件，安裝于大馬士革一體化刻蝕機腔體的腔體本體中，并與腔體本體匹配。本發(fā)明通過在腔體本體內(nèi)增設襯底部件，可以保護腔體本體內(nèi)壁和底部，避免生成物粘附在腔體本體內(nèi)壁和底部，無需多個人力花費多個工時來。
[0016]S卩，本發(fā)明為了能節(jié)省人力，提高PM效率，縮短復機時間，并保護腔體本體內(nèi)部的工藝條件，設計一種加裝于大馬士革一體化刻蝕機腔體本體內(nèi)壁的金屬襯底部件，能夠阻擋生成物粘附在腔體本體側(cè)壁和底部，在每次PM時，只需取出這一部件進行外送清洗，節(jié)省人力和復機時間，而且能夠有效保護腔體不受損傷。
【附圖說明】
[0017]圖1為本發(fā)明一【具體實施方式】中大馬士革一體化刻蝕機腔體的結(jié)構(gòu)示意圖(帶有襯底部件)；
[0018]圖2為本發(fā)明一【具體實施方式】中大馬士革一體化刻蝕機腔體的結(jié)構(gòu)示意圖(生成物粘附在襯底部件上)；
[0019]圖3為本發(fā)明一【具體實施方式】中大馬士革一體化刻蝕機腔體的結(jié)構(gòu)示意圖(取下帶有生成物的襯底部件)；
[0020]圖4為本發(fā)明一【具體實施方式】中大馬士革一體化刻蝕機腔體的襯底部件的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021]圖5為本發(fā)明一【具體實施方式】中大馬士革一體化刻蝕機腔體的襯底部件的側(cè)視圖。
[0022]圖中所示:10_腔體本體、20-襯底部件、30-生成物；
[0023]210-襯底底部、220-襯底側(cè)部、230-挖洞開口。
【具體實施方式】
[0024]為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的【具體實施方式】做詳細的說明。需說明的是，本發(fā)明附圖均采用簡化的形式且均使用非精準的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本發(fā)明實施例的目的。
[0025]如圖1至圖5所示，本發(fā)明提供一種大馬士革一體化刻蝕機腔體，包括:腔體本體10、設置在所述腔體本體10內(nèi)部的工藝組件以及設置于所述腔體本體10內(nèi)且與所述腔體本體10相匹配的襯底部件20。所述工藝組件用于進行大馬士革一體化刻蝕工藝，即依次在腔體本體10內(nèi)執(zhí)行開孔-去膠-刻槽步驟。
[0026]作為優(yōu)選，襯底部件20采用金屬制成的桶狀結(jié)構(gòu)，即其將腔體本體10的內(nèi)壁和側(cè)壁同時遮擋住，避免生成物直接粘附在腔體本體10的內(nèi)壁上。
[0027]請重點參照圖4和5，所述襯底部件20包括襯底底部210和與所述襯底底部210一體式設置的襯底側(cè)部220。襯底底部210用于遮擋腔體本體10的底部，所述襯底側(cè)部220用于遮擋腔體本體10的側(cè)壁。
[0028]作為優(yōu)選，所述襯底側(cè)部220設置有挖洞開口 230，所述挖洞開口 230與腔體本體10中的尾氣排放口對應，其作用在于:結(jié)合腔體本體10原來的尾氣排放口，實現(xiàn)尾氣排出。
[0029]作為優(yōu)選，所述襯底部件20與所述腔體本體10間隙配合，方便后續(xù)將帶有生成物30的襯底部件20取出，取出的襯底部件20可以直接外送清洗，進一步的，所述襯底部件20可以設置多組，采用循環(huán)清洗更換的方式進行管控，可以進一步延長大馬士革一體化刻蝕機腔體的壽命。
[0030]請重點參照圖4和圖5，本發(fā)明還提供一種襯底部件20，安裝于大馬士革一體化刻蝕機腔體的腔體本體10中，并與腔體本體10匹配。所述襯底部件20的結(jié)構(gòu)簡單，且放置在腔體本體10中時可以有效遮擋生成物30，避免難以清洗的生成物30堆積在腔體本體10中。
[0031]作為優(yōu)選，所述襯底部件20為采用金屬制成的桶狀結(jié)構(gòu)。
[0032]作為優(yōu)選，所述襯底部件20包括襯底底部210和與所述襯底底部210 —體式設置的襯底側(cè)部220。
[0033]作為優(yōu)選，所述襯底側(cè)部220設置有挖洞開口 230。
[0034]作為優(yōu)選，所述襯底部件20與所述腔體本體10間隙配合，方便后續(xù)將帶有生成物30的襯底部件20取出，取出的襯底部件20可以直接外送清洗，進一步的，所述襯底部件20可以設置多組，采用循環(huán)清洗更換的方式進行管控，可以進一步延長大馬士革一體化刻蝕機腔體的壽命。
[0035]綜上所述，本發(fā)明提供一種大馬士革一體化刻蝕機腔體，包括:腔體本體10、設置在所述腔體本體10內(nèi)部的工藝組件以及設置于所述腔體本體10相匹配的襯底部件20。本發(fā)明還提供一種襯底部件20，安裝于大馬士革一體化刻蝕機腔體的腔體本體10中，并與腔體本體10匹配。本發(fā)明通過在腔體本體10內(nèi)增設襯底部件20，可以保護腔體本體10內(nèi)壁和底部，避免生成物30粘附在腔體本體10內(nèi)壁和底部，無需多個人力花費多個工時來鏟除粘附在側(cè)壁和底部的生成物。
[0036]S卩，本發(fā)明為了能節(jié)省人力，提高PM效率，縮短復機時間，并保護腔體本體10內(nèi)部的工藝條件，設計一種加裝于大馬士革一體化刻蝕機腔體內(nèi)壁的金屬制備的襯底部件20，能夠阻擋生成物30粘附在腔體本體10的側(cè)壁和底部，在每次PM時，只需取出這一部件進行外送清洗，節(jié)省人力和復機時間，而且能夠有效保護腔體不受損傷。
[0037]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包括這些改動和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種大馬士革一體化刻蝕機腔體，其特征在于，包括:腔體本體、設置在所述腔體本體內(nèi)部的工藝組件以及設置于所述腔體本體內(nèi)且與所述腔體本體相匹配的襯底部件。2.如權(quán)利要求1所述的大馬士革一體化刻蝕機腔體，其特征在于，所述襯底部件采用金屬制成。3.如權(quán)利要求1所述的大馬士革一體化刻蝕機腔體，其特征在于，所述襯底部件包括襯底底部和與所述襯底底部一體式設置的襯底側(cè)部。4.如權(quán)利要求3所述的大馬士革一體化刻蝕機腔體，其特征在于，所述襯底側(cè)部設置有挖洞開口。5.如權(quán)利要求1所述的大馬士革一體化刻蝕機腔體，其特征在于，所述襯底部件與所述腔體本體間隙配合。6.一種襯底部件，其特征在于，安裝于大馬士革一體化刻蝕機腔體的腔體本體中，并與腔體本體匹配。7.如權(quán)利要求6所述的襯底部件，其特征在于，所述襯底部件為采用金屬制成的桶狀結(jié)構(gòu)。8.如權(quán)利要求6所述的襯底部件，其特征在于，所述襯底部件包括襯底底部和與所述襯底底部一體式設置的襯底側(cè)部。9.如權(quán)利要求8所述的襯底部件，其特征在于，所述襯底側(cè)部設置有挖洞開口。10.如權(quán)利要求6所述的襯底部件，其特征在于，所述襯底部件與所述腔體本體間隙配入口 ο
【專利摘要】本發(fā)明公開了大馬士革一體化刻蝕機腔體，包括：腔體本體、設置在所述腔體本體內(nèi)部的工藝組件以及設置于所述腔體本體內(nèi)且與所述腔體本體相匹配的襯底部件。本發(fā)明還提供一種襯底部件，安裝于大馬士革一體化刻蝕機腔體的腔體本體中，并與腔體本體匹配。本發(fā)明通過在腔體本體內(nèi)增設襯底部件，可以保護腔體本體內(nèi)壁和底部，避免生成物粘附在腔體本體內(nèi)壁和底部，無需多個人力花費多個工時來鏟除粘附在側(cè)壁和底部的生成物。
【IPC分類】H01J37/32
【公開號】CN105321794
【申請?zhí)枴緾N201510680502
【發(fā)明人】湯介峰, 潘無忌, 劉東升, 呂煜坤, 朱駿, 張旭升
【申請人】上海華力微電子有限公司
【公開日】2016年2月10日
【申請日】2015年10月19日