本技術(shù)涉及滅弧室,具體為真空滅弧室用屏蔽筒。
背景技術(shù):
1、真空滅弧室是指用于高壓電氣設(shè)備中的一種裝置,用于滅除高壓開關(guān)中產(chǎn)生的電弧。在電氣設(shè)備中,當斷開或連接電路時,可能會產(chǎn)生電弧。為了確保電氣設(shè)備的安全和可靠運行,需要及時滅除這些電弧。真空滅弧室是一種常見的用于此目的設(shè)備。
2、真空滅弧室通過在其內(nèi)部創(chuàng)造真空環(huán)境,使得電弧能夠迅速被撲滅。這種裝置通常由高壓電氣設(shè)備的一部分,例如斷路器,通常用于輸電系統(tǒng)、變電站以及工業(yè)領(lǐng)域中的其他電氣設(shè)備中。
3、屏蔽筒通常指的是真空滅弧室中的一個部件,用于控制和引導(dǎo)電弧。在真空滅弧室中,當電弧產(chǎn)生時,屏蔽筒可以幫助將電弧引導(dǎo)到合適的位置,以確保電弧被有效地撲滅。
4、現(xiàn)有屏蔽筒通常通過螺栓、焊接或其他固定方法固定在真空滅弧室的內(nèi)部結(jié)構(gòu)上,但是在真空滅弧室中,由于電弧滅弧過程可能產(chǎn)生高溫,而后期設(shè)備冷卻時溫度會下降,這種溫度變化可能導(dǎo)致焊接部分或螺栓連接處的熱脹冷縮,從而引起連接部分的松動或裂紋;因此,不滿足現(xiàn)有的需求,對此我們提出了真空滅弧室用屏蔽筒。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本實用新型提供了真空滅弧室用屏蔽筒,具備的能夠自適應(yīng)性地調(diào)整屏蔽筒本體的位置,適應(yīng)溫度變化,從而確保了連接部分的穩(wěn)定性有益效果,解決了上述背景技術(shù)中所提到在真空滅弧室中,由于電弧滅弧過程可能產(chǎn)生高溫,而后期設(shè)備冷卻時溫度會下降,這種溫度變化可能導(dǎo)致焊接部分或螺栓連接處的熱脹冷縮,從而引起連接部分的松動或裂紋的問題。
2、本實用新型提供如下技術(shù)方案:真空滅弧室用屏蔽筒,包括外殼、屏蔽筒本體,所述屏蔽筒本體設(shè)置在所述外殼內(nèi),所述外殼與所述屏蔽筒本體之間設(shè)置有固定組件;
3、所述固定組件包括開設(shè)在所述外殼內(nèi)的與所述屏蔽筒本體相對應(yīng)的環(huán)形凹槽,所述屏蔽筒本體安裝在所述環(huán)形凹槽內(nèi),所述環(huán)形凹槽內(nèi)安裝有若干限位桿,所述限位桿上套設(shè)有緩沖彈簧,所述緩沖彈簧端部連接有緩沖板,所述緩沖板與所述屏蔽筒本體外壁貼合。
4、作為本實用新型所述的真空滅弧室用屏蔽筒可選方案,其中:所述固定組件還包括設(shè)置在所述環(huán)形凹槽內(nèi)的第一齒條,所述第一齒條位于所述緩沖板上側(cè),所述屏蔽筒本體上設(shè)置有與所述第一齒條相對應(yīng)的第二齒條,所述第一齒條與所述第二齒條嚙合。
5、作為本實用新型所述的真空滅弧室用屏蔽筒可選方案,其中:所述第一齒條的寬度與所述環(huán)形凹槽的槽深相對應(yīng),所述第二齒條的寬度與所述屏蔽筒的壁厚相對應(yīng)。
6、作為本實用新型所述的真空滅弧室用屏蔽筒可選方案,其中:所述緩沖板內(nèi)開設(shè)有插槽,所述屏蔽筒本體外固定安裝有與所述插槽相對應(yīng)的插桿,所述限位桿與所述插槽插接。
7、作為本實用新型所述的真空滅弧室用屏蔽筒可選方案,其中:所述緩沖板的高度小于所述屏蔽筒本體的高度,所述屏蔽筒本體內(nèi)開設(shè)有嵌槽,所述嵌槽內(nèi)設(shè)置有彈片,所述彈片位于所述限位桿底側(cè)。
8、作為本實用新型所述的真空滅弧室用屏蔽筒可選方案,其中:所述彈片遠離所述插桿的一端固定安裝在所述嵌槽內(nèi),所述彈片靠近所述插桿一端向所述屏蔽筒本體外側(cè)翹起。
9、作為本實用新型所述的真空滅弧室用屏蔽筒可選方案,其中:所述彈片的數(shù)量與所述緩沖板的數(shù)量相對應(yīng),且所述彈片的厚度小于所述嵌槽的槽深。
10、本實用新型具備以下有益效果:
11、1、該真空滅弧室用屏蔽筒,通過緩沖彈簧和緩沖板的設(shè)計,使得有助于保護連接部分不受外部力的影響,減少了連接部件受到的應(yīng)力和振動,延長了其使用壽命,第一齒條和第二齒條能夠自適應(yīng)性地調(diào)整屏蔽筒本體的位置,適應(yīng)溫度變化,從而確保了連接部分的穩(wěn)定性,避免了可能導(dǎo)致松動或裂紋的熱脹冷縮問題,通過固定組件的設(shè)計,可以降低連接部分的故障率,并減少對連接部分的維護需求。
12、2、該真空滅弧室用屏蔽筒,通過在屏蔽筒本體內(nèi)設(shè)置嵌槽和安裝彈片,并使彈片翹起,可以進一步增強連接部分的穩(wěn)固性當發(fā)生熱脹冷縮時,彈片的柔性作用可以自適應(yīng)地調(diào)整連接部分的位置,確保連接的緊固力和穩(wěn)定性。
1.真空滅弧室用屏蔽筒,包括外殼(100)、屏蔽筒本體(200)其特征在于:所述屏蔽筒本體(200)設(shè)置在所述外殼(100)內(nèi),所述外殼(100)與所述屏蔽筒本體(200)之間設(shè)置有固定組件(300);
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空滅弧室用屏蔽筒,其特征在于:所述固定組件(300)還包括設(shè)置在所述環(huán)形凹槽(310)內(nèi)的第一齒條(311),所述第一齒條(311)位于所述緩沖板(330)上側(cè),所述屏蔽筒本體(200)上設(shè)置有與所述第一齒條(311)相對應(yīng)的第二齒條(210),所述第一齒條(311)與所述第二齒條(210)嚙合。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空滅弧室用屏蔽筒,其特征在于:所述第一齒條(311)的寬度與所述環(huán)形凹槽(310)的槽深相對應(yīng),所述第二齒條(210)的寬度與所述屏蔽筒本體(200)的壁厚相對應(yīng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空滅弧室用屏蔽筒,其特征在于:所述緩沖板(330)內(nèi)開設(shè)有插槽(331),所述屏蔽筒本體(200)外固定安裝有與所述插槽(331)相對應(yīng)的插桿(320),所述插桿(320)與所述插槽(331)插接。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空滅弧室用屏蔽筒,其特征在于:所述緩沖板(330)的高度小于所述屏蔽筒本體(200)的高度,所述屏蔽筒本體(200)內(nèi)開設(shè)有嵌槽(340),所述嵌槽(340)內(nèi)設(shè)置有彈片(341),所述彈片(341)位于所述插桿(320)底側(cè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空滅弧室用屏蔽筒,其特征在于:所述彈片(341)遠離所述插桿(320)的一端固定安裝在所述嵌槽(340)內(nèi),所述彈片(341)靠近所述插桿(320)一端向所述屏蔽筒本體(200)外側(cè)翹起。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空滅弧室用屏蔽筒,其特征在于:所述彈片(341)的數(shù)量與所述緩沖板(330)的數(shù)量相對應(yīng),且所述彈片(341)的厚度小于所述嵌槽(340)的槽深。