本技術(shù)涉及半導(dǎo)體清洗，尤其涉及一種半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)是現(xiàn)代電子工業(yè)的核心，而半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)是硅材料工業(yè)，晶圓的原始材料是硅，晶圓表面的污染物會(huì)嚴(yán)重影響器件的性能、可靠性、和成品率，隨著微電子技術(shù)的飛速發(fā)展以及人們要求的提高，污染物對(duì)器件的影響也愈加突出。

2、在晶圓的工藝制造過(guò)程中,不可避免遭到塵埃、金屬、有機(jī)物和無(wú)機(jī)物的污染，這些污染很容易造成其表面缺陷及孔內(nèi)污垢,產(chǎn)生發(fā)射點(diǎn)、黑點(diǎn)、暗斑等,導(dǎo)致晶圓的良品率下降,使得晶圓的質(zhì)量不穩(wěn)定以至失效，因此在晶圓的制造過(guò)程中去除晶圓表面的污染物十分重要。

3、但是現(xiàn)有半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備組成機(jī)構(gòu)較為簡(jiǎn)單，清洗設(shè)備不方便進(jìn)行維護(hù)清理，從而影響清洗設(shè)備的維護(hù)效率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的是為了解決現(xiàn)有技術(shù)中半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備組成機(jī)構(gòu)較為簡(jiǎn)單，清洗設(shè)備不方便進(jìn)行維護(hù)清理的問(wèn)題，而提出的一種半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備。

2、為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用了如下技術(shù)方案：

3、一種半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，包括清洗箱，所述清洗箱的一端頂部固定連接有支撐塊，所述支撐塊的頂部固定連接有伸縮氣缸，所述伸縮氣缸的輸出端固定連接有安裝架，所述安裝架遠(yuǎn)離伸縮氣缸的一端固定連接有蓋板，所述蓋板的頂部固定連接有供水模塊，所述蓋板的底部固定連接有多個(gè)清洗管，所述供水模塊通過(guò)導(dǎo)管與多個(gè)清洗管連通，所述蓋板的底部固定連接有電機(jī)，所述電機(jī)的輸出端固定連接有轉(zhuǎn)桿，所述轉(zhuǎn)桿的底部固定連接有轉(zhuǎn)盤，所述轉(zhuǎn)盤的頂部設(shè)有多個(gè)放置槽，所述放置槽的內(nèi)底部固定插設(shè)有柵格板，所述清洗箱的內(nèi)底部固定插設(shè)有出水管，所述出水管上螺紋連接有出水閥門。

4、優(yōu)選地，所述清洗箱的底部固定連接有多個(gè)支撐腳，所述支撐腳上設(shè)有多個(gè)緊固口。

5、優(yōu)選地，所述蓋板靠近支撐塊一端的底部固定插設(shè)有滑桿，所述清洗箱上設(shè)有與滑桿對(duì)應(yīng)的滑腔，所述滑桿位于滑腔內(nèi)的一端固定連接有限位塊。

6、優(yōu)選地，所述清洗管的底部固定套接有噴霧頭。

7、優(yōu)選地，所述清洗箱靠近供水模塊一端的頂部固定嵌設(shè)有阻尼減震器，所述阻尼減震器的頂部與蓋板底部相抵。

8、優(yōu)選地，所述轉(zhuǎn)盤的底部固定連接有多個(gè)導(dǎo)向塊，所述清洗箱的內(nèi)底部設(shè)有與導(dǎo)向塊對(duì)應(yīng)的環(huán)形導(dǎo)軌。

9、有益效果：

10、1.本實(shí)用新型中通過(guò)升降清理機(jī)構(gòu)的設(shè)置，使晶圓清洗設(shè)備可以方便進(jìn)行維護(hù)，從而有效提升了晶圓清洗設(shè)備的維護(hù)效率；

11、2.通過(guò)將晶圓放入轉(zhuǎn)盤上的安裝槽內(nèi)，然后蓋上蓋板，啟動(dòng)電機(jī)帶動(dòng)轉(zhuǎn)盤進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)，并啟動(dòng)供水模塊通過(guò)清洗管對(duì)晶圓進(jìn)行清洗，當(dāng)需要對(duì)設(shè)備進(jìn)行清理維護(hù)時(shí)，啟動(dòng)伸縮氣缸帶動(dòng)蓋板向上移動(dòng)，從而將轉(zhuǎn)盤從清洗箱內(nèi)帶出，然后對(duì)清洗箱以及轉(zhuǎn)盤進(jìn)行清理即可。

技術(shù)特征：

1.一種半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，包括清洗箱(1)，其特征在于：所述清洗箱(1)的一端頂部固定連接有支撐塊(2)，所述支撐塊(2)的頂部固定連接有伸縮氣缸(3)，所述伸縮氣缸(3)的輸出端固定連接有安裝架(4)，所述安裝架(4)遠(yuǎn)離伸縮氣缸(3)的一端固定連接有蓋板(5)，所述蓋板(5)的頂部固定連接有供水模塊(6)，所述蓋板(5)的底部固定連接有多個(gè)清洗管(7)，所述供水模塊(6)通過(guò)導(dǎo)管(20)與多個(gè)清洗管(7)連通，所述蓋板(5)的底部固定連接有電機(jī)(8)，所述電機(jī)(8)的輸出端固定連接有轉(zhuǎn)桿(9)，所述轉(zhuǎn)桿(9)的底部固定連接有轉(zhuǎn)盤(10)，所述轉(zhuǎn)盤(10)的頂部設(shè)有多個(gè)放置槽，所述放置槽的內(nèi)底部固定插設(shè)有柵格板(11)，所述清洗箱(1)的內(nèi)底部固定插設(shè)有出水管(12)，所述出水管(12)上螺紋連接有出水閥門(13)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其特征在于：所述清洗箱(1)的底部固定連接有多個(gè)支撐腳(14)，所述支撐腳(14)上設(shè)有多個(gè)緊固口。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其特征在于：所述蓋板(5)靠近支撐塊(2)一端的底部固定插設(shè)有滑桿(15)，所述清洗箱(1)上設(shè)有與滑桿(15)對(duì)應(yīng)的滑腔，所述滑桿(15)位于滑腔內(nèi)的一端固定連接有限位塊(16)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其特征在于：所述清洗管(7)的底部固定套接有噴霧頭(17)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其特征在于：所述清洗箱(1)靠近供水模塊(6)一端的頂部固定嵌設(shè)有阻尼減震器(18)，所述阻尼減震器(18)的頂部與蓋板(5)底部相抵。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其特征在于：所述轉(zhuǎn)盤(10)的底部固定連接有多個(gè)導(dǎo)向塊(19)，所述清洗箱的內(nèi)底部設(shè)有與導(dǎo)向塊(19)對(duì)應(yīng)的環(huán)形導(dǎo)軌。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開(kāi)了一種半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，包括清洗箱，所述清洗箱的一端頂部固定連接有支撐塊，所述支撐塊的頂部固定連接有伸縮氣缸，所述伸縮氣缸的輸出端固定連接有安裝架，所述安裝架遠(yuǎn)離伸縮氣缸的一端固定連接有蓋板，所述蓋板的頂部固定連接有供水模塊，所述蓋板的底部固定連接有多個(gè)清洗管，所述供水模塊通過(guò)導(dǎo)管與多個(gè)清洗管連通，所述蓋板的底部固定連接有電機(jī)，所述電機(jī)的輸出端固定連接有轉(zhuǎn)桿，所述轉(zhuǎn)桿的底部固定連接有轉(zhuǎn)盤。本技術(shù)通過(guò)升降清理機(jī)構(gòu)的設(shè)置，使晶圓清洗設(shè)備可以方便進(jìn)行維護(hù)，從而有效提升了晶圓清洗設(shè)備的維護(hù)效率。

技術(shù)研發(fā)人員：毛業(yè)成,朱介山,劉鵬,呂震宇,朱守貴
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海立赫半導(dǎo)體有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240506
技術(shù)公布日：2025/1/9