欧美在线观看视频网站,亚洲熟妇色自偷自拍另类,啪啪伊人网,中文字幕第13亚洲另类,中文成人久久久久影院免费观看 ,精品人妻人人做人人爽,亚洲a视频

異質(zhì)結(jié)電池及其制作方法與流程

文檔序號:40433160發(fā)布日期:2024-12-24 15:06閱讀:14來源:國知局
異質(zhì)結(jié)電池及其制作方法與流程

本申請涉及光伏,具體而言,涉及一種異質(zhì)結(jié)電池及其制作方法。


背景技術(shù):

1、隨著高效電池組件技術(shù)的發(fā)展,異質(zhì)結(jié)電池(hjt)成為光伏行業(yè)主流發(fā)展趨勢,同時(shí),由于其無光衰、雙面率高、低溫工藝、轉(zhuǎn)換效率高和低溫度系數(shù)等諸多優(yōu)點(diǎn)已經(jīng)被行業(yè)公認(rèn)為下一代量產(chǎn)光伏電池技術(shù),具有極大的市場前景。相關(guān)技術(shù)中的硅異質(zhì)結(jié)電池包含硅片層以及在硅片層兩側(cè)依次沉積的本征硅層、摻雜硅層以及透明導(dǎo)電層。透明導(dǎo)電層用于收集光生載流子并將其輸送到金屬電極上。

2、但是,發(fā)明人發(fā)現(xiàn),相關(guān)技術(shù)中的異質(zhì)結(jié)電池在本征硅層與p型摻雜硅層之間存在較大的導(dǎo)帶偏移,使得呈現(xiàn)出較為明顯的能帶不連續(xù)性。這導(dǎo)致電池的填充因子較低、空穴載流子遷移率較低。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本申請的目的包括提供一種異質(zhì)結(jié)電池及其制作方法,其能夠顯著提升電池的填充因子和載流子遷移率。

2、本申請的實(shí)施例可以這樣實(shí)現(xiàn):

3、第一方面,本申請?zhí)峁┮环N異質(zhì)結(jié)電池,包括依次層疊設(shè)置的第一透明導(dǎo)電層、n型摻雜硅層、第一本征硅層、硅片層、第二本征硅層、氧化層、p型摻雜硅層以及第二透明導(dǎo)電層,異質(zhì)結(jié)電池還包括第一電極和第二電極,第一電極設(shè)置于第一透明導(dǎo)電層,第二電極設(shè)置于第二透明導(dǎo)電層,其中,氧化層包括p型氧化硅層,氧化層的厚度為0.5~2.5nm。

4、在可選的實(shí)施方式中,氧化層還包括無摻雜氧化硅層,無摻雜氧化硅層與p型氧化硅層層疊設(shè)置,無摻雜氧化硅層與第二本征硅層相連,p型氧化硅層與p型摻雜硅層相連。

5、在可選的實(shí)施方式中,硅片層朝向第二本征硅層的一面為經(jīng)平整化處理后的絨面,且絨面的金字塔底角為10°~35°。

6、在可選的實(shí)施方式中,第一本征硅層、第二本征硅層的材質(zhì)為氫化非晶硅、氫化非晶碳化硅、氫化非晶氧化硅或氫化微晶硅。

7、在可選的實(shí)施方式中,n型摻雜硅層和p型摻雜硅層為氫化非晶結(jié)構(gòu)或氫化微晶結(jié)構(gòu)。

8、在可選的實(shí)施方式中,p型氧化硅層為摻硼氧化硅。

9、在可選的實(shí)施方式中,硅片層的厚度為80~180μm;

10、第一本征硅層和第二本征硅層的厚度為5~15nm;

11、n型摻雜硅層和p型摻雜硅層的厚度為20~60nm;

12、第一透明導(dǎo)電層的厚度為70~150nm,第二透明導(dǎo)電層的厚度為80~180nm,且第二透明導(dǎo)電層的厚度大于第一透明導(dǎo)電層的厚度。

13、第二方面,本申請?zhí)峁┣笆鰧?shí)施方式中任一項(xiàng)的異質(zhì)結(jié)電池的制作方法,包括:

14、在硅片層的正面和背面進(jìn)行制絨;

15、在硅片層的正面沉積第一本征硅層,在硅片層的背面沉積第二本征硅層;

16、利用b2h6氣體和sih4氣體,在第二本征硅層上沉積氧化層;

17、在第一本征硅層上沉積n型摻雜硅層,在氧化層上沉積p型摻雜硅層;

18、在n型摻雜硅層上沉積第一透明導(dǎo)電層,在p型摻雜硅層上沉積第二透明導(dǎo)電層;

19、在第一透明導(dǎo)電層上制作第一電極,在第二透明導(dǎo)電層上制作第二電極。

20、在可選的實(shí)施方式中,利用b2h6氣體和sih4氣體,在第二本征硅層上沉積氧化層的步驟,包括:

21、在第二本征硅層上使用sih4氣體和n2o氣體沉積無摻雜氧化硅層;

22、在無摻雜氧化硅層上使用sih4氣體、b2h6氣體和n2o氣體沉積p型氧化硅層;

23、使用氫等離子處理工藝對無摻雜氧化硅層和p型氧化硅層進(jìn)行氫鈍化。

24、在可選的實(shí)施方式中,無摻雜氧化硅層和p型氧化硅層均采用甚高頻等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積工藝沉積得到,并且,在沉積過程中反應(yīng)腔室的壓力不大于10-3pa,第二本征硅層的溫度為160~200℃。

25、在可選的實(shí)施方式中,在沉積無摻雜氧化硅層之前,向反應(yīng)腔室通入h2和sih4氣體,持續(xù)5~25s。

26、在可選的實(shí)施方式中,在硅片層的正面和背面進(jìn)行制絨的步驟,包括:

27、采用包含堿溶液與雙氧水的預(yù)清洗溶液對硅片層進(jìn)行預(yù)清洗;

28、采用制絨液對硅片層的正面和背面進(jìn)行制絨,以使硅片層的正面和背面形成絨面;

29、清洗硅片層,采用拋光液對硅片層的背面進(jìn)行平整化處理,以使硅片層背面的絨面的金字塔底角降低至10°~35°;

30、對硅片層進(jìn)行清洗。

31、本申請實(shí)施例提供的異質(zhì)結(jié)電池及其制作方法的有益效果包括:

32、本申請?zhí)峁┑漠愘|(zhì)結(jié)電池包括依次層疊設(shè)置的第一透明導(dǎo)電層、n型摻雜硅層、第一本征硅層、硅片層、第二本征硅層、氧化層、p型摻雜硅層以及第二透明導(dǎo)電層,異質(zhì)結(jié)電池還包括第一電極和第二電極,第一電極設(shè)置于第一透明導(dǎo)電層,第二電極設(shè)置于第二透明導(dǎo)電層,其中,氧化層包括p型氧化硅層,氧化層的厚度為0.5~2.5nm。通過在第二本征硅層和p型摻雜硅層之間插入p型氧化硅層,所形成的能帶結(jié)構(gòu)會將大的導(dǎo)帶偏移分解為兩個(gè)較小的導(dǎo)帶偏移,從而減少能帶不連續(xù)性,提升電池的填充因子。同時(shí),由于提供了隧穿途徑,因此能夠提升空穴載流子遷移率。本申請中的氧化層通過p型摻雜的超薄氧化硅實(shí)現(xiàn)(氧化層總厚度為0.5~2.5nm),降低串聯(lián)電阻,從而提高整體的光電轉(zhuǎn)換效率;調(diào)整摻雜濃度可以改變界面處的能帶匹配與微觀結(jié)構(gòu),降低界面態(tài)密度的同時(shí)提升內(nèi)電場強(qiáng)度,提升電池片效率。

33、本申請實(shí)施例提供的異質(zhì)結(jié)電池的制作方法可用于制作上述的異質(zhì)結(jié)電池。



技術(shù)特征:

1.一種異質(zhì)結(jié)電池,其特征在于,包括依次層疊設(shè)置的第一透明導(dǎo)電層、n型摻雜硅層、第一本征硅層、硅片層、第二本征硅層、氧化層、p型摻雜硅層以及第二透明導(dǎo)電層,異質(zhì)結(jié)電池還包括第一電極和第二電極,所述第一電極設(shè)置于第一透明導(dǎo)電層,第二電極設(shè)置于第二透明導(dǎo)電層,其中,所述氧化層包括p型氧化硅層,所述氧化層的厚度為0.5~2.5nm。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異質(zhì)結(jié)電池,其特征在于,所述氧化層還包括無摻雜氧化硅層,所述無摻雜氧化硅層與所述p型氧化硅層層疊設(shè)置,所述無摻雜氧化硅層與所述第二本征硅層相連,所述p型氧化硅層與所述p型摻雜硅層相連。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異質(zhì)結(jié)電池,其特征在于,所述硅片層朝向所述第二本征硅層的一面為經(jīng)平整化處理后的絨面,且所述絨面的金字塔底角為10°~35°。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異質(zhì)結(jié)電池,其特征在于,所述第一本征硅層、所述第二本征硅層的材質(zhì)為氫化非晶硅、氫化非晶碳化硅、氫化非晶氧化硅或氫化微晶硅。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異質(zhì)結(jié)電池,其特征在于,所述n型摻雜硅層和所述p型摻雜硅層為氫化非晶結(jié)構(gòu)或氫化微晶結(jié)構(gòu)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異質(zhì)結(jié)電池,其特征在于,所述p型氧化硅層為摻硼氧化硅。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的異質(zhì)結(jié)電池,其特征在于,所述硅片層的厚度為80~180μm;

8.權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的異質(zhì)結(jié)電池的制作方法,其特征在于,包括:

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的異質(zhì)結(jié)電池的制作方法,其特征在于,利用b2h6氣體和sih4氣體,在所述第二本征硅層上沉積氧化層的步驟,包括:

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的異質(zhì)結(jié)電池的制作方法,其特征在于,所述無摻雜氧化硅層和所述p型氧化硅層均采用甚高頻等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積工藝沉積得到,并且,在沉積過程中反應(yīng)腔室的壓力不大于10-3pa,所述第二本征硅層的溫度為160~200℃。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的異質(zhì)結(jié)電池的制作方法,其特征在于,在沉積所述無摻雜氧化硅層之前,向反應(yīng)腔室通入h2和sih4氣體,持續(xù)5~25s。

12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的異質(zhì)結(jié)電池的制作方法,其特征在于,在硅片層的正面和背面進(jìn)行制絨的步驟,包括:


技術(shù)總結(jié)
本申請公開了一種異質(zhì)結(jié)電池及其制作方法,涉及光伏技術(shù)領(lǐng)域。異質(zhì)結(jié)電池包括依次層疊設(shè)置的第一透明導(dǎo)電層、n型摻雜硅層、第一本征硅層、硅片層、第二本征硅層、氧化層、p型摻雜硅層以及第二透明導(dǎo)電層,異質(zhì)結(jié)電池還包括第一電極和第二電極,第一電極設(shè)置于第一透明導(dǎo)電層,第二電極設(shè)置于第二透明導(dǎo)電層,其中,氧化層包括p型氧化硅層,氧化層的厚度為0.5~2.5nm。通過在第二本征硅層和p型摻雜硅層之間插入p型氧化硅層,能夠減少能帶不連續(xù)性,提升電池的填充因子。同時(shí),由于提供了隧穿途徑,因此能夠提升空穴載流子遷移率。

技術(shù)研發(fā)人員:沈琪琳,李賀杰,豐平
受保護(hù)的技術(shù)使用者:中潤新能源(滁州)有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2024/12/23
網(wǎng)友詢問留言 已有0條留言
  • 還沒有人留言評論。精彩留言會獲得點(diǎn)贊!
1
绥芬河市| 靖宇县| 随州市| 台东市| 高密市| 蒲城县| 黄平县| 安宁市| 乌鲁木齐县| 神农架林区| 荣成市| 白银市| 娄烦县| 盐亭县| 临安市| 哈尔滨市| 庆阳市| 庄浪县| 营山县| 疏附县| 台湾省| 子长县| 沂源县| 祁门县| 方正县| 丹阳市| 乳源| 台山市| 凤山县| 浦北县| 墨脱县| 吉水县| 楚雄市| 蓬莱市| 荔波县| 麟游县| 安仁县| 盐亭县| 黑龙江省| 贺兰县| 万山特区|