本發(fā)明涉及碳化硅晶片清洗，尤其涉及一種碳化硅晶片制備用清洗裝置。

背景技術(shù)：

1、碳化硅晶片清洗工藝是半導(dǎo)體制備過程中不可或缺的一部分，在碳化硅晶片切割成型后，由于碳化硅晶片表面會殘留金屬顆粒、膠體和潤滑油等雜質(zhì)，因此需要對碳化硅晶片進行多次不同形式的清洗，一般將若干個碳化硅晶片固定在清洗框內(nèi)，然后將清洗框依次置入不同的清洗池內(nèi)，對清洗框內(nèi)的碳化硅晶片進行清潔。

2、現(xiàn)有的碳化硅晶片在進行清洗時，由于碳化硅晶片需要進行固定，因此碳化硅晶片的固定處會被不同形式的夾緊結(jié)構(gòu)包裹，這就導(dǎo)致碳化硅晶片的夾緊處無法與清洗池內(nèi)的溶液直接接觸，從而導(dǎo)致化硅晶片夾緊處清洗力度不足，致使其上污染物殘留，進而對碳化硅晶片的質(zhì)量造成影響。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、為了克服上述背景技術(shù)中所指出的缺點，本發(fā)明提供了一種碳化硅晶片制備用清洗裝置。

2、為解決上述的技術(shù)問題，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：一種碳化硅晶片制備用清洗裝置，包括有工作臺，所述工作臺設(shè)置有直線陣列分布的清洗池和一個水池，所述工作臺安裝有機械臂，所述機械臂安裝有盛放盒，所述盛放盒內(nèi)固接有兩組直線陣列分布的彈性伸縮桿，兩組所述彈性伸縮桿呈對稱分布，所述彈性伸縮桿的伸縮端固接有連接架，所述連接架設(shè)置有滑槽，同組直線陣列分布的所述滑槽內(nèi)共同滑動連接有連接桿，所述連接桿與所述盛放盒滑動連接，所述連接桿與所述盛放盒之間固接有彈性件，所述連接桿遠離所述盛放盒的一端固接有阻力板，所述連接架遠離相鄰所述彈性伸縮桿的一側(cè)固接有夾具一，所述夾具一滑動連接有夾具二，所述夾具二與相鄰所述夾具一之間固接有彈性件。

3、作為更進一步的優(yōu)選方案，所述盛放盒固接有直線陣列且對稱分布的導(dǎo)向架，所述導(dǎo)向架與所述彈性伸縮桿的數(shù)量相同，所述導(dǎo)向架位于相鄰所述夾具一和相鄰所述夾具二的上方。

4、作為更進一步的優(yōu)選方案，所述滑槽的長度等于所述彈性伸縮桿伸縮端的伸縮長度，用于使所述彈性伸縮桿伸縮端在伸縮時不對所述阻力板產(chǎn)生影響。

5、作為更進一步的優(yōu)選方案，所述夾具二固接有限位塊，所述連接桿固接有限位架，所述限位塊與相鄰所述限位架擠壓配合。

6、作為更進一步的優(yōu)選方案，還包括有對稱分布的擠壓板，所述擠壓板固接于相鄰所述阻力板的下側(cè)，所述工作臺的水池底部固接有對稱分布的擠壓塊，所述擠壓塊與相鄰所述擠壓板擠壓配合。

7、作為更進一步的優(yōu)選方案，所述彈性伸縮桿伸縮端的可伸縮長度小于相鄰所述擠壓板在所述工作臺上的最小投影寬度，用于確保在所述擠壓板移動后，所述彈性伸縮桿的伸縮端完全收縮。

8、作為更進一步的優(yōu)選方案，所述盛放盒內(nèi)固接有卡槽架，所述卡槽架上設(shè)置有直線陣列分布的卡槽，該卡槽的數(shù)量為所述彈性伸縮桿數(shù)量的一半。

9、作為更進一步的優(yōu)選方案，還包括有浮球，所述浮球設(shè)置于所述工作臺上其中的一個清洗池內(nèi)，所述工作臺靠近該清洗池的位置固接有進液管，所述進液管與外部進液設(shè)備連通，所述進液管上安裝有調(diào)節(jié)閥，所述調(diào)節(jié)閥與所述浮球之間通過齒輪齒條傳動。

10、作為更進一步的優(yōu)選方案，所述浮球固接有對稱分布的浮力板，所述浮力板上設(shè)置有排液口，所述工作臺上所述浮球所在的清洗池處設(shè)置有對稱分布的孔洞，所述孔洞與所述工作臺上所述浮球所在的清洗池連通，所述孔洞與相鄰所述浮力板封堵配合，所述孔洞與相鄰所述浮力板的排液口連通配合。

11、作為更進一步的優(yōu)選方案，所述進液管固接有與所述工作臺固接的水流殼體，用于將所述工作臺上所述浮球所在清洗池內(nèi)的油脂導(dǎo)流至所述孔洞處。

12、綜上所述，本申請包括以下至少一種有益技術(shù)效果：1、本發(fā)明通過使碳化硅晶片的兩組夾具一和相鄰夾具二交替松開，并利用盛放盒的移動將清洗池內(nèi)的溶液導(dǎo)流至碳化硅晶片的夾緊處，對碳化硅晶片右側(cè)的夾緊處進行清洗，防止碳化硅晶片夾緊處無法清洗導(dǎo)致其上污染物殘留，從而對碳化硅晶片的質(zhì)量造成影響；

13、2、通過同時松開碳化硅晶片的兩組夾具一和相鄰夾具二，對碳化硅晶片上夾緊處殘留的溶液進行清除，防止碳化硅晶片夾緊處攜帶一個清洗池內(nèi)的溶液進入不同清洗池內(nèi)，從而避免不同清洗池內(nèi)溶液相互混合，導(dǎo)致清洗池內(nèi)溶液的更換頻率加快，進而使碳化硅晶片清洗的成本增加；

14、3、通過水流殼體將溶液注入清洗池內(nèi)，使溶液推動上層油脂自左向右流動，上層油脂通過排液口排出至孔洞內(nèi)，將油脂排出右側(cè)清洗池，避免油脂對碳化硅晶片的清洗產(chǎn)生影響，從而導(dǎo)致碳化硅晶片的清洗效率受到影響。

技術(shù)特征：

1.一種碳化硅晶片制備用清洗裝置，包括有工作臺（1），所述工作臺（1）設(shè)置有直線陣列分布的清洗池和一個水池，所述工作臺（1）安裝有機械臂（2），所述機械臂（2）安裝有盛放盒（3），其特征是，還包括有兩組直線陣列分布的彈性伸縮桿（4），兩組直線陣列分布的彈性伸縮桿（4）均固接于所述盛放盒（3）內(nèi)，兩組所述彈性伸縮桿（4）呈對稱分布，所述彈性伸縮桿（4）的伸縮端固接有連接架（5），所述連接架（5）設(shè)置有滑槽（6），同組直線陣列分布的所述滑槽（6）內(nèi)共同滑動連接有連接桿（7），所述連接桿（7）與所述盛放盒（3）滑動連接，所述連接桿（7）與所述盛放盒（3）之間固接有彈性件，所述連接桿（7）遠離所述盛放盒（3）的一端固接有阻力板（8），所述連接架（5）遠離相鄰所述彈性伸縮桿（4）的一側(cè)固接有夾具一（9），所述夾具一（9）滑動連接有夾具二（10），所述夾具二（10）與相鄰所述夾具一（9）之間固接有彈性件。

2.按照權(quán)利要求1所述的一種碳化硅晶片制備用清洗裝置，其特征是，所述盛放盒（3）固接有直線陣列且對稱分布的導(dǎo)向架（11），所述導(dǎo)向架（11）與所述彈性伸縮桿（4）的數(shù)量相同，所述導(dǎo)向架（11）位于相鄰所述夾具一（9）和相鄰所述夾具二（10）的上方。

3.按照權(quán)利要求2所述的一種碳化硅晶片制備用清洗裝置，其特征是，所述滑槽（6）的長度等于所述彈性伸縮桿（4）伸縮端的伸縮長度，用于使所述彈性伸縮桿（4）伸縮端在伸縮時不對所述阻力板（8）產(chǎn)生影響。

4.按照權(quán)利要求1所述的一種碳化硅晶片制備用清洗裝置，其特征是，所述夾具二（10）固接有限位塊（12），所述連接桿（7）固接有限位架（13），所述限位塊（12）與相鄰所述限位架（13）擠壓配合。

5.按照權(quán)利要求1所述的一種碳化硅晶片制備用清洗裝置，其特征是，還包括有對稱分布的擠壓板（14），所述擠壓板（14）固接于相鄰所述阻力板（8）的下側(cè)，所述工作臺（1）的水池底部固接有對稱分布的擠壓塊（15），所述擠壓塊（15）與相鄰所述擠壓板（14）擠壓配合。

6.按照權(quán)利要求5所述的一種碳化硅晶片制備用清洗裝置，其特征是，所述彈性伸縮桿（4）伸縮端的可伸縮長度小于相鄰所述擠壓板（14）在所述工作臺（1）上的投影寬度，用于確保在所述擠壓板（14）移動后，所述彈性伸縮桿（4）的伸縮端完全收縮。

7.按照權(quán)利要求2所述的一種碳化硅晶片制備用清洗裝置，其特征是，所述盛放盒（3）內(nèi)固接有卡槽架（16），所述卡槽架（16）上設(shè)置有直線陣列分布的卡槽，該卡槽的數(shù)量為所述彈性伸縮桿（4）數(shù)量的一半。

8.按照權(quán)利要求6所述的一種碳化硅晶片制備用清洗裝置，其特征是，還包括有浮球（17），所述浮球（17）設(shè)置于所述工作臺（1）上其中的一個清洗池內(nèi)，所述工作臺（1）靠近該清洗池的位置固接有進液管（18），所述進液管（18）與外部進液設(shè)備連通，所述進液管（18）上安裝有調(diào)節(jié)閥（19），所述調(diào)節(jié)閥（19）與所述浮球（17）之間通過齒輪齒條傳動。

9.按照權(quán)利要求8所述的一種碳化硅晶片制備用清洗裝置，其特征是，所述浮球（17）固接有對稱分布的浮力板（20），所述浮力板（20）上設(shè)置有排液口，所述工作臺（1）上所述浮球（17）所在的清洗池處設(shè)置有對稱分布的孔洞（21），所述孔洞（21）與所述工作臺（1）上所述浮球（17）所在的清洗池連通，所述孔洞（21）與相鄰所述浮力板（20）封堵配合，所述孔洞（21）與相鄰所述浮力板（20）的排液口連通配合。

10.按照權(quán)利要求9所述的一種碳化硅晶片制備用清洗裝置，其特征是，所述進液管（18）固接有與所述工作臺（1）固接的水流殼體（22），用于將所述工作臺（1）上所述浮球（17）所在清洗池內(nèi)的油脂導(dǎo)流至所述孔洞（21）處。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及碳化硅晶片清洗技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種碳化硅晶片制備用清洗裝置。包括有工作臺，所述工作臺安裝有機械臂，所述機械臂安裝有盛放盒，所述盛放盒內(nèi)固接有兩組直線陣列分布的彈性伸縮桿，所述彈性伸縮桿的伸縮端固接有連接架，所述連接架設(shè)置有滑槽，同組直線陣列分布的所述滑槽內(nèi)共同滑動連接有連接桿，所述連接架固接有夾具一，所述夾具一滑動連接有夾具二。本發(fā)明通過使碳化硅晶片的兩組夾具一和相鄰夾具二交替松開，并利用盛放盒的移動將清洗池內(nèi)的溶液導(dǎo)流至碳化硅晶片的夾緊處，對碳化硅晶片右側(cè)的夾緊處進行清洗，防止碳化硅晶片夾緊處無法清洗導(dǎo)致其上污染物殘留，從而對碳化硅晶片的質(zhì)量造成影響。

技術(shù)研發(fā)人員：蔡昂
受保護的技術(shù)使用者：山東精瓷新材料有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/2