1.一種充退磁控制方法，其特征在于，應用于充退磁模組，所述充退磁模組包括本體、分別位于所述本體上的轉(zhuǎn)子底座和充退磁組件，所述轉(zhuǎn)子底座用于設(shè)置轉(zhuǎn)子，所述轉(zhuǎn)子包括多個磁極，所述方法包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的充退磁控制方法，其特征在于，所述充退磁組件包括充退磁線圈，所述充退磁線圈與所述轉(zhuǎn)子在所述轉(zhuǎn)子底座的旋轉(zhuǎn)軸在第一方向上之間的距離小于或等于預設(shè)第一距離閾值，所述當前位置信息包括第一方向上的第一初始坐標和第二方向上的第二初始坐標，其中，所述旋轉(zhuǎn)軸沿第三方向延伸，所述第一方向、所述第二方向和所述第三方向相互相交；
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的充退磁控制方法，其特征在于，所述根據(jù)所述第一充磁位置信息和所述初始位置信息，控制所述充退磁組件在所述本體上移動至第二充磁位置，包括：
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的充退磁控制方法，其特征在于，所述充退磁組件包括充退磁線圈，所述第一充磁位置信息用于指示所述目標磁極中點的坐標信息，所述第二充磁位置信息用于指示所述充退磁線圈中點的坐標信息，所述第二充磁位置信息包括第二方向上的第一目標坐標和第三方向上的第二目標坐標，所述第二方向和所述第三方向相交；
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的充退磁控制方法，其特征在于，所述初始位置信息包括第二方向上的第三初始坐標和第三方向上的第四初始坐標；
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的充退磁控制方法，其特征在于，所述方法還包括：
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的充退磁控制方法，其特征在于，所述方法還包括：
8.一種充退磁控制裝置，其特征在于，所述裝置包括：
9.一種充退磁設(shè)備，其特征在于，所述充退磁設(shè)備包括：
10.一種充退磁系統(tǒng)，其特征在于，所述充退磁系統(tǒng)包括轉(zhuǎn)子和權(quán)利要求9所述的充退磁設(shè)備。