技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明實施例提供了一種顯示基板的制備方法、陣列基板及顯示裝置，涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，解決傳統(tǒng)接觸孔工藝后的光刻膠固化、顆粒殘留、工藝時間延長、設(shè)備維護周期縮短的問題。該方法包括形成第一走線、第一絕緣層、第一、第二金屬層和光刻膠層；在第一走線上方形成光刻膠保留圖案；在光刻膠保留圖案下方形成第二、第一金屬層保留圖案；第一金屬層的刻蝕速率大于第二金屬層的刻蝕速率；去除光刻膠保留圖案；形成第二絕緣層，其厚度小于或等于第一、第二金屬層的厚度之和；第二絕緣層在覆蓋第一絕緣層與覆蓋第二金屬層保留圖案的交界處具有斷裂區(qū)域；采用濕法刻蝕工藝去除第一、第二金屬層保留圖案，以露出第一絕緣層；形成露出第一走線的接觸孔。

技術(shù)研發(fā)人員：劉軍;王明;汪軍;周斌
受保護的技術(shù)使用者：合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
文檔號碼：201710203759
技術(shù)研發(fā)日：2017.03.30
技術(shù)公布日：2017.06.27