技術特征：

技術總結
本發(fā)明提供一種等離子體處理裝置，包括：筒形電極，具有作為設有開口部的一端的下端與作為被封閉的另一端的上端，內部導入工藝氣體，通過施加電壓而使所述工藝氣體等離子體化；以及作為具有開口的真空容器的腔室，上端經由絕緣構件而安裝于開口的筒形電極在腔室的內部延伸存在。而且，等離子體處理裝置還包括：作為搬送部的旋轉平臺，將利用工藝氣體受到處理的工件搬送至筒形電極的開口部之下；護罩，隔著間隙覆蓋在真空容器的內部延伸存在的筒形電極；以及間隔件，設置于筒形電極與護罩的間隙中且包含絕緣材料。本發(fā)明通過在筒形電極的側壁與護罩的間隙中配置間隔件，能夠防止筒形電極與護罩的接觸而可穩(wěn)定地進行膜處理。

技術研發(fā)人員：加茂克尚
受保護的技術使用者：芝浦機械電子裝置株式會社
技術研發(fā)日：2017.03.13
技術公布日：2017.10.03