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用于下一代先進等離子體技術的腔室主體設計架構的制作方法

文檔序號:11452441閱讀:來源:國知局

技術特征:

技術總結
本發(fā)明公開一種用于處理基板的設備,且在一個實施例中,該設備包括:雙腔室殼體,該雙腔室殼體具有穿過該雙腔室殼體形成的兩個開口,第一泵接口構件,該第一泵接口構件與該雙腔室殼體中形成的該兩個開口中的一個開口同軸地對齊,以及第二泵接口構件,該第二泵接口構件與該雙腔室殼體中形成的該兩個開口中的另一個開口同軸地對齊,其中該泵接口構件的各者包含與該兩個開口的中心線同心的三個通道。

技術研發(fā)人員:A·恩古耶;B·J·霍華德;N·J·布萊特
受保護的技術使用者:應用材料公司
技術研發(fā)日:2016.01.14
技術公布日:2017.08.29
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