1.一種顯示裝置，其特征在于，包含：
一控制電路層，具有在一橫切方向上相鄰排列的一第一控制電路區(qū)塊及一第二控制電路區(qū)塊；以及
一自發(fā)光層，設(shè)置于該控制電路層上方，并具有在該橫切方向上相鄰排列的一第一自發(fā)光區(qū)塊及一第二自發(fā)光區(qū)塊分別對應(yīng)于該第一控制電路區(qū)塊及該第二控制電路區(qū)塊；其中，該第一自發(fā)光區(qū)塊及該第二自發(fā)光區(qū)塊分別與該第一控制電路區(qū)塊及該第二控制電路區(qū)塊信號連接；
其中，在該橫切方向上，該第一發(fā)光區(qū)塊朝向該第二發(fā)光區(qū)塊的一側(cè)，突出于該第一控制電路區(qū)塊朝向該第二控制電路區(qū)塊的一側(cè)，并具有一第一偏移距離；而該第二發(fā)光區(qū)塊遠離該第一發(fā)光區(qū)塊的一側(cè)，亦突出于該第二控制電路區(qū)塊遠離該第一控制電路區(qū)塊的一側(cè)，且具有一第二偏移距離；該第二偏移距離大于該第一偏移距離。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，在該橫切方向上，該第一控制電路區(qū)塊寬度的中心與該第二控制電路區(qū)塊寬度的中心相距一第一間距；在該橫切方向上，該第一自發(fā)光區(qū)塊寬度的中心與該第二自發(fā)光區(qū)塊寬度的中心相距一第二間距；該第二間距大于該第一間距。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，在該橫切方向上，該第一控制電路區(qū)塊的平均寬度小于該第一自發(fā)光區(qū)塊的平均寬度；該第二控制電路區(qū)塊的平均寬度小于該第二自發(fā)光區(qū)塊的平均寬度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，進一步包含一連接層設(shè)置于該控制電路層及該自發(fā)光層之間；其中該連接層包含：
一第一連接線路，兩端分別連接于該第一控制電路區(qū)塊及該第一自發(fā)光區(qū)塊；以及
一第二連接線路，兩端分別連接于該第二控制電路區(qū)塊及該第二自發(fā)光區(qū)塊；
其中，該第二連接線路在該橫切方向上的投影長度大于該第一連接線路在該橫切方向上的投影長度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，進一步包含一邊緣帶設(shè)置于該第二電路控制區(qū)塊遠離該第一電路控制區(qū)塊的一側(cè)外；其中，該第二自發(fā)光區(qū)塊在該橫切方向上突出于該第二控制電路區(qū)塊遠離該第二控制電路的一側(cè)外的部分是部分覆蓋該邊緣帶。
6.一種顯示裝置，具有一第一側(cè)邊，其特征在于，并包含：
一控制電路層，具有在垂直該第一側(cè)邊的一橫切方向上排列分布的多個控制電路區(qū)塊；以及
一自發(fā)光層，設(shè)置于該控制電路層上方，并具有在該橫切方向上排列分布的多個自發(fā)光區(qū)塊分別對應(yīng)于該多個控制電路區(qū)塊；其中，該自發(fā)光區(qū)塊與該對應(yīng)的該控制電路區(qū)塊信號連接；
其中，在該橫切方向上，該自發(fā)光區(qū)塊較所對應(yīng)的該控制電路區(qū)塊朝向該第一側(cè)邊突出一偏移距離，較接近該第一側(cè)邊的該自發(fā)光區(qū)塊具有較大的該偏移距離。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示裝置，其特征在于，該些控制電路區(qū)塊在該橫切方向上的排列形成周期性變化的一第一連續(xù)結(jié)構(gòu)，該第一連續(xù)結(jié)構(gòu)于每一第一距離出現(xiàn)重復的結(jié)構(gòu)特征；該些自發(fā)光區(qū)塊在該橫切方向上的排列形成周期性變化的一第二連續(xù)結(jié)構(gòu)，該第二連續(xù)結(jié)構(gòu)于每一第二距離出現(xiàn)重復的結(jié)構(gòu)特征；該第二距離大于該第一距離。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示裝置，其特征在于，在該橫切方向上，該控制電路區(qū)塊的平均寬度小于該自發(fā)光區(qū)塊的平均寬度。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示裝置，其特征在于，進一步包含一連接層設(shè)置于該控制電路層及該自發(fā)光層之間；其中該連接層包含：
多個連接線路，每一該連接線路的兩端分別連接于相對應(yīng)的一組該控制電路區(qū)塊及該自發(fā)光區(qū)塊；
其中，越接近該第一側(cè)邊的該連接線路在該橫切方向上的投影長度越大。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示裝置，其特征在于，進一步包含一邊緣帶設(shè)置于最靠近該第一側(cè)邊的該電路控制區(qū)塊外側(cè)；其中，最靠近該第一側(cè)邊的該自發(fā)光區(qū)塊至少部分覆蓋該邊緣帶。