一種有遮擋結(jié)構(gòu)的天線載體及天線裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種有遮擋結(jié)構(gòu)的天線載體，包括一加工面和遮擋面，遮擋面的位置與加工面的位置相對應(yīng)；遮擋面上設(shè)有透光區(qū)域，透光區(qū)域的材料為透明材料，透明材料的通透性為80%以上。本實(shí)用新型還公開了一種本實(shí)用新型具有以下有益效果：可以在有遮擋結(jié)構(gòu)的天線載體表面采用LDS工藝制作天線線路，例如在具有型腔的天線載體的內(nèi)部或者管狀的天線載體內(nèi)部制作天線線路；本實(shí)用新型提供的天線載體結(jié)構(gòu)簡單，易于制造。
【專利說明】一種有遮擋結(jié)構(gòu)的天線載體及天線裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于移動終端天線【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種有遮擋結(jié)構(gòu)的天線載體及天線裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前在塑料件上直接制作天線線路的其中一種方法是激光直接成型技術(shù)(LDS)，即使用含有某種金屬化合物的塑料(或其他高分子化合物)成型產(chǎn)品，然后通過激光照射釋放金屬化合物中的金屬粒子，再進(jìn)行化學(xué)鍍或者電鍍的方法獲得所需的電子線路。該方法的工作原理在于當(dāng)激光光束照射到高分子化合物的表面時，產(chǎn)生物理化學(xué)反應(yīng)，激光將高分子化合物的分子鏈間摻雜的金屬粒子活化后釋放，在進(jìn)行電鍍或者化學(xué)鍍時，以釋放的金屬為種子，鍍液中的金屬不斷覆蓋在釋放的金屬上，從而得到所需的金屬層。
[0003]該方法的缺陷在于:由于目前的激光鐳射工藝的限制，只能在無遮擋結(jié)構(gòu)的天線載體I表面進(jìn)行激光鐳射，形成天線線路2。而天線載體I往往是彎折結(jié)構(gòu)的，如圖1所示，可以直接在天線載體I的外側(cè)進(jìn)行加工；若要在天線載體I的內(nèi)側(cè)進(jìn)行加工，則鐳射的區(qū)域不能被塑料產(chǎn)品結(jié)構(gòu)遮擋。
[0004]而基于無線產(chǎn)品的設(shè)計(jì)需要，有時需要將天線線路布置在天線載體I的內(nèi)側(cè)，如圖2所示的橫截面呈U型的天線載體1，天線載體I內(nèi)部形成了一個空腔，標(biāo)號5指示的是需要形成天線線路的區(qū)域，該區(qū)域5位于空腔內(nèi)，然而，與該區(qū)域5相對應(yīng)的位置有一遮擋面7，該遮擋面7遮擋了激光光束3的輻射光線，不能直接進(jìn)行鐳射加工。盡管天線載體I設(shè)有一開口 4，可以將天線載體I改變方向進(jìn)行鐳射，但是由于輻射角度6太小(一般情況下此角度必須大于30度)，鐳射的效果和位置精度非常差，無法滿足產(chǎn)品的要求，見圖3。類似結(jié)構(gòu)還有如圖4所示的一種管狀的天線載體I，通常只能在外側(cè)進(jìn)行LDS加工形成天線線路2，對于管壁內(nèi)側(cè)難以加工。
[0005]由上所述，基于現(xiàn)有的技術(shù)，無法有效的在類似的有遮擋結(jié)構(gòu)的天線載體表面采用LDS工藝制造天線線路。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0006]為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷，本實(shí)用新型提供一種有遮擋結(jié)構(gòu)的天線載體及天線裝置。具體的技術(shù)方案如下:
[0007]—種有遮擋結(jié)構(gòu)的天線載體，包括一加工面和遮擋面，遮擋面的位置與加工面的位置相對應(yīng)；遮擋面上設(shè)有透光區(qū)域，透光區(qū)域的材料為透明材料。
[0008]作為優(yōu)化方案，透明材料的通透性為80%以上。
[0009]作為優(yōu)化方案，加工面與遮擋面之間的夾角為0°至45°。
[0010]作為優(yōu)化方案，透明材料為PC或PMMA材料。
[0011]一種天線裝置，包括天線載體以及天線線路，其中，天線線路設(shè)置在加工面上，且天線線路的位置與透光區(qū)域的位置相對應(yīng)。[0012]作為優(yōu)化方案，透明材料的通透性為80%以上。
[0013]作為優(yōu)化方案，加工面與遮擋面之間的夾角為0°至45°。
[0014]作為優(yōu)化方案，透明材料為PC或PMMA材料。
[0015]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型具有以下有益效果:
[0016](I)可以在有遮擋結(jié)構(gòu)的天線載體表面采用LDS工藝制作天線線路，例如在具有型腔的天線載體的內(nèi)部或者管狀的天線載體內(nèi)部制作天線線路；
[0017](2)本實(shí)用新型提供的天線載體結(jié)構(gòu)簡單，易于制造。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]圖1為現(xiàn)有的天線載體的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖2為現(xiàn)有的U型天線載體的結(jié)構(gòu)示意圖一；
[0020]圖3為現(xiàn)有的U型天線載體的結(jié)構(gòu)示意圖二 ；
[0021]圖4為現(xiàn)有的管狀天線載體的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]圖5為實(shí)施例1的結(jié)構(gòu)示意圖一；
[0023]圖6為實(shí)施例1的結(jié)構(gòu)示意圖二 ；
[0024]圖7為實(shí)施例2的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖8為遮擋面與加工面之間的夾角示意圖。
[0026]圖中序號為:
[0027]1-天線載體、2-天線線路、3-激光光束、4-開口、5-需要形成天線線路的區(qū)域、6-輻射角度、7-遮擋面、8-加工面、9-透光區(qū)域。
【具體實(shí)施方式】
[0028]下面結(jié)合附圖以實(shí)施例的方式詳細(xì)描述本實(shí)用新型。
[0029]實(shí)施例:
[0030]一種有遮擋結(jié)構(gòu)的天線載體，包括一加工面和遮擋面，遮擋面的位置與加工面的位置相對應(yīng)；遮擋面上設(shè)有透光區(qū)域，透光區(qū)域的材料為透明材料，透明材料的通透性為80%以上。
[0031]在本實(shí)用新型中，加工面指的是天線載體上需要進(jìn)行LDS激光鐳射加工的表面，而遮擋面指的是將加工面遮擋住的一個結(jié)構(gòu)。設(shè)置透光區(qū)域之后，可直接透過該透光區(qū)域?qū)庸っ孢M(jìn)行LDS激光鐳射，之后再進(jìn)行電鍍或化學(xué)鍍，在加工面上形成天線線路。在天線載體上將天線線路制作完成后，即獲得了天線裝置。
[0032]作為優(yōu)選的實(shí)施方式，本實(shí)施例將透明材料的通透性限定為80%以上，其技術(shù)原理在于，若通透性低于80%會影響鐳射線路的尺寸精準(zhǔn)度和能量的損失，同時過低的透光性能會引起光線散射，污染設(shè)備和對操作人員造成傷害。當(dāng)然，如果設(shè)備有相關(guān)光線防護(hù)的設(shè)計(jì)，通透性要求可適當(dāng)降低，這時在透明材料表面會有激光加工痕跡，透光性越低，痕跡越明顯，還可能產(chǎn)生燒灼痕跡。如果產(chǎn)品表面允許加工痕跡，在不影響加工面線路性能的前提下，材料的透光性可以適當(dāng)調(diào)低。
[0033]作為優(yōu)選的實(shí)施方式，在本實(shí)施例中，加工面與遮擋面之間的最優(yōu)夾角為0°至45°，如圖8所示。這樣設(shè)置是考慮到，當(dāng)對加工面進(jìn)行鐳射加工時，透光區(qū)域與激光光束之間的夾角大于45度為佳，過小的角度會引起光線的反射，會對設(shè)備造成污染并對操作人員造成傷害，同時還會影響透光性。如果設(shè)備有光線防護(hù)的設(shè)計(jì)，可根據(jù)實(shí)際產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)，對夾角的角度做適當(dāng)調(diào)整，以滿足特殊情況下的生產(chǎn)需求。本發(fā)明對加工面和遮擋面的結(jié)構(gòu)形狀不做限制，加工面和遮擋面可以為平面或弧面，若為弧面則夾角為對應(yīng)點(diǎn)的法相夾角。
[0034]在本實(shí)施例中，透明材料優(yōu)選為PC或PMMA材料。這些都是自然通透性很強(qiáng)的材料，且易于生產(chǎn)加工。當(dāng)然，本發(fā)明中的透明材料不限于此，采用其他類型的透明材料均可。
[0035]本實(shí)用新型對天線載體的具體結(jié)構(gòu)形狀不做限定，只要是存在加工面和遮擋面的天線載體，都應(yīng)落入本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。下面提供兩種不同結(jié)構(gòu)形狀的天線載體的具體實(shí)施例，但僅為詳細(xì)說明的作用，并不限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
[0036]實(shí)施例1提供了一種具體的天線載體，如圖5和圖6所示，天線載體I的橫截面呈U型，該天線載體I的內(nèi)部形成了一個空腔，該空腔通過開口 4與外部連通，需要形成天線線路的區(qū)域5位于該空腔內(nèi)，且該區(qū)域5與開口 4的位置垂直。加工面8的與遮擋面7相互平行且位置相互對應(yīng)，需要形成天線線路的區(qū)域5位于加工面8上，透光區(qū)域9設(shè)置于遮擋面7上，透光區(qū)域9與需要形成天線線路的區(qū)域5相互平行且位置相互對應(yīng)。本實(shí)用新型對透光區(qū)域9的面積大小不做限定，透光區(qū)域9可以是遮擋面7中的一部分，如圖5所示，透光區(qū)域9的面積大小與需要形成天線線路的區(qū)域5相一致；也可以將遮擋面7全部設(shè)置為透光區(qū)域9，如圖6所示。在本實(shí)施例中，透過透光區(qū)域9對加工面8上需要形成天線線路的區(qū)域5進(jìn)行選擇性激光照射時，激光光束3與透光區(qū)域9的夾角以及激光光束3與加工面8的夾角均為90°，此為最佳的實(shí)施方式，但不限于此，只要加工面8與遮擋面7之間的夾角為0°至45° ,使得透光區(qū)域9與激光光束3之間的夾角大于45度，均可進(jìn)行LDS加工。
[0037]實(shí)施例2提供了另一種具體的天線載體，如圖7所示，天線載體I呈兩端開口的管狀，該天線載體I的加工面8即為一側(cè)的管壁，而遮擋面7即為另一側(cè)的管壁，遮擋面7對加工面8產(chǎn)生了遮擋。需要形成天線線路的區(qū)域5位于天線載體I的管內(nèi)，即位于管內(nèi)的加工面8上。透光區(qū)域9設(shè)置于遮擋面7上，透光區(qū)域9與需要形成天線線路的區(qū)域5相互平行且位置相互對應(yīng)。在本實(shí)施例中，透過透光區(qū)域9對加工面8上需要形成天線線路的區(qū)域5進(jìn)行選擇性激光照射時，激光光束3與透光區(qū)域9的夾角以及激光光束3與加工面8的夾角均為90°。
[0038]在本實(shí)用新型提供的天線載體的加工面上制作天線線路的方法如下:
[0039]步驟SI，準(zhǔn)備天線載體。
[0040]天線載體采用雙色成型工藝、二次成型工藝、超聲波熔接結(jié)合或拆件組裝的方法制成。采用以上加工工藝方法均可實(shí)現(xiàn)在遮擋面7中設(shè)置透光區(qū)域9。
[0041]步驟S2，透過天線載體的透光區(qū)域?qū)庸っ孢M(jìn)行選擇性激光照射，加工面經(jīng)激光照射的表面活化，形成一活化區(qū)域。
[0042]采用LDS激光機(jī)對加工面進(jìn)行激光照射?？梢圆捎肔PKF公司生產(chǎn)的Fusion或者M(jìn)icroline的專業(yè)LDS激光機(jī)。
[0043]將LDS激光機(jī)的工作參數(shù)設(shè)置為:頻率30-70KHZ、能量3-8W、線速1500-4000/s、最小線距0.03mm。將LDS激光機(jī)的工作參數(shù)設(shè)置在此范圍內(nèi)，可以使激光穿過透光區(qū)域時的透光性能達(dá)到最優(yōu)，同時也會使加工面經(jīng)激光照射的表面具有良好的表面活化效果。
[0044]步驟S3，對天線載體進(jìn)行電鍍或化學(xué)鍍，在活化區(qū)域形成天線線路。
[0045]以上公開的僅為本申請的幾個具體實(shí)施例，但本申請并非局限于此任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員能思之的變化，都應(yīng)落在本申請的保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種有遮擋結(jié)構(gòu)的天線載體，包括一加工面和遮擋面，所述遮擋面的位置與所述加工面的位置相對應(yīng)；其特征在于，所述遮擋面上設(shè)有透光區(qū)域，所述透光區(qū)域的材料為透明材料。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種有遮擋結(jié)構(gòu)的天線載體，其特征在于，所述透明材料的通透性為80%以上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種有遮擋結(jié)構(gòu)的天線載體，其特征在于，所述加工面與所述遮擋面之間的夾角為0°至45°。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的一種有遮擋結(jié)構(gòu)的天線載體，其特征在于，所述透明材料為PC或PMMA材料。
5.一種天線裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1所述的天線載體以及天線線路，其中，所述天線線路設(shè)置在所述加工面上，且所述天線線路的位置與所述透光區(qū)域的位置相對應(yīng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種天線裝置，其特征在于，所述透明材料的通透性為80%以上。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種天線裝置，其特征在于，所述加工面與所述遮擋面之間的夾角為0°至45°。
8.根據(jù)權(quán)利要求5或6或7所述的一種天線裝置，其特征在于，所述透明材料為PC或PMMA材料。
【文檔編號】H01Q1/36GK203674378SQ201320844904
【公開日】2014年6月25日 申請日期:2013年12月20日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月20日
【發(fā)明者】李玉軍, 蔣海英 申請人:上海安費(fèi)諾永億通訊電子有限公司