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用于毫米波頻段的基片集成天線(xiàn)及其陣列天線(xiàn)的制作方法

文檔序號(hào):7012001閱讀:317來(lái)源:國(guó)知局
用于毫米波頻段的基片集成天線(xiàn)及其陣列天線(xiàn)的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種在高增益應(yīng)用時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)寬頻/多頻特性的用于毫米波頻段的基片集成天線(xiàn)及其陣列天線(xiàn)。該天線(xiàn)通過(guò)在第二金屬覆銅層設(shè)置兩條長(zhǎng)度不同的縫隙,且第一縫隙與第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)之間的距離和第二縫隙距離第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的距離不相同,可引入不同頻率的諧振特性,當(dāng)兩個(gè)諧振頻點(diǎn)落在工作頻帶內(nèi),分別位于該頻段的高端和低端,相隔較近,可以耦合連通起來(lái),從而改善整個(gè)頻帶內(nèi)天線(xiàn)駐波特性,實(shí)現(xiàn)寬頻帶特性;當(dāng)兩個(gè)諧振頻點(diǎn)相隔較遠(yuǎn),耦合較弱,不能連通起來(lái),就形成了兩個(gè)單獨(dú)諧振,形成雙頻特性,從而在高增益應(yīng)用時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)寬頻/多頻特性。適合在微波毫米波天線(xiàn)【技術(shù)領(lǐng)域】推廣應(yīng)用。
【專(zhuān)利說(shuō)明】用于毫米波頻段的基片集成天線(xiàn)及其陣列天線(xiàn)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及微波毫米波天線(xiàn)【技術(shù)領(lǐng)域】,具體涉及ー種用于毫米波頻段的基片集成天線(xiàn)及其陣列天線(xiàn)。
【背景技術(shù)】
[0002]在各種無(wú)線(xiàn)通信系統(tǒng)中,信息的發(fā)射與接收均依賴(lài)于天線(xiàn)。無(wú)線(xiàn)移動(dòng)通信技術(shù)的發(fā)展,要求微波毫米波通信天線(xiàn)在保證電氣性能的同時(shí),盡可能實(shí)現(xiàn)平面化、高増益、寬頻帶或多頻帶等特性。
[0003]傳統(tǒng)天線(xiàn)實(shí)現(xiàn)形式主要有兩種:波導(dǎo)類(lèi)立體結(jié)構(gòu)天線(xiàn)和微帶類(lèi)平面結(jié)構(gòu)天線(xiàn)。波導(dǎo)類(lèi)天線(xiàn)具有損耗低等優(yōu)良特性,但是體積大、重量重、成本高、不利于和平面電路集成。微帶類(lèi)天線(xiàn)具有易于加工、低剖面、易于和平面電路集成等優(yōu)點(diǎn),但是電磁輻射強(qiáng)、損耗大。這兩類(lèi)天線(xiàn)有各自?xún)?yōu)點(diǎn),但是也有不可避免的缺點(diǎn),在實(shí)際應(yīng)用中,有很多局限性。
[0004]基片集成波導(dǎo)作為一種新的傳輸線(xiàn),結(jié)合了波導(dǎo)類(lèi)和微帶類(lèi)的優(yōu)良特性,平面化、損耗小、易于加工和集成。由于這些優(yōu)良特性,基片集成波導(dǎo)在天線(xiàn)設(shè)計(jì)中,有著廣泛應(yīng)用。由于傳統(tǒng)基片集成波導(dǎo)天線(xiàn)的増益與帶寬矛盾難以解決,近年來(lái)多層電路結(jié)構(gòu)成為了毫米波基片集成陣列天線(xiàn)的高増益寬帶應(yīng)用的最佳選擇之一。
[0005]例如,有文獻(xiàn)提出了兩種可適用于毫米波頻段的基片集成陣列天線(xiàn)。第一種結(jié)構(gòu)為包含三層介質(zhì)層和三層金屬覆銅層的陣列天線(xiàn),下層金屬覆銅層、中層金屬覆銅層和下層介質(zhì)層構(gòu)成基片集成波導(dǎo)功分器和縱向縫隙耦合饋電網(wǎng)絡(luò),上層金屬覆銅層為圓形貼片輻射單元,中層介質(zhì)層為上層金屬覆銅層中貼片輻射単元提供支撐,上層介質(zhì)層為增大陣列増益的立體塊狀介質(zhì)。第二種陣列天線(xiàn)與第一種陣列天線(xiàn)在功分器和饋電網(wǎng)絡(luò)形式上相同,只是第一種陣列天線(xiàn)的上層介質(zhì)層中的立體塊狀介質(zhì)變化為包含圓環(huán)的類(lèi)似八木天線(xiàn)的四層介質(zhì)。上述結(jié)構(gòu)中每ー層介質(zhì)材料均需采用昂貴的高頻板以滿(mǎn)足天線(xiàn)在毫米波頻段高效率的要求;而介質(zhì)層的厚度與工作波長(zhǎng)相關(guān),選擇受到制約;采用了串聯(lián)縫隙饋電,單元數(shù)目越多,縫隙數(shù)目越多,工作帶寬越窄,從而導(dǎo)致該結(jié)構(gòu)難以實(shí)現(xiàn)大陣列高増益應(yīng)用時(shí)的寬帶需求;饋電結(jié)構(gòu)面積較大,不利于小型化,増加成本。
[0006]又如,還有文獻(xiàn)提出了第三種可適用于毫米波頻段的基片集成陣列天線(xiàn)。該結(jié)構(gòu)包含三層金屬覆銅層和兩層介質(zhì)層,下層金屬覆銅層、中層金屬覆銅層和下層介質(zhì)層構(gòu)成基片集成波導(dǎo)功分器和縱向縫隙耦合饋電網(wǎng)絡(luò),上層金屬覆銅層為圓形貼片輻射単元,上層介質(zhì)層為上層金屬覆銅層中貼片輻射単元提供支撐。第三種可適用于毫米波頻段的基片集成陣列天線(xiàn)采用與前兩種可適用于毫米波頻段的基片集成陣列天線(xiàn)類(lèi)似的饋電網(wǎng)絡(luò),從而導(dǎo)致該結(jié)構(gòu)難以實(shí)現(xiàn)大陣列高増益應(yīng)用時(shí)的寬帶需求。
[0007]因此,現(xiàn)有的用于毫米波頻段的基片集成陣列天線(xiàn)沒(méi)有很好的解決高增益和寬頻帶或多頻帶之間的矛盾,要同時(shí)實(shí)現(xiàn)陣列天線(xiàn)平面化、高増益、寬頻帶或多頻帶等特性,困難較大。
【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種在高增益應(yīng)用時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)寬頻/多頻特性的用于毫米波頻段的基片集成天線(xiàn)。
[0009]本發(fā)明解決上述技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:該用于毫米波頻段的基片集成天線(xiàn),包括從上往下依次層疊設(shè)置的第一金屬覆銅層、第一介質(zhì)層、第二金屬覆銅層、第二介質(zhì)層和第三金屬覆銅層,所述第一介質(zhì)層上設(shè)置有輻射單元,所述輻射單元包括設(shè)置在第一介質(zhì)層上的輻射通孔并且所述輻射通孔貫穿第一金屬覆銅層、第一介質(zhì)層;所述第二介質(zhì)層上設(shè)置有耦合饋電單元,所述耦合饋電單元包括第一基片集成波導(dǎo)單元和饋電單元,在第二介質(zhì)層上設(shè)置U形金屬化通孔陣列并且所述U形金屬化通孔陣列貫穿第二金屬覆銅層、第二介質(zhì)層和第三金屬覆銅層形成所述第一基片集成波導(dǎo)單元,所述U形金屬化通孔陣列包括兩排平行于第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的金屬化通孔和一排垂直于第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的金屬化通孔,所述饋電單元包括兩條設(shè)置在第二金屬覆銅層上并且平行于第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的縫隙,分別為第一縫隙、第二縫隙,第一縫隙的長(zhǎng)度小于第二縫隙的長(zhǎng)度,第一縫隙、第二縫隙位于U形金屬化通孔陣列圍成的U形空間內(nèi)并且位于輻射通孔下方,第一縫隙與第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)之間的距離和第二縫隙距離第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的距離不相同。
[0010]進(jìn)一步的是,所述輻射通孔的橫截面為圓形。
[0011]本發(fā)明了還提供了一種在高增益應(yīng)用時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)寬頻/多頻特性的用于毫米波頻段的基片集成陣列天線(xiàn)。該用于毫米波頻段的基片集成陣列天線(xiàn),包括從上往下依次層疊設(shè)置的第一金屬覆銅層、第一介質(zhì)層、第二金屬覆銅層、第二介質(zhì)層和第三金屬覆銅層,所述第一介質(zhì)層上設(shè)置有多個(gè)輻射單元,所述每個(gè)輻射單元包括設(shè)置在第一介質(zhì)層上的輻射通孔并且所述輻射通孔貫穿第一金屬覆銅層、第一介質(zhì)層;所述第二介質(zhì)層上設(shè)置有多個(gè)耦合饋電單元,所述多個(gè)耦合饋電單元分別與多個(gè)輻射單元一一對(duì)應(yīng),所述每個(gè)耦合饋電單元包括第一基片集成波導(dǎo)單元和饋電單元,在第二介質(zhì)層上設(shè)置U形金屬化通孔陣列并且所述U形金屬化通孔陣列貫穿第二金屬覆銅層、第二介質(zhì)層和第三金屬覆銅層形成所述第一基片集成波導(dǎo)單元,所述U形金屬化通孔陣列包括兩排平行于第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的金屬化通孔和一排垂直于第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的金屬化通孔,所述饋電單元包括兩條設(shè)置在第二金屬覆銅層上并且平行于第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的縫隙,分別為第一縫隙、第二縫隙,第一縫隙的長(zhǎng)度小于第二縫隙的長(zhǎng)度,第一縫隙、第二縫隙位于U形金屬化通孔陣列圍成的U形空間內(nèi)并且位于輻射通孔下方,第一縫隙與第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)之間的距離和第二縫隙距離第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的距離不相同;所述第二介質(zhì)層上還設(shè)置有用于給每個(gè)耦合饋電單元饋電的功分器網(wǎng)絡(luò)。
[0012]進(jìn)一步的是,所述功分器網(wǎng)絡(luò)由多級(jí)子網(wǎng)絡(luò)構(gòu)成,每一級(jí)子網(wǎng)絡(luò)包括多個(gè)“T”形頭,上一級(jí)子網(wǎng)絡(luò)的“T”形頭的兩個(gè)輸出端分別與下一級(jí)子網(wǎng)絡(luò)的兩個(gè)“T”形頭的輸入端連接,周期排列下去共同組成功分器網(wǎng)絡(luò),所述“T”形頭由三個(gè)第二基片集成波導(dǎo)單元組成,在第二介質(zhì)層上設(shè)置兩排金屬化通孔并且所述金屬化通孔貫穿第二金屬覆銅層、第二介質(zhì)層和第三金屬覆銅層形成所述第二基片集成波導(dǎo)單元。
[0013]進(jìn)一步的是,所述輻射通孔的橫截面為圓形。
[0014]本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明所述的用于毫米波頻段的基片集成天線(xiàn)及其陣列天線(xiàn)通過(guò)在第二金屬覆銅層設(shè)置兩條長(zhǎng)度不同的縫隙,且第一縫隙與第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)之間的距離和第二縫隙距離第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的距離不相同,可引入不同頻率的諧振特性,通過(guò)調(diào)節(jié)兩個(gè)諧振頻率的相對(duì)位置,可以實(shí)現(xiàn)寬頻帶和雙頻帶耦合饋電特性,當(dāng)兩個(gè)諧振頻點(diǎn)落在工作頻帶內(nèi),分別位于該頻段的高端和低端,相隔較近,可以耦合連通起來(lái),從而改善整個(gè)頻帶內(nèi)天線(xiàn)駐波特性,實(shí)現(xiàn)寬頻帶特性;當(dāng)兩個(gè)諧振頻點(diǎn)相隔較遠(yuǎn),耦合較弱,不能連通起來(lái),就形成了兩個(gè)單獨(dú)諧振,形成雙頻特性,從而在高増益應(yīng)用時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)寬頻/多頻特性,此外,由于電磁波無(wú)需在第一介質(zhì)層中傳輸,減小了輻射過(guò)程中的介質(zhì)損耗,同時(shí)可以采用低價(jià)介質(zhì)基片實(shí)現(xiàn),可大大降低成本。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0015]圖1是本發(fā)明用于毫米波頻段的基片集成天線(xiàn)及其陣列天線(xiàn)的三維結(jié)構(gòu)示意圖;
[0016]圖2是本發(fā)明用于毫米波頻段的基片集成天線(xiàn)的第一金屬覆銅層的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0017]圖3是本發(fā)明用于毫米波頻段的基片集成天線(xiàn)的第二金屬覆銅層的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0018]圖4是本發(fā)明用于毫米波頻段的基片集成陣列天線(xiàn)的第一金屬覆銅層的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0019]圖5是本發(fā)明用于毫米波頻段的基片集成陣列天線(xiàn)的第二金屬覆銅層的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0020]圖中標(biāo)記說(shuō)明:第一金屬覆銅層1、第一介質(zhì)層2、第二金屬覆銅層3、第二介質(zhì)層
4、第三金屬覆銅層5、輻射通孔6、金屬化通孔7、第一縫隙8、第二縫隙9。
【具體實(shí)施方式】
[0021]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)ー步的說(shuō)明。
[0022]如圖1、2、3所示,該用于毫米波頻段的基片集成天線(xiàn),包括從上往下依次層疊設(shè)置的第一金屬覆銅層1、第一介質(zhì)層2、第二金屬覆銅層3、第二介質(zhì)層4和第三金屬覆銅層5,所述第一介質(zhì)層2上設(shè)置有輻射單元,所述輻射単元包括設(shè)置在第一介質(zhì)層2上的輻射通孔6并且所述輻射通孔6貫穿第一金屬覆銅層1、第一介質(zhì)層2 ;所述第二介質(zhì)層4上設(shè)置有耦合饋電單元,所述耦合饋電單元包括第一基片集成波導(dǎo)單元和饋電單元,在第二介質(zhì)層4上設(shè)置U形金屬化通孔陣列并且所述U形金屬化通孔陣列貫穿第二金屬覆銅層3、第二介質(zhì)層4和第三金屬覆銅層5形成所述第一基片集成波導(dǎo)單元,所述U形金屬化通孔陣列包括兩排平行于第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的金屬化通孔7和ー排垂直于第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的金屬化通孔7,所述饋電単元包括兩條設(shè)置在第二金屬覆銅層3上并且平行于第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的縫隙,分別為第一縫隙8、第二縫隙9,第一縫隙8的長(zhǎng)度小于第二縫隙9的長(zhǎng)度,第一縫隙8、第二縫隙9位于U形金屬化通孔陣列圍成的U形空間內(nèi)并且位于輻射通孔6下方,第一縫隙8與第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)之間的距離和第二縫隙9距離第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的距離不相同。該用于毫米波頻段的基片集成天線(xiàn)通過(guò)在第二金屬覆銅層3設(shè)置兩條長(zhǎng)度不同的縫隙,且第一縫隙8與第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)之間的距離和第二縫隙9距離第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的距離不相同,可引入不同頻率的諧振特性,通過(guò)調(diào)節(jié)兩個(gè)諧振頻率的相對(duì)位置,可以實(shí)現(xiàn)寬頻帶和雙頻帶耦合饋電特性,當(dāng)兩個(gè)諧振頻點(diǎn)落在工作頻帶內(nèi),分別位于該頻段的高端和低端,相隔較近,可以耦合連通起來(lái),從而改善整個(gè)頻帶內(nèi)天線(xiàn)駐波特性,實(shí)現(xiàn)寬頻帶特性;當(dāng)兩個(gè)諧振頻點(diǎn)相隔較遠(yuǎn),耦合較弱,不能連通起來(lái),就形成了兩個(gè)單獨(dú)諧振,形成雙頻特性,從而在高增益應(yīng)用時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)寬頻/多頻特性,此外,由于電磁波無(wú)需在第一介質(zhì)層2中傳輸,減小了輻射過(guò)程中的介質(zhì)損耗,同時(shí)可以采用低價(jià)介質(zhì)基片實(shí)現(xiàn),可大大降低成本。
[0023]天線(xiàn)寬頻帶工作時(shí),中心頻率為&,工作帶寬為BW,根據(jù)寬頻帶的要求,同時(shí)考慮第一縫隙8、第二縫隙9之間的耦合,第一縫隙8長(zhǎng)度理論值大約為4+0.25XBff頻率對(duì)應(yīng)工作波長(zhǎng)的0.4?0.45倍,第二縫隙9長(zhǎng)度理論值大約ff0.25 X Bff頻率對(duì)應(yīng)工作波長(zhǎng)的
0.45?0.5倍;天線(xiàn)雙頻帶工作時(shí),設(shè)各頻帶中心頻率由低到高分別為f\、f2,第一縫隙8長(zhǎng)度理論值大約為頻率對(duì)應(yīng)工作波長(zhǎng)的0.5?0.55,第二縫隙9長(zhǎng)度理論值大約為f2頻率對(duì)應(yīng)工作波長(zhǎng)的0.45?0.5倍。
[0024]所述輻射通孔6的橫截面形狀可以是矩形、菱形、橢圓形、三角形、六邊形等類(lèi)似結(jié)構(gòu),,作為優(yōu)選的是:所述輻射通孔6的橫截面優(yōu)選為圓形,圓形通孔類(lèi)似于開(kāi)口圓波導(dǎo),主模傳輸、輻射電磁能量,設(shè)輻射通孔6半徑為a,根據(jù)圓波導(dǎo)單模傳輸條件,λ /3.41〈a〈 λ /2.61,從而可以確定輻射通孔6的半徑范圍,由于開(kāi)口圓波導(dǎo)有類(lèi)似喇叭天線(xiàn)的輻射特性,大口徑利于輻射能量,增益大,同時(shí),由于兩條長(zhǎng)度不同的縫隙饋電導(dǎo)致天線(xiàn)輻射方向圖不對(duì)稱(chēng),調(diào)節(jié)輻射通孔6內(nèi)徑尺寸可以矯正輻射方向圖。
[0025]實(shí)施例A
[0026]本實(shí)施例中用于毫米波頻段的基片集成天線(xiàn)的中心頻率為73.5GHz,對(duì)其在HFSS中進(jìn)行電磁全波仿真。選用的第一介質(zhì)層2為RF35,介電常數(shù)為3.5,厚度為1.52mm,損耗角正切為0.0018,輻射通孔6的直徑為3mm,第二介質(zhì)層4為Rogers5880,介電常數(shù)為2.2,厚度為0.508mm,損耗角正切為0.0009,金屬化通孔7的直徑為0.3mm,孔心距為0.6mm,第一基片集成波導(dǎo)單元寬度為1.86mm,第一縫隙8長(zhǎng)度為1.7mm,寬度為0.2mm,第一縫隙8與第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)之間的距離為0.26mm,第二縫隙9長(zhǎng)度為2mm,寬度為0.2mm,第二縫隙9與第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)之間的距離為0.1mm,此時(shí)天線(xiàn)在寬頻帶工作。HFSS仿真結(jié)果表明,在71?76GHz的范圍內(nèi),端口 a饋電時(shí),反射系數(shù)Sll小于-12dB,天線(xiàn)增益大于8.1dBi。
[0027]若要使上述用于毫米波頻段的基片集成天線(xiàn)在雙頻帶工作,其工作頻帶為71?73GHz和82?84GHz,只需調(diào)整輻射通孔6的直徑為2.6mm,第一基片集成波導(dǎo)單元寬度為
1.8mm,第一縫隙8長(zhǎng)度為1.72mm,寬度為0.2mm,第一縫隙8與第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)之間的距離為0.24mm,第二縫隙9長(zhǎng)度為2.2mm,寬度為0.2mm,第二縫隙9與第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)之間的距離為0.12mm,即可使天線(xiàn)在雙頻帶工作,對(duì)調(diào)整后的天線(xiàn)在HFSS中進(jìn)行電磁全波仿真。HFSS仿真結(jié)果表明,端口 a饋電時(shí),在71?73GHz的范圍內(nèi),反射系數(shù)Sll小于-lldB,天線(xiàn)增益大于7.3dBi ;在82?84GHz的范圍內(nèi),反射系數(shù)Sll小于-10dB,天線(xiàn)增益大于7.5dBi。
[0028]本發(fā)明了還提供了一種在高增益應(yīng)用時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)寬頻/多頻特性的用于毫米波頻段的基片集成陣列天線(xiàn)。如圖1、4、5所示,該用于毫米波頻段的基片集成陣列天線(xiàn),包括從上往下依次層疊設(shè)置的第一金屬覆銅層1、第一介質(zhì)層2、第二金屬覆銅層3、第二介質(zhì)層4和第三金屬覆銅層5,所述第一介質(zhì)層2上設(shè)置有多個(gè)輻射單元,所述每個(gè)輻射單元包括設(shè)置在第一介質(zhì)層2上的輻射通孔6并且所述輻射通孔6貫穿第一金屬覆銅層1、第一介質(zhì)層2 ;所述第二介質(zhì)層4上設(shè)置有多個(gè)耦合饋電單元,所述多個(gè)耦合饋電單元分別與多個(gè)輻射單元一一對(duì)應(yīng),所述每個(gè)耦合饋電單元包括第一基片集成波導(dǎo)單元和饋電單元,在第ニ介質(zhì)層4上設(shè)置U形金屬化通孔陣列并且所述U形金屬化通孔陣列貫穿第二金屬覆銅層
3、第二介質(zhì)層4和第三金屬覆銅層5形成所述第一基片集成波導(dǎo)單元,所述U形金屬化通孔陣列包括兩排平行于第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的金屬化通孔7和ー排垂直于第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的金屬化通孔7,所述饋電単元包括兩條設(shè)置在第二金屬覆銅層3上并且平行于第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的縫隙,分別為第一縫隙8、第二縫隙9,第一縫隙8的長(zhǎng)度小于第二縫隙9的長(zhǎng)度,第一縫隙8、第二縫隙9位于U形金屬化通孔陣列圍成的U形空間內(nèi)并且位于輻射通孔6下方,第一縫隙8與第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)之間的距離和第二縫隙9距離第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的距離不相同;所述第二介質(zhì)層4上還設(shè)置有用于給每個(gè)耦合饋電單元饋電的功分器網(wǎng)絡(luò)。該用于毫米波頻段的基片集成陣列天線(xiàn)通過(guò)在第二金屬覆銅層3設(shè)置多個(gè)饋電単元,所述饋電単元包括兩條長(zhǎng)度不同的縫隙,且第一縫隙8與第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)之間的距離和第二縫隙9距離第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的距離不相同,可引入不同頻率的諧振特性,通過(guò)調(diào)節(jié)兩個(gè)諧振頻率的相對(duì)位置,可以實(shí)現(xiàn)寬頻帶和雙頻帶耦合饋電特性,當(dāng)兩個(gè)諧振頻點(diǎn)落在工作頻帶內(nèi),分別位于該頻段的高端和低端,相隔較近,可以耦合連通起來(lái),從而改善整個(gè)頻帶內(nèi)天線(xiàn)駐波特性,實(shí)現(xiàn)寬頻帶特性;當(dāng)兩個(gè)諧振頻點(diǎn)相隔較遠(yuǎn),耦合較弱,不能連通起來(lái),就形成了兩個(gè)單獨(dú)諧振,形成雙頻特性,從而在高増益應(yīng)用時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)寬頻/多頻特性,此外,由于電磁波無(wú)需在第一介質(zhì)層2中傳輸,減小了輻射過(guò)程中的介質(zhì)損耗,同時(shí)可以采用低價(jià)介質(zhì)基片實(shí)現(xiàn),可大大降低成本,再者,陣列天線(xiàn)采用并饋的方式實(shí)現(xiàn),不會(huì)改變天線(xiàn)単元的寬帶或多頻帶特性,可解決寬帶工作與高增益需求的矛盾。
[0029]進(jìn)ー步的是,所述功分器網(wǎng)絡(luò)由多級(jí)子網(wǎng)絡(luò)構(gòu)成,每ー級(jí)子網(wǎng)絡(luò)包括多個(gè)“T”形頭,上ー級(jí)子網(wǎng)絡(luò)的“T”形頭的兩個(gè)輸出端分別與下ー級(jí)子網(wǎng)絡(luò)的兩個(gè)“T”形頭的輸入端連接,周期排列下去共同組成功分器網(wǎng)絡(luò),所述“T”形頭由三個(gè)第二基片集成波導(dǎo)單元組成,在第二介質(zhì)層4上設(shè)置兩排金屬化通孔7并且所述金屬化通孔7貫穿第二金屬覆銅層
3、第二介質(zhì)層4和第三金屬覆銅層5形成所述第二基片集成波導(dǎo)單元。這種結(jié)構(gòu)的功分器網(wǎng)絡(luò),結(jié)構(gòu)緊湊,可以整體位于輻射単元正下方,不會(huì)像傳統(tǒng)功分器那樣增加額外電路面積,有利于陣列小型化,降低成本。
[0030]所述輻射通孔6的橫截面形狀可以是矩形、菱形、橢圓形、三角形、六邊形等類(lèi)似結(jié)構(gòu),,作為優(yōu)選的是:所述輻射通孔6的橫截面優(yōu)選為圓形,圓形通孔類(lèi)似于開(kāi)ロ圓波導(dǎo),主模傳輸、輻射電磁能量,設(shè)輻射通孔6半徑為a,根據(jù)圓波導(dǎo)單模傳輸條件,入/3.41<a< A /2.61,從而可以確定輻射通孔6的半徑范圍,由于開(kāi)ロ圓波導(dǎo)有類(lèi)似喇叭天線(xiàn)的輻射特性,大口徑利于輻射能量,增益大,同時(shí),由于兩條長(zhǎng)度不同的縫隙饋電導(dǎo)致天線(xiàn)輻射方向圖不對(duì)稱(chēng),調(diào)節(jié)輻射通孔6內(nèi)徑尺寸可以矯正輻射方向圖。
[0031]實(shí)施例B
[0032]本實(shí)施例中用于毫米波頻段的基片集成陣列天線(xiàn)的中心頻率為73.5GHz,對(duì)其在HFSS中進(jìn)行電磁全波仿真。選用的第一介質(zhì)層2為RF35,介電常數(shù)為3.5,厚度為1.52mm,損耗角正切為0.0018,福射通孔6的直徑為3mm,間距為E面3.8mm, H面4.4mm,第二介質(zhì)層4為Rogers5880,介電常數(shù)為2.2,厚度為0.508mm,損耗角正切為0.0009,金屬化通孔I的直徑為0.3_,孔心距為0.6_,第一基片集成波導(dǎo)單元寬度為1.9_,第一縫隙8長(zhǎng)度為
1.7mm,寬度為0.2mm,第一縫隙8與第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)之間的距離為0.26mm,第二縫隙9長(zhǎng)度為1.9mm,寬度為0.2mm,第二縫隙9與第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)之間的距離為0.1mm,此時(shí)天線(xiàn)在寬頻帶工作。HFSS仿真結(jié)果表明,在71?76GHz的范圍內(nèi),端口a饋電時(shí),反射系數(shù)Sll小于-15dB,陣列增益大于26.5dBi。
[0033]若要使上述用于毫米波頻段的基片集成陣列天線(xiàn)在雙頻帶工作,其工作頻帶為71?72.25GHz和81-82.25GHz,只需調(diào)整輻射通孔6的直徑為2.6mm,間距為E面3.6mm, H面4.6mm,第一基片集成波導(dǎo)單元寬度為1.8mm,第一縫隙8長(zhǎng)度為1.76mm,寬度為0.2mm,第一縫隙8與第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)之間的距離為0.25mm,第二縫隙9長(zhǎng)度為
2.2mm,寬度為0.2mm,第二縫隙9與第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)之間的距離為0.12mm,即可使天線(xiàn)在雙頻帶工作,對(duì)調(diào)整后的天線(xiàn)在HFSS中進(jìn)行電磁全波仿真。HFSS仿真結(jié)果表明,端口 a饋電時(shí),在71?72.25GHz范圍內(nèi),反射系數(shù)Sll小于-13dB,陣列增益大于25.8dBi ;在81?82.25GHz范圍內(nèi),反射系數(shù)Sll小于-15dB,陣列增益大于26.1dBi。
【權(quán)利要求】
1.用于毫米波頻段的基片集成天線(xiàn),包括從上往下依次層疊設(shè)置的第一金屬覆銅層(1)、第一介質(zhì)層(2)、第二金屬覆銅層(3)、第二介質(zhì)層(4)和第三金屬覆銅層(5),其特征在于:所述第一介質(zhì)層(2 )上設(shè)置有輻射單元,所述輻射單元包括設(shè)置在第一介質(zhì)層(2 )上的輻射通孔(6)并且所述輻射通孔(6)貫穿第一金屬覆銅層(I)、第一介質(zhì)層(2);所述第二介質(zhì)層(4)上設(shè)置有耦合饋電單元,所述耦合饋電單元包括第一基片集成波導(dǎo)單元和饋電單元,在第二介質(zhì)層(4)上設(shè)置U形金屬化通孔陣列并且所述U形金屬化通孔陣列貫穿第二金屬覆銅層(3)、第二介質(zhì)層(4)和第三金屬覆銅層(5)形成所述第一基片集成波導(dǎo)單元,所述U形金屬化通孔陣列包括兩排平行于第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的金屬化通孔(7)和一排垂直于第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的金屬化通孔(7),所述饋電單元包括兩條設(shè)置在第二金屬覆銅層(3)上并且平行于第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的縫隙,分別為第一縫隙(8)、第二縫隙(9),第一縫隙(8)的長(zhǎng)度小于第二縫隙(9)的長(zhǎng)度,第一縫隙(8)、第二縫隙(9)位于U形金屬化通孔陣列圍成的U形空間內(nèi)并且位于輻射通孔(6)下方,第一縫隙(8)與第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)之間的距離和第二縫隙(9)距離第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的距離不相同。
2.如權(quán)利要求1所述的用于毫米波頻段的基片集成天線(xiàn),其特征在于:所述輻射通孔(6)的橫截面為圓形。
3.用于毫米波頻段的基片集成陣列天線(xiàn),包括從上往下依次層疊設(shè)置的第一金屬覆銅層(I)、第一介質(zhì)層(2)、第二金屬覆銅層(3)、第二介質(zhì)層(4)和第三金屬覆銅層(5),其特征在于:所述第一介質(zhì)層(2)上設(shè)置有多個(gè)輻射單元,所述每個(gè)輻射單元包括設(shè)置在第一介質(zhì)層(2 )上的輻射通孔(6 )并且所述輻射通孔(6 )貫穿第一金屬覆銅層(I)、第一介質(zhì)層(2);所述第二介質(zhì)層(4)上設(shè)置有多個(gè)耦合饋電單元,所述多個(gè)耦合饋電單元分別與多個(gè)輻射單元一一對(duì)應(yīng),所述每個(gè)耦合饋電單元包括第一基片集成波導(dǎo)單元和饋電單元,在第二介質(zhì)層(4)上設(shè)置U形金屬化通孔陣列并且所述U形金屬化通孔陣列貫穿第二金屬覆銅層(3)、第二介質(zhì)層(4)和第三金屬覆銅層(5)形成所述第一基片集成波導(dǎo)單元,所述U形金屬化通孔陣列包括兩排平行于第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的金屬化通孔(7)和一排垂直于第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的金屬化通孔(7),所述饋電單元包括兩條設(shè)置在第二金屬覆銅層(3)上并且平行于第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的縫隙,分別為第一縫隙(8)、第二縫隙(9 ),第一縫隙(8 )的長(zhǎng)度小于第二縫隙(9 )的長(zhǎng)度,第一縫隙(8 )、第二縫隙(9 )位于U形金屬化通孔陣列圍成的U形空間內(nèi)并且位于輻射通孔(6)下方,第一縫隙(8)與第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)之間的距離和第二縫隙(9)距離第一基片集成波導(dǎo)單元中心線(xiàn)的距離不相同;所述第二介質(zhì)層(4)上還設(shè)置有用于給每個(gè)耦合饋電單元饋電的功分器網(wǎng)絡(luò)。
4.如權(quán)利要求3所述的用于毫米波頻段的基片集成陣列天線(xiàn),其特征在于:所述功分器網(wǎng)絡(luò)由多級(jí)子網(wǎng)絡(luò)構(gòu)成,每一級(jí)子網(wǎng)絡(luò)包括多個(gè)“T”形頭,上一級(jí)子網(wǎng)絡(luò)的“T”形頭的兩個(gè)輸出端分別與下一級(jí)子網(wǎng)絡(luò)的兩個(gè)“T”形頭的輸入端連接,周期排列下去共同組成功分器網(wǎng)絡(luò),所述“T”形頭由三個(gè)第二基片集成波導(dǎo)單元組成,在第二介質(zhì)層(4)上設(shè)置兩排金屬化通孔(7)并且所述金屬化通孔(7)貫穿第二金屬覆銅層(3)、第二介質(zhì)層(4)和第三金屬覆銅層(5)形成所述第二基片集成波導(dǎo)單元。
5.如權(quán)利要求4所述的用于毫米波頻段的基片集成陣列天線(xiàn),其特征在于:所述輻射通孔(6)的橫截面為圓形。
【文檔編號(hào)】H01Q5/10GK103594779SQ201310598107
【公開(kāi)日】2014年2月19日 申請(qǐng)日期:2013年11月22日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月22日
【發(fā)明者】程鈺間, 王磊, 吳杰, 黃偉娜 申請(qǐng)人:電子科技大學(xué)
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