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酸性成分生成器的制造方法

文檔序號:7251942閱讀:377來源:國知局
酸性成分生成器的制造方法
【專利摘要】一種酸性成分生成器,包括放電電極(1)和電壓施加部件(3)。電壓施加部件(3)用于對放電電極(1)施加高頻電壓以發(fā)生放電,由此生成酸性成分。
【專利說明】酸性成分生成器
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及一種酸性成分生成器,用于放電以生成酸性成分。
【背景技術(shù)】
[0002]作為現(xiàn)有技術(shù),例如,JP2010-196959公開了一種裝置,其用于放電以生成諸如硝酸根離子或者氮氧化物等的酸性成分。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為了放電以生成大量酸性成分,可以想到要增大施加至電極的電壓,但是在這種情況下,存在可能發(fā)生電弧放電的擔(dān)心。在發(fā)生這樣的電弧放電的情況下,作為能量消耗浪費的結(jié)果,難以生成大量的酸性成分。此外,存在不可控制的放電和產(chǎn)生聲音的問題。
[0004]考慮到上述情況作出本發(fā)明,并且本發(fā)明的目的在于提供一種酸性成分生成器,其使得能夠在抑制電弧放電的發(fā)生的情況下生成大量酸性成分。
[0005]本發(fā)明的酸性成分生成器包括放電電極和電壓施加部件。電壓施加部件用于對放電電極施加高頻電壓以放電,由此生成酸性成分。
[0006]本發(fā)明的其它酸性成分生成器包括放電電極、與放電電極相對的對向電極以及電壓施加部件。電壓施加部件用于向?qū)ο螂姌O施加高頻電壓以發(fā)生放電,由此生成酸性成分。
[0007]此外,電壓施加部件優(yōu)選為用于施加具有在50kHz到250kHz范圍內(nèi)的頻率的高頻電壓。
[0008]此外,電壓施加部件優(yōu)選為用于施加高頻交流電壓。
[0009]根據(jù)本發(fā)明,能夠在抑制電弧放電的發(fā)生的情況下生成大量酸性成分。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1是示出第一實施例的酸性成分生成器的說明圖;
[0011]圖2是示出通過電壓施加部件獲得的電壓波形的圖,其中電壓施加部件用于施加中心值位于OV的交流電壓;
[0012]圖3是示出通過電壓施加部件獲得的電壓波形的圖,其中電壓施加部件用于施加中心值為負(fù)的交流電壓;
[0013]圖4是示出通過電壓施加部件獲得的電壓波形的圖,其中電壓施加部件用于施加始終為負(fù)電壓的電壓;
[0014]圖5是示出通過用于施加負(fù)電壓的電壓施加部件獲得的電壓波形的圖,其中放電開始電壓處在所施加的負(fù)電壓的振幅范圍內(nèi);
[0015]圖6是示出通過電壓施加部件獲得的電壓波形的圖,其中電壓施加部件用于施加比放電開始電壓高的負(fù)電壓;以及
[0016]圖7是示出第二實施例的酸性成分生成器的說明圖?!揪唧w實施方式】
[0017]將參考【專利附圖】
附圖
【附圖說明】本發(fā)明的實施例。
[0018]第一實施例
[0019]圖1中所示的第一實施例的酸性成分生成器包括放電電極1、與放電電極I相對的對向電極2以及用于對放電電極I施加電壓的電壓施加部件3。
[0020]放電電極I由金屬制成,但是對其形狀沒有特別限制。作為例子,放電電極I可以是頭部“T”呈圓錐狀變尖的棒狀的電極。
[0021]對向電極2形成為圓環(huán)狀,并且設(shè)置在與放電電極I的頭部相對的位置并且對向電極2接地。此外,對向電極2用于在對向電極2與放電電極I之間生成電位差。S卩,從電壓施加部件3所施加的電壓將從對向電極2朝向外部放電。
[0022]電壓施加部件3例如由包括壓電元件的振蕩電路等形成。電壓施加部件3連接至放電電極I。
[0023]從電壓施加部件3施加至放電電極I的電壓是具有在50kHz至250kHz的范圍內(nèi)的頻率的高頻電壓。在以上電壓的頻率小于50kHz的情況下,因為在大氣中生成的諸如氮離子和氧離子等的空氣離子在放電電極I的頭部“T”與對向電極2這些電極之間難以補(bǔ)充,因而存在不能有效率地生成酸性成分的可能性。此外,在頻率大于250kHz的情況下,由于放電的狀態(tài)的變化,因此存在傾向于發(fā)生電弧放電的可能性。盡管上述電壓是如圖2所示中心值位于OV的交流電壓,但是電壓可以是如圖3所示中心值為負(fù)的交流電壓。此外,如圖4所示,電壓可以始終為負(fù)電壓。此外,電壓是高頻電壓,但其波形不限于正弦波。在這種情況下,優(yōu)選將作為相對于中心值“S”的電位差的振幅“P”設(shè)置為絕對值在IkV到5kV的范圍內(nèi)。
[0024]電壓施加部件3用于向放電電極I施加高頻電壓以發(fā)生放電,并且因此能夠生成諸如硝酸根離子或者二氧化氮等的氮氧化物等的酸性成分。將把諸如二氧化氮或者硝酸根離子等的酸性成分例如供給至頭發(fā)、皮膚、頭皮等。已知在健康的頭發(fā)、皮膚、頭皮等具有堿性的情況下,其對諸如細(xì)菌和真菌等的微生物的抵抗力變?nèi)酢Mㄟ^將所生成的酸性成分供給至頭發(fā)、皮膚、頭皮等,頭發(fā)、皮膚、頭皮等能夠變?yōu)榫哂腥跛嵝浴?br> [0025]在本實施例中,為了放電,將高頻電壓施加至放電電極I,并且因此能夠抑制放電向電弧放電的轉(zhuǎn)變。即,如圖2和3中所示,在施加至放電電極I的電壓是高頻電壓以及交流電壓的情況下,通過作為高頻電壓并且在正負(fù)之間交替變化的交流電壓的影響,在放電電極I的頭部“T”與對向電極2之間的空間中補(bǔ)充在大氣中生成的諸如氮離子和氧離子等的空氣離子。因此,由于穩(wěn)定地消耗大量能量以生成酸性成分并且抑制了電弧放電,因此能夠生成大量酸性成分。此外,所施加的電壓暫時比放電開始電壓“A”低,并且因此防止電弧放電繼續(xù)發(fā)生。
[0026]即使如圖4中所示在施加至放電電極I的電壓始終為負(fù)電壓的情況下,也能夠抑制放電向電弧放電的轉(zhuǎn)變。例如,在如圖5中所示施加的電壓在正向上的最大值超過放電開始電壓“A”的情況下,與上面相似,由于所施加的電壓暫時比放電開始電壓“A”低,因此防止電弧放電繼續(xù)發(fā)生。對于這種情況,優(yōu)選為將作為相對于中心值“S”的電位差的振幅“P”設(shè)置為絕對值在IkV到5kV的范圍內(nèi)。
[0027]即使在如圖6中所示施加的電壓比放電開始電壓“A”高的情況下,根據(jù)如下理由也能防止電弧放電繼續(xù)發(fā)生。即,在施加的電壓是直流電壓的情況下,只在電極之間最近距離處的一點發(fā)生放電。另一方面,在施加的電壓為具有在50kHz到250kHz的范圍內(nèi)的頻率的高頻電壓的情況下,由于不僅考慮到電極之間的電阻值還有電容器的電容等、電極之間的距離的小的差異不顯現(xiàn)阻抗(電阻)的差異,因此在許多點處發(fā)生放電。因此,在施加的電壓為高頻電壓的情況下,能夠抑制向電弧放電的轉(zhuǎn)變。此外,在這種情況下,也優(yōu)選將作為相對于中心值“S”的電位差的振幅“P”設(shè)置為絕對值在IkV到5kV的范圍內(nèi)。
[0028]此外在本實施例中,由于電壓施加部件3用于施加具有在50kHz到250kHz的范圍內(nèi)的頻率的高頻電壓,因此能夠生成大量的酸性成分并且也能夠減小電壓施加部件3的成本和大小。
[0029]此外,為了加強(qiáng)在對向電極2與放電電極I之間的電場強(qiáng)度以生成大量的酸性成分而設(shè)置了本實施例的對向電極2,并且可以省略對向電極2。
[0030]第二實施例
[0031]現(xiàn)在說明第二實施例。在以下實施例中,對同種元件分配與第一實施例中所描述的相同的附圖標(biāo)記,并且省略重復(fù)的說明。
[0032]在根據(jù)圖7中示出的本實施例的酸性成分生成器中,電壓施加部件3連接至對向電極2,并且將放電電極I接地。放電電極I也用于在放電電極I與對向電極2之間形成電位差。即,從電壓施加部件3所施加的電壓將從放電電極I向外部放電。從電壓施加部件3施加至對向電極2的電壓與第一實施例同樣是如圖2至6中所示的高頻電壓,并且也與第一實施例同樣具有在50kHz到250kHz的范圍內(nèi)的頻率。對于這種情況,也優(yōu)選將作為相對于中心值“S”的電位差的振幅“P”設(shè)置為絕對值在IkV到5kV的范圍內(nèi)。
[0033]在本實施例中,與第一實施例同樣能夠抑制電弧放電并且能夠生成大量的酸性成分。
[0034]此外,在上述的各個實施例中,從電壓施加部件3施加至放電電極I或者對向電極2的電壓可以是具有在50kHz到250kHz的范圍以外的頻率的高頻電壓。
【權(quán)利要求】
1.一種酸性成分生成器,包括: 放電電極;以及 電壓施加部件, 其中, 所述電壓施加部件用于對所述放電電極施加高頻電壓以發(fā)生放電,由此生成酸性成分。
2.—種酸性成分生成器,包括: 放電電極; 與所述放電電極相對的對向電極;以及 電壓施加部件, 其中, 所述電壓施加部件用于對所述對向電極施加高頻電壓以發(fā)生放電,由此生成酸性成分。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的酸性成分生成器,其中, 所述電壓施加部件施加的電壓的頻率為50kHz?250kHz。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的酸性成分生成器,其中, 所述電壓施加部件施加的電壓的頻率為50kHz?250kHz。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任何一項所述的酸性成分生成器,其中, 所述電壓施加部件施加的電壓是交流。
【文檔編號】H01T23/00GK103764274SQ201280042234
【公開日】2014年4月30日 申請日期:2012年8月30日 優(yōu)先權(quán)日:2011年9月30日
【發(fā)明者】小村泰浩, 須田洋, 淺野幸康, 今井健之, 三島有紀(jì)子, 大江純平, 住元彩香 申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社
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