專利名稱：一種導(dǎo)電銅排的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
一種導(dǎo)電銅排技術(shù)領(lǐng)域[0001]本實(shí)用新型屬于有色金屬壓力加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種導(dǎo)電銅排。
背景技術(shù)：
[0002]銅排是一種大電流導(dǎo)電產(chǎn)品，具有電阻率低、可折彎度大等優(yōu)點(diǎn)，適用于高低壓電器、開關(guān)觸頭、配電設(shè)備、母線槽等電器工程，也廣泛用于金屬冶煉、電化電鍍、化工燒堿等超大電流電解冶煉工程。[0003]濕法冶金、電化電鍍、化工燒堿所采用的電解、電鍍工藝，每一臺電解槽中均安放有大量的電極板，相鄰兩臺電解槽采用并聯(lián)連接，同一臺槽中的相鄰的兩塊電極板之間的間距為極距，極距的大小對電解工藝、電解制品質(zhì)量、電解過程的經(jīng)濟(jì)技術(shù)指標(biāo)均有很大影響。在濕法冶金、電化電鍍、化工燒堿領(lǐng)域廣泛應(yīng)用的導(dǎo)電銅排，一般為矩形斷面，既要承重又要導(dǎo)電，在使用過程中，由于變形、扭曲，無法安放電極板，影響電解工藝的穩(wěn)定，使電解制品質(zhì)量波動，也惡化電解技術(shù)指標(biāo)，見圖1中的銅排7。實(shí)用新型內(nèi)容[0004]本實(shí)用新型就是針對現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，提供一種導(dǎo)電銅排。[0005]上述目的是通過下述方案實(shí)現(xiàn)的[0006]一種導(dǎo)電銅排，其特征在于，在所述銅排表面形成有兩個半圓形凸起，該兩個半圓形凸起分別沿著所述銅排的長度方向設(shè)在銅排的兩側(cè)。[0007]本實(shí)用新型的有益效果該導(dǎo)電銅排應(yīng)用于濕法冶金、電化電鍍、化工燒堿所采用的電解、電鍍電解 槽中，銅排上一個半圓形凸起，用于一臺電解槽中安放電極板；另一個半圓形凸起用于相鄰電解槽中安放電極板；在同一個導(dǎo)電銅排上實(shí)現(xiàn)相鄰兩臺電解槽并聯(lián)連接，同一臺槽中的相鄰的兩塊電極板之間的極距穩(wěn)定，電解工藝穩(wěn)定、電解制品質(zhì)量穩(wěn)定、 電解過程的經(jīng)濟(jì)技術(shù)指標(biāo)得到優(yōu)化。


[0008]圖1是現(xiàn)有技術(shù)的銅排結(jié)構(gòu)示意圖；[0009]圖2是本實(shí)用新型的橫截面結(jié)構(gòu)示意圖；[0010]圖3導(dǎo)電銅排在電解槽上的應(yīng)用。
具體實(shí)施方式
[0011]參見圖2，本實(shí)用新型的銅排的表面上形成有兩個半圓形凸起1，該兩個半圓形凸起I分別沿著銅排的長度方向設(shè)在銅排的兩側(cè)。[0012]導(dǎo)電銅排生產(chǎn)工藝[0013](I) T2紫銅錠的熔煉與鑄造以標(biāo)準(zhǔn)陰極銅為原料，采用工頻感應(yīng)爐熔煉、立式半連續(xù)鑄造Τ2Φ310πιπι鑄錠。熔煉過程使用經(jīng)煅燒過的木炭作覆蓋劑，可添加微量Mg或者M(jìn)n作脫氧劑。在煤氣或氮?dú)獗Ｗo(hù)下進(jìn)行熔體轉(zhuǎn)注和澆鑄作業(yè)，也可用碳粉覆蓋澆注，得到 Φ310πιπι鑄錠。對鑄錠進(jìn)行表面質(zhì)量檢驗(yàn)、定尺鋸切，得到0 260X700mm/mm的擠壓錠坯。[0014]⑵加熱、擠壓T2紫銅短錠在感應(yīng)加熱-電阻均熱爐上進(jìn)行加熱，加熱溫度 750-880°C(要求錠坯頭尾溫差蘭8°C，芯表溫差蘭10°C )，模具預(yù)熱溫度設(shè)定為350_380°C。 采用55MN擠壓機(jī)將錠坯進(jìn)行水封擠壓，擠壓系數(shù)λ =21. 27，擠壓速度設(shè)定為25mm/s，得到斷面尺寸為260Xllmm/_的大規(guī)格異型導(dǎo)電銅排擠制還料。[0015]⑶將銅排擠制坯料進(jìn)行酸洗一水洗一堿洗一熱水洗，隨后進(jìn)行張力矯直、表面質(zhì)量檢驗(yàn)、制作拉伸頭，在100-300噸液壓拉伸機(jī)上進(jìn)行拉伸，得到斷面尺寸為260X10mm/mm 的硬態(tài)導(dǎo)電銅排。拉伸延伸系數(shù)和加工率分別為1.1和8-10%。[0016]⑷導(dǎo)電銅排在濕法冶金、電化電鍍、化工燒堿電解槽中應(yīng)用，銅排上一個半圓形凸起，用于一臺電解槽中安放電極板；另一個半圓形凸起用于相鄰電解槽中安放電極板；在同一個導(dǎo)電銅排2上實(shí)現(xiàn)相鄰兩臺電解槽3和6并聯(lián)連接，同一臺槽中的相鄰的兩塊電極板4、5之間的極距穩(wěn)定，電解工藝穩(wěn)定、電解制品質(zhì)量穩(wěn)定、電解過程的經(jīng)濟(jì)技術(shù)指標(biāo)得到優(yōu)化。見圖3。·
權(quán)利要求1. 一種導(dǎo)電銅排，其特征在于，在所述銅排表面形成有兩個半圓形凸起，該兩個半圓形凸起分別沿著所述銅排的長度方向設(shè)在銅排的兩側(cè)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種導(dǎo)電銅排，在所述銅排表面形成有兩個半圓形凸起，該兩個半圓形凸起分別沿著所述銅排的長度方向設(shè)在銅排的兩側(cè)。該導(dǎo)電銅排應(yīng)用于濕法冶金、電化電鍍、化工燒堿所采用的電解、電鍍電解槽中，銅排上一個半圓形凸起，用于一臺電解槽中安放電極板；另一個半圓形凸起用于相鄰電解槽中安放電極板；在同一個導(dǎo)電銅排上實(shí)現(xiàn)相鄰兩臺電解槽并聯(lián)連接，同一臺槽中的相鄰的兩塊電極板之間的極距穩(wěn)定，電解工藝穩(wěn)定、電解制品質(zhì)量穩(wěn)定、電解過程的經(jīng)濟(jì)技術(shù)指標(biāo)得到優(yōu)化。
文檔編號H01B13/00GK202855333SQ201220158348
公開日2013年4月3日 申請日期2012年4月16日 優(yōu)先權(quán)日2012年4月16日
發(fā)明者賀永東, 楊志強(qiáng), 劉玉強(qiáng), 宋瑞麗 申請人:金川集團(tuán)股份有限公司