專利名稱：有機層沉積設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
根據(jù)本發(fā)明的實施例的一個或多個方面涉及一種有機層沉積設(shè)備和一種通過利用該有機層沉積設(shè)備來制造有機發(fā)光顯示裝置的方法。
背景技術(shù)：
有機發(fā)光顯示裝置與其他顯示裝置相比具有較大的視角、較好的對比度特性和較快的響應(yīng)速度，因此作為下一代顯示裝置而備受關(guān)注。有機發(fā)光顯示裝置包括位于彼此相對布置的第一電極和第二電極之間的中間層，該中間層包括發(fā)射層。電極和中間層可以通過各種方法形成，方法之一是執(zhí)行用于電極和中間層中的每一個的單獨的沉積方法。當(dāng)通過使用這樣的單獨的沉積方法來制造有機發(fā)光顯示裝置時，通常將具有與將要形成的有機層的圖案相同的圖案的精細(xì)金屬掩模(FMM)設(shè)置成緊密地接觸基板，并且在FMM上方進(jìn)行有機材料的沉積，以形成具有期望圖案的有機層。

發(fā)明內(nèi)容
為了解決使用FMM的單獨的沉積方法的缺點，根據(jù)本發(fā)明實施例的一個或多個方面提供了一種可以簡單地應(yīng)用于大規(guī)模制造大尺寸的顯示裝置并且可以在沉積工藝期間相對于基板精確地對準(zhǔn)的有機層沉積設(shè)備。根據(jù)本發(fā)明實施例的一個方面，提供了一種用來在基板上形成有機層的有機層沉積設(shè)備。所述有機層沉積設(shè)備包括沉積源，被構(gòu)造為排放沉積材料；沉積源噴嘴單元，設(shè)置在沉積源的一側(cè)并且包括沿著第一方向布置的多個沉積源噴嘴；圖案化縫隙片，與沉積源噴嘴單元相對地設(shè)置并且具有沿著垂直于第一方向的第二方向布置的多個圖案化縫隙。圖案化縫隙片在第一方向和第二方向中的至少一個方向上比基板小。在基板與圖案化縫隙片隔開并且相對于有機層沉積設(shè)備沿著第一方向移動的同時執(zhí)行沉積。圖案化縫隙片包括彼此隔開設(shè)置的第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記?；灏ū舜烁糸_設(shè)置的第一對準(zhǔn)圖案和第二對準(zhǔn)圖案。所述有機層沉積設(shè)備還包括用來拍攝第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第一對準(zhǔn)圖案的第一相機組件以及用來拍攝第二對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)圖案的第二相機組件?；宓囊苿铀俣扰c第一相機組件和第二相機組件的拍攝速度同步，從而當(dāng)基板與有機層沉積設(shè)備適當(dāng)?shù)貙?zhǔn)時，被第一相機組件捕獲的第一對準(zhǔn)圖案的圖像基本彼此相同，被第二相機組件捕獲的第二對準(zhǔn)圖案的圖像基本彼此相同。沉積源、沉積源噴嘴單元和圖案化縫隙片可以整體化地形成為一體。沉積源和沉積源噴嘴單元與圖案化縫隙片可以通過引導(dǎo)沉積材料的移動的連接構(gòu)件整體化地連接為一體。
連接構(gòu)件可以形成為密封沉積源、沉積源噴嘴單元和圖案化縫隙片之間的空間。所述多個沉積源噴嘴可以以一定的角度傾斜。所述多個沉積源噴嘴可以包括沿著第一方向布置成兩行的沉積源噴嘴。所述兩行的沉積源噴嘴可以傾斜成相互面對。所述多個沉積源噴嘴可以包括沿著第一方向布置成兩行的沉積源噴嘴，所述兩行中的位于沉積源噴嘴單元的第一側(cè)的一行的沉積源噴嘴可以布置成面向圖案化縫隙片的第二側(cè)，所述兩行中的位于沉積源噴嘴單元的第二側(cè)的另一行的沉積源噴嘴可以布置成面向圖案化縫隙片的第一側(cè)。第一對準(zhǔn)圖案可以包括沿著第一方向布置的多個第一標(biāo)記，第二對準(zhǔn)圖案可以包括沿著第一方向布置的多個第二標(biāo)記，第一對準(zhǔn)圖案和第二對準(zhǔn)圖案可以在第二方向上彼此分隔開。
所述多個第一標(biāo)記的形狀和尺寸與所述多個第二標(biāo)記的形狀和尺寸可以相同。所述多個第一標(biāo)記之間的距離與所述多個第二標(biāo)記之間的距離可以基本相等。所述多個第一標(biāo)記和所述多個第二標(biāo)記中的每個標(biāo)記可以具有十字形的形狀。所述多個第一標(biāo)記和所述多個第二標(biāo)記中的每個標(biāo)記可以具有多邊形形狀。所述多個第一標(biāo)記和所述多個第二標(biāo)記中的每個標(biāo)記可以具有三角形形狀。第一對準(zhǔn)圖案和第二對準(zhǔn)圖案可以具有鋸齒形形狀。基板可以沿著第一方向以基本均勻的速率移動，第一相機組件和第二相機組件可以分別以一定的時間間隔拍攝第一對準(zhǔn)圖案和第二對準(zhǔn)圖案，第一相機組件可以捕獲均包含第一對準(zhǔn)圖案的多個圖像，第二相機組件可以捕獲均包含第二對準(zhǔn)圖案的多個圖像，其中，包含第二對準(zhǔn)圖案的圖像的個數(shù)等于包含第一對準(zhǔn)圖案的圖像的個數(shù)。第一相機組件和第二相機組件可以位于基板上方，以分別對應(yīng)于第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記。所述有機層沉積設(shè)備還可以包括控制器，所述控制器基于由第一相機組件和第二相機組件捕獲的信息來確定基板和圖案化縫隙片彼此對準(zhǔn)的程度。通過將由第一相機組件拍攝的第一對準(zhǔn)圖案和第一對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像之間的第一距離與由第二相機組件拍攝的第二對準(zhǔn)圖案與第二對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像之間的第二距離進(jìn)行比較，控制器可以確定基板和圖案化縫隙片在垂直于第一方向的第二方向上彼此對準(zhǔn)的程度。通過將由第一相機組件捕獲的第一對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像與由第二相機組件捕獲的第二對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像進(jìn)行比較，控制器可以確定圖案化縫隙片在第一方向上是否傾斜?？刂破骺梢源_定第一對準(zhǔn)標(biāo)記的被捕獲圖像和第二對準(zhǔn)標(biāo)記的被捕獲圖像在第一方向上的位置之間的差異，可以在第二對準(zhǔn)標(biāo)記的被捕獲圖像位于第一對準(zhǔn)標(biāo)記的被捕獲圖像的前面時確定圖案化縫隙片在第一方向上朝著第一對準(zhǔn)標(biāo)記傾斜，并且可以在第二對準(zhǔn)標(biāo)記的被捕獲圖像位于第一對準(zhǔn)標(biāo)記的被捕獲圖像的后面時確定圖案化縫隙片在第一方向上朝著第二對準(zhǔn)標(biāo)記傾斜。通過將第一對準(zhǔn)圖案的被第一相機組件捕獲的圖像與第二對準(zhǔn)圖案的被第二相機組件捕獲的圖像進(jìn)行比較，控制器可以確定基板在第一方向上是否傾斜?？刂破骺梢源_定第一對準(zhǔn)圖案的被捕獲圖像和第二對準(zhǔn)圖案的被捕獲圖像在第一方向上的位置之間的差異，可以在第二對準(zhǔn)圖案的被捕獲圖像位于第一對準(zhǔn)圖案的被捕獲圖像的前面時確定基板在第一方向上朝著第一對準(zhǔn)圖案傾斜，并且可以在第二對準(zhǔn)圖案的被捕獲圖像位于第一對準(zhǔn)圖案的被捕獲圖像的后面時確定基板在第一方向上朝著第二對準(zhǔn)圖案傾斜?；谕ㄟ^控制器確定的對準(zhǔn)的程度，可以通過移動基板或圖案化縫隙片使基板和圖案化縫隙片彼此對準(zhǔn)。圖案化縫隙片還可以包括在第一方向上與第一對準(zhǔn)標(biāo)記分隔開的第三對準(zhǔn)標(biāo)記和在第一方向上與第二對準(zhǔn)標(biāo)記分隔開的第四對準(zhǔn)標(biāo)記。第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第三對準(zhǔn)標(biāo)記之間的距離可以等于第二對準(zhǔn)標(biāo)記和第四對準(zhǔn)標(biāo)記之間的距離。第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記可以沿著第二方向相互分隔開，第三對準(zhǔn)標(biāo)記和第 四對準(zhǔn)標(biāo)記可以沿著第二方向相互分隔開。第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記之間的距離可以基本等于第三對準(zhǔn)標(biāo)記和第四對準(zhǔn)標(biāo)記之間的距離。所述有機層沉積設(shè)備還可以包括第三相機組件和第四相機組件。第三相機組件和第四相機組件可以位于基板上方，以分別對應(yīng)于第三對準(zhǔn)標(biāo)記和第四對準(zhǔn)標(biāo)記。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種用來在基板上形成有機層的有機層沉積設(shè)備，所述有機層沉積設(shè)備包括沉積源，被構(gòu)造為排放沉積材料；沉積源噴嘴單元，設(shè)置在沉積源的一側(cè)并且包括沿著第一方向布置的多個沉積源噴嘴；圖案化縫隙片，與沉積源噴嘴單元相對地設(shè)置并且具有沿著第一方向布置的多個圖案化縫隙，圖案化縫隙片在第一方向和基本垂直于第一方向的第二方向中的至少一個方向上比基板小；障礙板組件，包括多個障礙板，所述多個障礙板沿著第一方向位于沉積源噴嘴單元和圖案化縫隙片之間并且將沉積源噴嘴單元和圖案化縫隙片之間的沉積空間劃分為多個子沉積空間。有機層沉積設(shè)備和基板相互分隔開。有機層沉積設(shè)備或基板在沉積過程中相對于另一者移動。基板包括彼此隔開設(shè)置的第一對準(zhǔn)圖案和第二對準(zhǔn)圖案。圖案化縫隙片包括彼此隔開設(shè)置的第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記。所述有機層沉積設(shè)備還包括用來拍攝第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第一對準(zhǔn)圖案的第一相機組件以及用來拍攝第二對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)圖案的第二相機組件?；宓囊苿铀俣扰c第一相機組件和第二相機組件的拍攝速度同步，從而當(dāng)基板與有機層沉積設(shè)備適當(dāng)?shù)貙?zhǔn)時，被一相機組件捕獲的第一對準(zhǔn)圖案的圖像基本彼此相同，被第二相機組件捕獲的第二對準(zhǔn)圖案的圖像基本彼此相同。所述多個障礙板可以沿著基本垂直于第一方向的第二方向延伸。障礙板組件可以包括第一障礙板組件和第二障礙板組件，第一障礙板組件包括多個第一障礙板，第二障礙板組件包括多個第二障礙板。所述多個第一障礙板和所述多個第二障礙板可以沿著基本垂直于第一方向的第二方向延伸。所述多個第一障礙板可以被布置成分別對應(yīng)于所述多個第二障礙板。第一對準(zhǔn)圖案可以包括沿著第二方向布置的多個第一標(biāo)記。第二對準(zhǔn)圖案可以包括沿著第二方向布置的多個第二標(biāo)記。第一對準(zhǔn)圖案和第二對準(zhǔn)圖案可以在第一方向上彼此分隔開。
所述多個第一標(biāo)記的形狀和尺寸與所述多個第二標(biāo)記的形狀和尺寸可以相同。所述多個第一標(biāo)記之間的距離與所述多個第二標(biāo)記之間的距離可以相等。所述多個第一標(biāo)記和所述多個第二標(biāo)記中的每個標(biāo)記可以具有十字形的形狀。所述多個第一標(biāo)記和所述多個第二標(biāo)記中的每個標(biāo)記可以具有多邊形形狀。基板可以沿著第二方向以基本均勻的速率移動，第一相機組件和第二相機組件可以分別以一定的時間間隔拍攝第一對準(zhǔn)圖案和第二對準(zhǔn)圖案，第一相機組件可以捕獲均包含第一對準(zhǔn)圖案的多個圖像，第二相機組件可以捕獲均包含第二對準(zhǔn)圖案的多個圖像，其中，包含第二對準(zhǔn)圖案的圖像的個數(shù)等于包含第一對準(zhǔn)圖案的圖像的個數(shù)。
第一相機組件和第二相機組件可以位于基板上方，以分別對應(yīng)于第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記。所述有機層沉積設(shè)備還可以包括控制器，所述控制器基于由第一相機組件和第二相機組件捕獲的信息來確定基板和圖案化縫隙片彼此對準(zhǔn)的程度。通過將由第一相機組件拍攝的第一對準(zhǔn)圖案和第一對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像之間的第一距離與由第二相機組件拍攝的第二對準(zhǔn)圖案與第二對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像之間的第二距離進(jìn)行比較，控制器可以確定基板和圖案化縫隙片在第一方向上彼此對準(zhǔn)的程度。通過將由第一相機組件捕獲的第一對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像與由第二相機組件捕獲的第二對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像進(jìn)行比較，控制器可以確定圖案化縫隙片在第二方向上是否傾斜?？刂破骺梢源_定第一對準(zhǔn)標(biāo)記的被捕獲圖像和第二對準(zhǔn)標(biāo)記的被捕獲圖像在第二方向上的位置之間的差異，可以在第二對準(zhǔn)標(biāo)記的被捕獲圖像位于第一對準(zhǔn)標(biāo)記的被捕獲圖像的前面時確定圖案化縫隙片在第二方向上朝著第一對準(zhǔn)標(biāo)記傾斜，并且可以在第二對準(zhǔn)標(biāo)記的被捕獲圖像位于第一對準(zhǔn)標(biāo)記的被捕獲圖像的后面時確定圖案化縫隙片在第二方向上朝著第二對準(zhǔn)標(biāo)記傾斜。通過將第一對準(zhǔn)圖案的被第一相機組件捕獲的圖像與第二對準(zhǔn)圖案的被第二相機組件捕獲的圖像進(jìn)行比較，控制器可以確定基板在第二方向上是否傾斜?？刂破骺梢源_定第一對準(zhǔn)圖案的被捕獲圖像和第二對準(zhǔn)圖案的被捕獲圖像在第二方向上的位置之間的差異，可以在第二對準(zhǔn)圖案的被捕獲圖像位于第一對準(zhǔn)圖案的被捕獲圖像的前面時確定基板在第二方向上朝著第一對準(zhǔn)圖案傾斜，并且可以在第二對準(zhǔn)圖案的被捕獲圖像位于第一對準(zhǔn)圖案的被捕獲圖像的后面時確定基板在第二方向上朝著第二對準(zhǔn)圖案傾斜?；谕ㄟ^控制器確定的對準(zhǔn)的程度，可以通過移動基板或圖案化縫隙片使基板和圖案化縫隙片彼此對準(zhǔn)。圖案化縫隙片還可以包括在第二方向上與第一對準(zhǔn)標(biāo)記分隔開的第三對準(zhǔn)標(biāo)記和在第二方向上與第二對準(zhǔn)標(biāo)記分隔開的第四對準(zhǔn)標(biāo)記。所述有機層沉積設(shè)備還可以包括第三相機組件和第四相機組件。第三相機組件和第四相機組件可以位于基板上方，以分別對應(yīng)于第三對準(zhǔn)標(biāo)記和第四對準(zhǔn)標(biāo)記。


通過參照附圖來詳細(xì)地描述本發(fā)明的示例性實施例，本發(fā)明的以上和其他特征將變得更加清楚，在附圖中
圖I是根據(jù)本發(fā)明實施例的包括有機層沉積設(shè)備的有機層沉積系統(tǒng)的示意圖；圖2示出了圖I的有機層沉積系統(tǒng)的修改示例；圖3是根據(jù)本發(fā)明實施例的有機層沉積設(shè)備的示意性透視圖；圖4是沿著與YZ平面平行的平面截取的圖3的有機層沉積設(shè)備的示意性剖視圖；圖5是沿著與XZ平面平行的平面截取的圖3的有機層沉積設(shè)備的示意性剖視圖；圖6是示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的基板和圖案化縫隙片的布置的平面圖；圖7是示出了圖6的布置的修改示例的平面圖；圖8示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的分別用圖3中的第一相機組件161和第二相機組件162捕獲的第一對準(zhǔn)圖案502和第二對準(zhǔn)圖案503的圖像； 圖9示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的當(dāng)圖3中的基板和圖案化縫隙片在第一方向上彼此適當(dāng)?shù)貙?zhǔn)時的第一對準(zhǔn)圖案和第二對準(zhǔn)圖案與第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記的布置；圖10示出了當(dāng)圖3中的基板500沿X軸方向移動時的第一對準(zhǔn)圖案502和第二對準(zhǔn)圖案503與第一對準(zhǔn)標(biāo)記152和第二對準(zhǔn)標(biāo)記153的布置；圖11示出了當(dāng)圖3中的圖案化縫隙片沿著用箭頭“ Θ ”指示的方向扭曲時的第一對準(zhǔn)圖案和第二對準(zhǔn)圖案與第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記的布置；圖12示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的當(dāng)圖3中的基板500沿著用箭頭“ Θ ”指示的方向扭曲時的第一對準(zhǔn)圖案502和第二對準(zhǔn)圖案503與第一對準(zhǔn)標(biāo)記152和第二對準(zhǔn)標(biāo)記153的布置；圖13是根據(jù)本發(fā)明另一實施例的有機層沉積設(shè)備IOOa的示意性透視圖；圖14是根據(jù)本發(fā)明另一實施例的有機層沉積設(shè)備的示意性透視圖；圖15是根據(jù)本發(fā)明另一實施例的有機層沉積設(shè)備的示意性透視圖；圖16是根據(jù)本發(fā)明另一實施例的有機層沉積設(shè)備的示意性切開透視圖；圖17是沿著與YZ平面平行的平面截取的圖16的有機層沉積設(shè)備的示意性剖視圖；圖18是沿著與XZ平面平行的平面截取的圖16的有機層沉積設(shè)備的示意性剖視圖；圖19是根據(jù)本發(fā)明另一實施例的有機層沉積設(shè)備的示意性切開透視圖；圖20是根據(jù)本發(fā)明實施例的通過使用有機層沉積設(shè)備制造的有機發(fā)光顯示裝置的剖視圖。
具體實施例方式現(xiàn)在將參照附圖更充分地描述本發(fā)明，在附圖中示出了本發(fā)明的示例性實施例。在附圖中，為了清晰起見，夸大了層和區(qū)域的厚度。附圖中相同的標(biāo)號指示相同的元件，因此可能省略冗余或重復(fù)的描述。通常，使用精細(xì)金屬掩模(FMM)的沉積方法并不適于使用尺寸為5G(SP，IlOOmmX 1300mm)或更大的母玻璃來制造的較大的裝置。換言之，當(dāng)使用這種大的掩模時，掩?？赡苡捎谄渥灾囟鴱澢瑥亩箞D案扭曲。這并不利于近來朝著高清晰度圖案的趨勢。圖I是根據(jù)本發(fā)明實施例的包括有機層沉積設(shè)備的有機層沉積系統(tǒng)的示意圖。圖2示出了圖I的有機層沉積系統(tǒng)的修改示例。參照圖1，有機層沉積系統(tǒng)包括裝載單元710、沉積單元730、卸載單元720、第一輸送器單元610和第二輸送器單元620。裝載單元710可以包括第一架(rack) 712、傳輸機器人714、傳輸室716和第一翻轉(zhuǎn)室718。沒有被施加沉積材料的多個基板500堆疊在第一架712上。傳輸機器人714從第一架712拾取多個基板500中的一個基板500，將該基板500放置在由第二輸送器單元620傳送的靜電吸盤600上，并且將放置有基板500的靜電吸盤600移動到傳輸室716中。第一翻轉(zhuǎn)室718與傳輸室716相鄰地設(shè)置。位于第一翻轉(zhuǎn)室718中的第一翻轉(zhuǎn)機器人719翻轉(zhuǎn)靜電吸盤600，然后將靜電吸盤600裝載到沉積單元730的第一輸送器單元610 中。
參照圖I，傳輸機器人714將多個基板500中的一個基板500放置在靜電吸盤600的上表面上，其上設(shè)置有基板500的靜電吸盤600被裝載到傳輸室716中。第一翻轉(zhuǎn)機器人719翻轉(zhuǎn)靜電吸盤600，使得基板500在沉積單元730中被上下顛倒。卸載單元720被構(gòu)造為按與上述的裝載單元710的方式相反的方式進(jìn)行操作。具體地講，第二翻轉(zhuǎn)室728中的第二翻轉(zhuǎn)機器人729將已經(jīng)穿過沉積單元730的其上具有基板500的靜電吸盤600翻轉(zhuǎn)，然后將其上設(shè)置有基板500的靜電吸盤600移動到排出室726中。然后，排出機器人724將其上設(shè)置有基板500的靜電吸盤600從排出室726取出，將基板500與靜電吸盤600分開，然后將基板500裝載到第二架722上。與基板500分開的靜電吸盤600經(jīng)第二輸送器單元620返回到裝載單元710中。然而，本發(fā)明不限于以上描述。例如，當(dāng)基板500被初始設(shè)置在靜電吸盤600上時，基板500可以被固定到靜電吸盤600的底表面上，然后被移動到沉積單元730中。在這種情況下，例如，不使用第一翻轉(zhuǎn)室718、第一翻轉(zhuǎn)機器人719、第二翻轉(zhuǎn)室728和第二翻轉(zhuǎn)機器人729。沉積單元730可以包括至少一個沉積室。參照圖I，沉積單元730可以包括第一室731，其中，第一有機層沉積設(shè)備至第四有機層沉積設(shè)備100、200、300和400位于第一室731中。雖然圖I示出的是在第一室731中安裝了共四個有機層沉積設(shè)備，即，第一有機層沉積設(shè)備100至第四有機層沉積設(shè)備400，但是可以安裝在第一室731中的有機層沉積設(shè)備的總數(shù)可以根據(jù)沉積材料和沉積條件而變化。在沉積工藝期間，將第一室731保持在真空狀態(tài)。參照圖2，根據(jù)本發(fā)明的另一實施例，沉積單元730可以包括相互連接的第一室731和第二室732，第一有機層沉積設(shè)備100和第二有機層沉積設(shè)備200可以位于第一室731中，第三有機層沉積設(shè)備300和第四有機層沉積設(shè)備400可以位于第二室732中。根據(jù)本發(fā)明的另一實施例，有機層沉積系統(tǒng)可以包括不止兩個室。在圖I示出的實施例中，通過第一輸送器單元610，至少可以將其上設(shè)置有基板500的靜電吸盤600移動到沉積單元730，或者可以將其上設(shè)置有基板500的靜電吸盤600順序地移動到裝載單元710、沉積單元730和卸載單元720。在卸載單元720中與基板500分開的靜電吸盤600在第二輸送器單元620的作用下移回到裝載單元710。圖3是根據(jù)本發(fā)明實施例的有機層沉積設(shè)備100的示意性透視圖。圖4是沿著圖3中示出的有機層沉積設(shè)備100的與YZ平面平行的平面截取的示意性剖視圖。圖5是沿著圖3中示出的有機層沉積設(shè)備的與XZ平面平行的平面截取的示意性剖視圖。參照圖3至圖5，根據(jù)當(dāng)前實施例的有機層沉積設(shè)備100包括沉積源110、沉積源噴嘴單元120、圖案化縫隙片150、第一相機組件161、第二相機組件162和控制器170。具體地講，與使用FMM的沉積方法中一樣，應(yīng)當(dāng)將圖I中的第一室731基本保持在高真空狀態(tài)，從而從沉積源Iio排放的沉積材料115可以穿過沉積源噴嘴單元120和圖案化縫隙片150，然后按期望的圖案沉積到基板500上。另外，圖案化縫隙片150的溫度應(yīng)足夠地低于沉積源110的溫度。為此，圖案化縫隙片150的溫度可以為大約100°C或更低。圖案化縫隙片150的溫度應(yīng)足夠低，以減小圖案化縫隙片150的熱膨脹。作為沉積目標(biāo)基板的基板500設(shè)置在第一室731中?；?00可以為用于平板顯示器的基板。用于制造多個平板顯示器的諸如母玻璃的大基板可以用作基板500。也可以采用其他基板。 在當(dāng)前實施例中，在基板500相對于有機層沉積設(shè)備100移動(例如，連續(xù)地移動)的同時執(zhí)行沉積。具體地講，在普通的FMM沉積方法中，F(xiàn)MM的尺寸通常等于基板的尺寸。因此，由于FMM的尺寸隨著基板變得更大而增加，所以既不易于制造大FMM，也不易于將FMM延展為與圖案精確對準(zhǔn)。為了克服該問題，在根據(jù)當(dāng)前實施例的有機層沉積設(shè)備100中，可以在有機層沉積設(shè)備100或基板500相對于另一者移動的同時執(zhí)行沉積。換句話說，可以在設(shè)置為諸如面對有機層沉積設(shè)備100的基板500沿Y軸方向移動的同時連續(xù)地執(zhí)行沉積。也就是說，可以在基板500沿圖6中的箭頭P指示的方向(即，第一方向)移動的同時以掃描的方式來執(zhí)行沉積。在根據(jù)當(dāng)前實施例的有機層沉積設(shè)備100中，圖案化縫隙片150可以小于(例如，明顯地小于)在傳統(tǒng)的沉積方法中使用的FMM。換句話說，在有機層沉積設(shè)備100中，在基板500沿Y軸方向移動的同時連續(xù)地(即，以掃描的方式)執(zhí)行沉積。因此，圖案化縫隙片150的沿X軸方向和/或Y軸方向的長度可以明顯小于基板500的沿X軸方向和/或Y軸方向的長度。如上所述，因為圖案化縫隙片150可以形成為小于(例如，明顯地小于)在傳統(tǒng)的沉積方法中使用的FMM，所以制造用在本發(fā)明的實施例中的圖案化縫隙片150相對容易。換句話說，與使用較大的FMM的傳統(tǒng)的沉積方法相比，在包括蝕刻和其他后續(xù)工藝(諸如精確延展工藝、焊接工藝、移動工藝和清潔工藝)的所有的工藝中，使用比在傳統(tǒng)的沉積方法中使用的FMM小的圖案化縫隙片150更加方便。例如，這樣對于相對大的顯示設(shè)備能夠更加有利。包含并加熱沉積材料115的沉積源110位于第一室731的與基板500所處的一側(cè)相對的一側(cè)。沉積材料115在于沉積源110中汽化的同時沉積在基板500上。例如，沉積源110包括坩堝112，填充有沉積材料115 ;冷卻阻擋件111，加熱坩堝112以使坩堝112中的沉積材料115朝向坩堝112的側(cè)部汽化，具體地講，朝向沉積源噴嘴單元120汽化。冷卻阻擋件111防止或減少來自坩堝112的熱輻射到外部，即，防止或減少來自坩堝112的熱輻射到室中。冷卻阻擋件111可以包括加熱坩堝112的加熱器(未示出)。
沉積源噴嘴單元120位于沉積源110的側(cè)部處，具體地講，位于沉積源110的面對基板500的側(cè)部處。沉積源噴嘴單元120包括可以沿Y軸方向(即，基板500的掃描方向)按相等的間隔布置的多個沉積源噴嘴121。在沉積源110中汽化的沉積材料115穿過沉積源噴嘴單元120朝向基板500。如上所述，當(dāng)沉積源噴嘴單元120包括沿Y軸方向(即，沿基板500的掃描方向)布置的多個沉積源噴嘴121時，由排放通過圖案化縫隙片150的多個圖案化縫隙151中的每個圖案化縫隙的沉積材料115形成的圖案的尺寸受多個沉積源噴嘴121中的一個沉積源噴嘴的尺寸的影響(這是因為沿X軸方向僅有一個沉積源噴嘴121)。因此，在基板500上可以不形成陰影區(qū)域。此外，因為多個沉積源噴嘴121沿基板500的掃描方向布置，所以即使沉積源噴嘴121之間存在流量差異，也可以補償該差異并且可以恒定地或基本恒定地保持沉積均勻性。圖案化縫隙片150和框架155位于沉積源110和基板500之間。框架155的形狀類似于窗口框架(window frame)。圖案化縫隙片150粘合在框架155的內(nèi)部。圖案化縫隙片150具有沿X軸方向布置的多個圖案化縫隙151。在沉積源110中汽化的沉積材料115穿過沉積源噴嘴單元120和圖案化縫隙片150朝向基板500?？梢酝ㄟ^作為與在制造FMM(具體地講，條紋式FMM)的傳統(tǒng)方法中使用的方法相同的方法的蝕刻來制造圖案化縫 隙片150。為此，圖案化縫隙151的總數(shù)可以大于沉積源噴嘴121的總數(shù)。另外，沉積源110和結(jié)合到沉積源110的沉積源噴嘴單元120可以布置為與圖案化縫隙片150分開一定的距離(例如，預(yù)定的距離)。沉積源110和結(jié)合到沉積源110的沉積源噴嘴單元120可以通過第一連接構(gòu)件135連接到圖案化縫隙片150。S卩，沉積源110、沉積源噴嘴單元120和圖案化縫隙片150可以通過經(jīng)第一連接構(gòu)件135彼此連接而整體化地形成為一體。第一連接構(gòu)件135可以引導(dǎo)排放通過沉積源噴嘴121的沉積材料115直直地移動而不沿X軸方向流動。參照圖4示出的實施例，第一連接構(gòu)件135僅形成在沉積源
110、沉積源噴嘴單元120、以及圖案化縫隙片150的左側(cè)和右側(cè)上，以引導(dǎo)沉積材料115不沿X軸方向流動；然而，本發(fā)明的多個方面不限于此。例如，第一連接構(gòu)件135可以以密封的盒子的形式形成，以引導(dǎo)沉積材料115不沿X軸方向和Y軸方向流動。如上所述，根據(jù)當(dāng)前實施例的有機層沉積設(shè)備100在相對于基板500移動的同時執(zhí)行沉積。為了相對于基板500移動有機層沉積設(shè)備100，圖案化縫隙片150定位成與基板500分開一定的距離(例如，預(yù)定的距離)。具體地講，在利用FMM的傳統(tǒng)沉積方法中，為了防止在基板上形成陰影區(qū)域，利用與基板緊密接觸的FMM執(zhí)行沉積。然而，當(dāng)使用的FMM與基板緊密接觸時，這樣的接觸會造成缺陷。另外，在普通的沉積方法中，由于掩模不能相對于基板移動，所以掩模的尺寸與基板的尺寸相同。因此，掩模的尺寸隨著顯示裝置變得更大而增大。然而，制造這種大的掩模并不容易。為了克服這樣的問題，在根據(jù)當(dāng)前實施例的有機層沉積設(shè)備100中，圖案化縫隙片150被布置為定位(或設(shè)置)成與基板500分開一定的距離(例如，預(yù)定的距離)。如上所述，根據(jù)本發(fā)明的實施例，掩模形成得比基板小，并且在掩模相對于基板移動的同時執(zhí)行沉積。因此，可以容易地制造掩模。另外，可以防止在傳統(tǒng)沉積方法中會出現(xiàn)的因基板和FMM之間的接觸而造成的缺陷。另外，由于在沉積工藝期間不需要將圖案化縫隙片150(與FMM不一樣)定位成與基板緊密接觸，所以可以縮短制造時間。
在本發(fā)明的實施例中，有機層沉積設(shè)備100還可以包括第一對準(zhǔn)圖案502、第二對準(zhǔn)圖案503、第一對準(zhǔn)標(biāo)記152、第二對準(zhǔn)標(biāo)記153、第一相機組件161、第二相機組件162和控制器170，以使基板500和圖案化縫隙片150相互對準(zhǔn)。第一對準(zhǔn)圖案502和第二對準(zhǔn)圖案503沿著基板500的移動方向P形成在基板500上。第一對準(zhǔn)圖案502和第二對準(zhǔn)圖案503可以形成在基板500的兩端以彼此隔開設(shè)置。第一對準(zhǔn)圖案502可以包括沿基板500的移動方向P布置的多個第一標(biāo)記502a,第二對準(zhǔn)圖案503可以包括沿基板500的移動方向P布置的多個第二標(biāo)記503a。例如，多個第一標(biāo)記502a和多個第二標(biāo)記503a中的每個標(biāo)記可以具有十字的形狀。多個第一標(biāo)記502a中兩個緊鄰的第一標(biāo)記(例如，最靠近的兩個第一標(biāo)記)之間的距離可以是相同的，多個第二標(biāo)記503a中兩個緊鄰的第二標(biāo)記之間的距離也可以是相同的。另外和/或可選擇地，多個第一標(biāo)記502a中兩個緊鄰的第一標(biāo)記之間的距離可以等于多個第二標(biāo)記503a中兩個緊鄰的第二標(biāo)記之間的距離。第一對準(zhǔn)標(biāo)記152和第二對準(zhǔn)標(biāo)記153可以位于圖案化縫隙片150的各端部(例如，在圖案化縫隙片150的縱向方向或長度方向上的端部)處或附近。第一對準(zhǔn)標(biāo)記152 和第二對準(zhǔn)標(biāo)記153可以定位成沿著與移動方向P垂直的方向(第二方向)相互分隔開。第一對準(zhǔn)標(biāo)記152和第二對準(zhǔn)標(biāo)記153中的每個可以具有圓形形狀。然而，本發(fā)明不限于此，第一對準(zhǔn)標(biāo)記152和第二對準(zhǔn)標(biāo)記153中的每個可以具有多邊形形狀或任何其他適合的形狀。例如，如果第一對準(zhǔn)標(biāo)記152和第二對準(zhǔn)標(biāo)記153中的每個具有成直角的三角形(例如，直角三角形)形狀，則第一對準(zhǔn)標(biāo)記152和第二對準(zhǔn)標(biāo)記153的斜邊可以面向圖案化縫隙片150。當(dāng)基板500和圖案化縫隙片150彼此適當(dāng)?shù)貙?zhǔn)時，第一對準(zhǔn)標(biāo)記152和第二對準(zhǔn)標(biāo)記153位于第一對準(zhǔn)圖案502和第二對準(zhǔn)圖案503之間。隨后將對此進(jìn)行描述。第一相機組件161和第二相機組件162可以位于基板500上或上方，以分別對應(yīng)于第一對準(zhǔn)標(biāo)記152和第二對準(zhǔn)標(biāo)記153。第一相機組件161可以在基板500上拍攝基板第一對準(zhǔn)圖案502和第一對準(zhǔn)標(biāo)記152，第二相機組件162可以在基板500上拍攝基板第二對準(zhǔn)圖案503和第二對準(zhǔn)標(biāo)記153。由于基板500是透明的,所以第一相機組件161和第二相機組件162可以分別拍攝從基板500觀看到的第一對準(zhǔn)標(biāo)記152和第二對準(zhǔn)標(biāo)記153。第一相機組件162和第二相機組件162在與移動方向P垂直的第二方向上對齊?？刂破?70可以通過對由第一相機組件161和第二相機組件162捕獲的信息進(jìn)行分析來確定基板500和圖案化縫隙片500彼此對準(zhǔn)的程度，并且可以基于對準(zhǔn)的程度來控制驅(qū)動器(未示出)移動基板500或圖案化縫隙片150。現(xiàn)在將參照圖6至圖12來描述圖3中示出的基板500與圖案化縫隙片150的對準(zhǔn)。圖6是示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的從圖3中的第一相機組件161和第二相機組件162觀看到的基板500和圖案化縫隙片150的布置的平面圖。參照圖6，基板500沿著Y軸方向移動。第一對準(zhǔn)圖案502和第二對準(zhǔn)圖案503平行于基板500移動所沿的Y軸方向布置。第一對準(zhǔn)圖案502和第二對準(zhǔn)圖案503可以位于基板500的在與Y軸方向垂直的X軸方向(第二方向)上分隔開的對應(yīng)的端部處。位于圖案化縫隙片150上的第一對準(zhǔn)標(biāo)記152和第二對準(zhǔn)標(biāo)記153可以在第二方向上彼此分隔開，并且可以位于第一對準(zhǔn)圖案502和第二對準(zhǔn)圖案503之間。圖7是示出了圖6的布置的修改示例的平面圖。參照圖7，基板50(V可以包括均具有多個三角形形狀的第一對準(zhǔn)圖案602和第二對準(zhǔn)圖案603。在第一對準(zhǔn)圖案602和第二對準(zhǔn)圖案603中的每個對準(zhǔn)圖案中，均具有成直角的三角形(例如，直角三角形)形狀的多個對準(zhǔn)標(biāo)記可以以鋸齒形的形式連續(xù)地布置。然而，本發(fā)明不限于此，例如，可以在第一對準(zhǔn)標(biāo)記602和第二對準(zhǔn)標(biāo)記603中的每個對準(zhǔn)標(biāo)記中連續(xù)地布置多個多邊形形狀的對準(zhǔn)
T 己 O圖8示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的分別用圖3中的第一相機組件161和第二相機組件162捕獲的第一對準(zhǔn)圖案502和第二對準(zhǔn)圖案503的圖像。具體地講，在圖8中，左圖表示被第一相機組件161捕獲的第一對準(zhǔn)圖案502的圖像，右圖表示被第二相機組件162捕獲的第二對準(zhǔn)圖案503的圖像。由于第一相機組件161和第二相機圖案162的拍攝速度可以與基板500的移動速度同步，所以第一相機組件161可以捕獲第一對準(zhǔn)圖案502的同樣 的圖像(或基本相同的圖像)，并且第二相機組件162可以捕獲第二對準(zhǔn)圖案503的同樣的圖像(或基本相同的圖像)。更具體地講，第一相機組件161和第二相機組件162中的每個可以捕獲按時間間隔(例如，預(yù)定的時間間隔)移動的基板500的圖像。由于基板500在第一相機組件161和第二相機組件162的拍攝操作期間以規(guī)則的速度移動，所以第一相機組件161和第二相機組件162可以分別捕獲第一對準(zhǔn)圖案502和第二對準(zhǔn)圖案503的同樣的圖像(或基本相同的圖像)。根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，第一相機組件161捕獲的包含第一對準(zhǔn)圖案502的圖像的個數(shù)可以等于第二相機組件162捕獲的包含第二對準(zhǔn)圖案503的圖像的個數(shù)。圖9示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的當(dāng)圖3中的基板500和圖案化縫隙片150在第一方向上彼此適當(dāng)?shù)貙?zhǔn)時的第一對準(zhǔn)圖案502和第二對準(zhǔn)圖案503與第一對準(zhǔn)標(biāo)記152和第二對準(zhǔn)標(biāo)記153的布置。參照圖3和圖9，第一相機組件161可以位于第一對準(zhǔn)標(biāo)記152上方，第二相機組件162可以位于第二對準(zhǔn)標(biāo)記153上方，第一相機組件161可以捕獲第一對準(zhǔn)圖案502和第一對準(zhǔn)標(biāo)記152的圖像，如圖9的左圖所示，并且，第二相機組件162可以捕獲第二對準(zhǔn)圖案503和第二對準(zhǔn)標(biāo)記153的圖像，如圖9的右圖所示。如果基板500和圖案化縫隙片150彼此適當(dāng)?shù)貙?zhǔn)，那么第一對準(zhǔn)圖案502和第一對準(zhǔn)標(biāo)記152之間的距離A等于第二對準(zhǔn)圖案503和第二對準(zhǔn)標(biāo)記153之間的距離Ai。圖10示出了當(dāng)圖3中的基板500沿X軸方向移動時的第一對準(zhǔn)圖案502和第二對準(zhǔn)圖案503與第一對準(zhǔn)標(biāo)記152和第二對準(zhǔn)標(biāo)記153的布置。參照圖10，當(dāng)基板500沿著X軸方向移動時，第一對準(zhǔn)圖案502和第一對準(zhǔn)標(biāo)記152之間的距離B小于第二對準(zhǔn)圖案503和第二對準(zhǔn)標(biāo)記153之間的距離B'。如果基板500沿著X軸方向移動，則控制器170控制驅(qū)動器(未示出)使基板500沿著X軸方向移動(B' -B)/2的距離。圖11示出了當(dāng)圖3中的圖案化縫隙片沿著用箭頭“ Θ ”指示的方向扭曲時的第一對準(zhǔn)圖案和第二對準(zhǔn)圖案與第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記的布置。如果圖案化縫隙片150沿著Θ方向扭曲，則這就意味著圖案化縫隙片150繞Z軸逆時針(沿著Θ方向)或順時針(沿著負(fù)0方向)移動。
參照圖11，如果圖案化縫隙片150沿著“ Θ ”方向(逆時針)扭曲，則在Y軸方向上，被第二相機組件162捕獲的第二對準(zhǔn)標(biāo)記153的圖像位于被第一相機組件161捕獲的第一對準(zhǔn)標(biāo)記152的圖像的前面。換言之，相對于第二對準(zhǔn)標(biāo)記152，第二對準(zhǔn)標(biāo)記153的Y軸坐標(biāo)比第一對準(zhǔn)標(biāo)記152的Y軸坐標(biāo)大“hi”?？梢酝ㄟ^計算第一對準(zhǔn)標(biāo)記152和第二對準(zhǔn)標(biāo)記153之間的距離Dl以及第一對準(zhǔn)標(biāo)記152和第二對準(zhǔn)標(biāo)記153的Y軸坐標(biāo)之間的差hi來測量圖案化縫隙片150扭曲的程度。詳細(xì)地講，圖案化縫隙片150扭曲的角度Θ I等于Arctan (hl/Dl)。在這種情況下，控制器170控制驅(qū)動器(未示出)使圖案化縫隙片150沿著負(fù)Θ方向(順時針)移動Arctan (hl/Dl)的角度。圖12示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的當(dāng)圖3中的基板500沿著用箭頭“ Θ ”指示的方向扭曲時的第一對準(zhǔn)圖案502和第二對準(zhǔn)圖案503與第一對準(zhǔn)標(biāo)記152和第二對準(zhǔn)標(biāo)記153的布置。如果基板500沿著Θ方向扭曲，則這意味著基板500繞Z軸逆時針(沿著Θ 方向)或順時針(沿著負(fù)Θ方向)移動。

參照圖12，如果基板500沿著Θ方向(逆時針)扭曲，則在Y軸方向上，被第二相機組件162捕獲的第二對準(zhǔn)圖案503的圖像位于被第一相機組件161捕獲的第一對準(zhǔn)圖案502的圖像的前面。換言之，相對于第一對準(zhǔn)圖案502，第二對準(zhǔn)圖案503的Y軸坐標(biāo)比第一對準(zhǔn)圖案502的Y軸坐標(biāo)大“h2”?？梢酝ㄟ^計算第一對準(zhǔn)圖案502和第二對準(zhǔn)圖案503之間的距離D2以及第一對準(zhǔn)圖案502和第二對準(zhǔn)圖案503的Y軸坐標(biāo)之間的差h2來測量基板500扭曲的程度。詳細(xì)地講，基板500扭曲的角度Θ2等于Arctan(h2/D2)。在這種情況下，控制器170控制驅(qū)動器(未示出)使基板500沿著負(fù)Θ方向(順時針)移動Arctan (h2/D2)的角度。如上所述，根據(jù)本發(fā)明實施例的圖3中的有機層沉積設(shè)備100不僅在基板500沿著垂直于移動方向(第一方向)的方向(第二方向)移動時，而且在基板500沿著移動方向(第一方向)扭曲時，能夠控制基板500與圖案化縫隙片150的對準(zhǔn)。根據(jù)本發(fā)明，控制器170可以確定第一對準(zhǔn)標(biāo)記152的被捕獲圖像和第二對準(zhǔn)標(biāo)記153的被捕獲圖像在Y軸方向(第一方向)上的位置之間的差異。具體地講，當(dāng)?shù)诙?zhǔn)標(biāo)記153的被捕獲圖像位于第一對準(zhǔn)標(biāo)記152的被捕獲圖像的前面時，控制器170可以確定圖案化縫隙片150在Y軸方向(第一方向)上朝著第一對準(zhǔn)標(biāo)記152傾斜；當(dāng)?shù)诙?zhǔn)標(biāo)記153的被捕獲圖像位于第一對準(zhǔn)標(biāo)記152的被捕獲圖像的后面時，控制器170可以確定圖案化縫隙片150在Y軸方向(第一方向)上朝著第二對準(zhǔn)標(biāo)記152傾斜。根據(jù)本發(fā)明，控制器170可以確定第一對準(zhǔn)圖案502的被捕獲圖像和第二對準(zhǔn)圖案503的被捕獲圖像在Y軸方向(第一方向)上的位置之間的差異。具體地講，當(dāng)?shù)诙?zhǔn)圖案503的被捕獲圖像位于第一對準(zhǔn)圖案502的被捕獲圖像的前面時，控制器170可以確定基板500在Y軸方向(第一方向)上朝著第一對準(zhǔn)圖案502傾斜；當(dāng)?shù)诙?zhǔn)圖案503的被捕獲圖像位于第一對準(zhǔn)圖案502的被捕獲圖像的后面時，控制器170可以確定基板500在Y軸方向(第一方向)上朝著第二對準(zhǔn)圖案503傾斜。圖13是根據(jù)本發(fā)明另一實施例的有機層沉積設(shè)備IOOa的示意性透視圖。參照圖13，與圖3的有機層沉積設(shè)備100相比，有機層沉積設(shè)備IOOa進(jìn)一步包括第三對準(zhǔn)標(biāo)記152'、第四對準(zhǔn)標(biāo)記153'、第三相機組件161'和第四相機組件162'。具體地講，有機層沉積設(shè)備IOOa的圖案化縫隙片150'包括第三對準(zhǔn)標(biāo)記152'和第四對準(zhǔn)標(biāo)記153'。在第一方向(Y軸方向)上，第三對準(zhǔn)標(biāo)記152'可以與第一對準(zhǔn)標(biāo)記152分隔開，第四對準(zhǔn)標(biāo)記153'可以與第二對準(zhǔn)標(biāo)記152分隔開。第一對準(zhǔn)標(biāo)記152與第三對準(zhǔn)標(biāo)記152'之間的距離可以等于第二對準(zhǔn)標(biāo)記153與第四對準(zhǔn)標(biāo)記153'之間的距離。第一對準(zhǔn)標(biāo)記152和第二對準(zhǔn)標(biāo)記153在第二方向(X軸方向)上彼此分隔開，第三對準(zhǔn)標(biāo)記152'和第四對準(zhǔn)標(biāo)記153'在第二方向(X軸方向)上彼此分隔開。第一對準(zhǔn)標(biāo)記152與第二對準(zhǔn)標(biāo)記153之間的距離可以等于第三對準(zhǔn)標(biāo)記152'與第四對準(zhǔn)標(biāo)記153'之間的距離。
第一相機組件至第四相機組件161、162、161'和162'可以位于基板500上，以分別對應(yīng)于第一對準(zhǔn)標(biāo)記至第四對準(zhǔn)標(biāo)記152、153、152^和153'。第三相機組件16Γ和第四相機組件162'的拍攝速度可以與基板500的移動速度同步。因此，被第三相機組件161'捕獲的第一對準(zhǔn)圖案502的圖像可以具有相同的(或基本相同的)形狀和尺寸，被第四相機組件162'捕獲的第二對準(zhǔn)圖案503的圖像可以具有相同的(或基本相同的)形狀和尺寸?？刂破?70可以通過對由第三相機組件16Γ和第四相機組件162'捕獲的信息 進(jìn)行分析來確定基板500和圖案化縫隙片150彼此對準(zhǔn)的程度，并且可以基于對準(zhǔn)的程度來控制驅(qū)動器(未示出)移動基板500或圖案化縫隙片150。圖14是根據(jù)本發(fā)明另一實施例的有機層沉積設(shè)備100'的示意性透視圖。參照圖14，有機層沉積設(shè)備100'包括沉積源110'、沉積源噴嘴單元120和圖案化縫隙片150。沉積源110'包括坩堝112，填充有沉積材料115 ;冷卻阻擋件111，加熱坩堝112以使坩堝112中的沉積材料115朝向沉積源噴嘴單元112汽化。具有平面形狀的沉積源噴嘴單元120位于沉積源110'的側(cè)部。沉積源噴嘴單元120包括沿Y軸方向布置的多個沉積源噴嘴12Γ。圖案化縫隙片150和框架155位于沉積源110'和基板500之間。圖案化縫隙片150具有沿X軸方向布置的多個圖案化縫隙151。沉積源110'和沉積源噴嘴單元120可以通過第一連接構(gòu)件135連接到圖案化縫隙片150。在當(dāng)前實施例中，與圖3的有機層沉積設(shè)備100不同，形成在沉積源噴嘴單元120上的多個沉積源噴嘴121'以一定的角度(例如，預(yù)定的角度)傾斜。具體地講，沉積源噴嘴121'可以包括沿各行布置的沉積源噴嘴121a'和121b'。沉積源噴嘴121a'和121b'可以沿各自的行布置成以“Z”字形圖案交替。沉積源噴嘴121a'和121b'可以在XZ平面上以一定的角度(例如，預(yù)定的角度)傾斜。在本發(fā)明的當(dāng)前實施例中，沉積源噴嘴121a'和121b'布置成彼此以一定的角度(例如，預(yù)定的角度)傾斜。第一行的沉積源噴嘴121a'和第二行的沉積源噴嘴121b'可以傾斜成相互面對。即，沉積源噴嘴單元120的左部的第一行沉積源噴嘴121a'可以傾斜成面向圖案化縫隙片150的右側(cè)部分，沉積源噴嘴單元120的右部的第二行沉積源噴嘴121b'可以傾斜成面向圖案化縫隙片150的左側(cè)部分。由于根據(jù)當(dāng)前實施例的有機層沉積設(shè)備100'的結(jié)構(gòu)，使得可以將沉積材料115的沉積調(diào)整成減小有機層在基板500上的中心和端部之間的厚度變化并改善有機層的厚度均勻性。另外，還可以提高沉積材料115的利用效率。圖15是根據(jù)本發(fā)明另一實施例的有機層沉積設(shè)備的示意性透視圖。參照圖15，根據(jù)當(dāng)前實施例的有機層沉積設(shè)備包括多個有機層沉積設(shè)備，即，第一有機層沉積設(shè)備100、第二有機層沉積設(shè)備200和第三有機層沉積設(shè)備300，第一有機層沉積設(shè)備100、第二有機層沉積設(shè)備200和第三有機層沉積設(shè)備300中的每個有機層沉積設(shè)備具有圖4至圖6中示出的有機層沉積設(shè)備100的結(jié)構(gòu)。換言之，根據(jù)當(dāng)前實施例的有機層沉積設(shè)備可以包括多沉積源單元，該多沉積源單元包括多個沉積源并且并發(fā)地(例如，同時地)排放用于形成紅色(R)發(fā)射層、綠色(G)發(fā)射層和藍(lán)色⑶發(fā)射層的沉積材料。具體地講，根據(jù)當(dāng)前實施例的有機層沉積設(shè)備包括第一有機層沉積設(shè)備100、第二有機層沉積設(shè)備200和第三有機層沉積設(shè)備300。第一有機層沉積設(shè)備100至第三有機層沉積設(shè)備300具有與參照圖4至圖6描述的有機層沉積設(shè)備100的結(jié)構(gòu)基本相同的結(jié)構(gòu)，因此，在此將不提供對其的詳細(xì)描述。第一有機層沉積設(shè)備100至第三有機層沉積設(shè)備300的沉積源可以分別包含不同的沉積材料。例如，第一有機層沉積設(shè)備100可以包含用于形成紅色(R)發(fā)射層的沉積材料，第二有機層沉積設(shè)備200可以包含用于形成綠色(G)發(fā)射層的沉積材料，第三有機層沉積設(shè)備300可以包括用于形成藍(lán)色(B)發(fā)射層的沉積材料。換言之，在傳統(tǒng)的制造有機發(fā)光顯示裝置的方法中，使用分開的室和掩模來形成
每種顏色的發(fā)射層。然而，當(dāng)使用根據(jù)當(dāng)前實施例的有機層沉積設(shè)備時，可以利用單個多沉積源單元同時形成R發(fā)射層、G發(fā)射層和B發(fā)射層。因此，縮短了(例如，急劇縮短了)制造有機發(fā)光顯示裝置所需的時間。另外，可以利用數(shù)量減少的室來制造有機發(fā)光顯示裝置，從而還可以降低(例如，顯著地降低)設(shè)備成本。雖然未示出，但是可以將第一有機層沉積設(shè)備100、第二有機層沉積設(shè)備200和第三有機層沉積設(shè)備300布置成相對于彼此偏移恒定的距離，從而使與圖案化縫隙片對應(yīng)的沉積區(qū)域不在基板500上疊置。換言之，如果第一有機層沉積設(shè)備100、第二有機層沉積設(shè)備200和第三有機層沉積設(shè)備300分別用來沉積R發(fā)射層、G發(fā)射層和B發(fā)射層，則第一有機層沉積設(shè)備100的圖案化縫隙、第二有機層沉積設(shè)備200的圖案化縫隙和第三有機層沉積設(shè)備300的圖案化縫隙被布置成相對于彼此不對準(zhǔn)，從而在基板500的不同區(qū)域中分別形成R發(fā)射層、G發(fā)射層和B發(fā)射層。此外，用來形成R發(fā)射層、G發(fā)射層和B發(fā)射層的沉積材料可以具有不同的沉積溫度。因此，各個第一有機層沉積設(shè)備100、第二有機層沉積設(shè)備200和第三有機層沉積設(shè)備300的沉積源的溫度可以被設(shè)定得不同。雖然圖15示出了三個有機層沉積設(shè)備100、200和300，但是本發(fā)明不限于此。換言之，根據(jù)本發(fā)明另一實施例的有機層沉積設(shè)備可以包括均包含不同的沉積材料的多個有機層沉積設(shè)備。例如，根據(jù)本發(fā)明另一實施例的有機層沉積設(shè)備可以包括五個有機層沉積設(shè)備，這五個有機層沉積設(shè)備分別包含用于R發(fā)射層的沉積材料、用于G發(fā)射層的沉積材料、用于B發(fā)射層的沉積材料、用于R發(fā)射層的輔助R'層的沉積材料和用于G發(fā)射層的輔助G'層的沉積材料。如上所述，利用多個有機層沉積設(shè)備可以并發(fā)地(例如，同時地)形成多個有機層，因此可以提高制造產(chǎn)率和沉積效率。此外，可以簡化總體制造工藝，并且可以降低制造成本。圖16是根據(jù)本發(fā)明另一實施例的有機層沉積設(shè)備100"的示意性切開透視圖。圖17是沿著與圖16的有機層沉積設(shè)備100"的YZ平面平行的平面截取的示意性剖視圖。圖18是沿著與圖16的有機層沉積設(shè)備100"的XZ平面平行的平面截取的示意性剖視圖。
參照圖16至圖18，根據(jù)當(dāng)前實施例的有機層沉積設(shè)備100"包括沉積源110"、沉積源噴嘴單元120"、障礙板組件130和圖案化縫隙片150。盡管為了便于解釋在圖16至圖18中未示出，但是有機層沉積設(shè)備100"的所有組件可以位于保持在適當(dāng)真空度的室(未示出)內(nèi)。將室保持在適當(dāng)?shù)恼婵?，以使沉積材料115能夠穿過有機層沉積設(shè)備100"沿著大致的直線移動。在室內(nèi)，通過靜電吸盤600傳送作為沉積目標(biāo)基板的基板500?；?00可以為用于平板顯示器的基板。用于制造多個平板顯示器的諸如母玻璃的大基板可以用作基板500。也可以采用其他基板。在本發(fā)明的實施例中，基板500可以相對于有機層沉積設(shè)備100"移動。例如，基板500可以相對于有機層沉積設(shè)備100"沿著箭頭P的方向移動。與上面參照圖3至圖5描述的前述實施例相似，在根據(jù)當(dāng)前實施例的有機層沉積設(shè)備100"中，圖案化縫隙片150可以小于(例如，明顯小于)在傳統(tǒng)的沉積方法中使用 的FMM0換言之，在有機層沉積設(shè)備100"中，在基板500沿著Y軸方向移動的同時例如以掃描的方式連接地執(zhí)行沉積。因此，假設(shè)圖案化縫隙片150的沿著X軸方向的寬度與基板500的沿著X軸方向的寬度基本彼此相等，圖案化縫隙片150的沿著Y軸方向的長度可以小于(例如，明顯小于)基板500的長度。然而，即使當(dāng)圖案化縫隙片150的沿著X軸方向的寬度小于基板500的沿著X軸方向的寬度時，也可以在基板500或有機層沉積設(shè)備100"相對于彼此移動的同時，對整個基板500以掃描方式執(zhí)行沉積。如上所述，由于圖案化縫隙片150可以形成得小于(例如，明顯小于)在傳統(tǒng)的沉積方法中使用的FMM，則制造用在本發(fā)明的實施例中的圖案化縫隙片150相對容易。換言之，與使用較大的FMM的傳統(tǒng)的沉積方法相比，在包括蝕刻和其他后續(xù)工藝(諸如精確延展工藝、焊接工藝、移動工藝和清潔工藝)的所有的工藝中，使用比在傳統(tǒng)的沉積方法中使用的FMM小的圖案化縫隙片150更加方便。這對于相對大的顯示設(shè)備會更為有利。包含并加熱沉積材料115的沉積源110"位于室的與基板500所處的側(cè)部相對的側(cè)部處。沉積源110"包括填充有沉積材料115的坩堝112和加熱坩堝112的冷卻阻擋件
111。冷卻阻擋件111防止或減少來自坩堝112的熱輻射到外部，例如，防止或減少來自坩堝112的熱輻射到室中。冷卻阻擋件111可以包括加熱坩堝112的加熱器(未示出)。沉積源噴嘴單元120"位于沉積源110"的側(cè)部處，具體地講，位于沉積源110"的面對基板500的側(cè)部處。沉積源噴嘴單元120"包括可以沿X軸方向按相等的間隔布置的多個沉積源噴嘴121"。在沉積源110"中汽化的沉積材料115穿過沉積源噴嘴單元120"的沉積源噴嘴121"朝向作為沉積目標(biāo)的基板500。障礙板組件130位于沉積源噴嘴單元120"的側(cè)部處。障礙板組件130包括多個障礙板131和覆蓋障礙板131的側(cè)部的障礙板框架132。多個障礙板131可以沿著X軸方向以相等的間隔彼此平行地布置。此外，在圖16中，每個障礙板131可以平行于YZ平面布置，并且每個障礙板131可以具有矩形形狀。如上所述布置的多個障礙板131將沉積源噴嘴單元120"和圖案化縫隙片150之間的空間劃分為多個子沉積空間S。在根據(jù)當(dāng)前實施例的有機層沉積設(shè)備100 "中，如圖17所示，沉積空間被障礙板131分為分別與排放沉積材料115所通過的沉積源噴嘴121"對應(yīng)的子沉積空間S。
障礙板131可以分別位于相鄰的沉積源噴嘴121〃之間。換言之，每個沉積源噴嘴121"可以位于兩個相鄰的障礙板131之間。每個沉積源噴嘴121"可以位于兩個相鄰的障礙板131的中點處。然而，本發(fā)明不限于這種結(jié)構(gòu)。例如，多個沉積源噴嘴121"可以位于兩個相鄰的障礙板131之間。在這種情況下，多個沉積源噴嘴121"也可以分別位于兩個相鄰的障礙板131之間的中點處。如上所述，由于障礙板131將沉積源噴嘴單元120"和圖案化縫隙片150之間的空間劃分為多個子沉積空間S，所以通 過每個沉積源噴嘴121"排放的沉積材料115并不與通過另一沉積源噴嘴121〃排放的沉積材料115混合，并且穿過圖案化縫隙片150的圖案化縫隙151而沉積在基板500上。換言之，障礙板131引導(dǎo)通過沉積源噴嘴121〃排放的沉積材料115直直地移動，即，沿著Z軸方向流動。如上所述，通過安裝障礙板131使沉積材料115受迫以直直地移動，從而與不安裝障礙板的情形相比，可以在基板500上形成更小的陰影區(qū)域。因此，有機層沉積設(shè)備100"和基板500可以彼此分開一定的距離(例如，預(yù)定的距離)。后面將對此進(jìn)行詳細(xì)的描述。覆蓋障礙板131的側(cè)部的障礙板框架132保持障礙板131的位置，并引導(dǎo)通過沉積源噴嘴121"排放的沉積材料115不沿Y軸方向流動。沉積源噴嘴單元120"和障礙板組件130可以彼此分隔開一定的距離(例如，預(yù)定的距離)。這可防止從沉積源單元110"輻射的熱被傳導(dǎo)到障礙板組件130。然而，本發(fā)明的多個方面不限于此。例如，當(dāng)適當(dāng)?shù)臒峤^緣件(未示出)位于沉積源噴嘴單元120"和障礙板組件130之間時，沉積源噴嘴單元120"和障礙板組件130可以在它們之間存在熱絕緣件的情況下結(jié)合在一起。此外，障礙板組件130可以被構(gòu)造成可從有機層沉積設(shè)備100"拆卸。在根據(jù)當(dāng)前實施例的有機層沉積設(shè)備100"中，通過使用障礙板組件130來圍住沉積空間，從而尚未沉積的沉積材料115大多位于障礙板組件130內(nèi)。因此，由于障礙板組件130被構(gòu)造成可從有機層沉積設(shè)備100"拆卸，所以當(dāng)在長的沉積工藝之后在障礙板組件130內(nèi)有大量的沉積材料115時，可以從有機層沉積設(shè)備100"拆卸障礙板組件130，然后將障礙板組件130放置在分開的沉積材料循環(huán)設(shè)備中，以回收沉積材料115。由于根據(jù)本實施例的有機層沉積設(shè)備100"的這種結(jié)構(gòu)，使得可以提高沉積材料115的重新使用率，從而可以提高沉積效率，由此可以降低制造成本。圖案化縫隙片150和框架155設(shè)置在沉積源110"和基板500之間?？蚣?55的形狀可以與窗口框架相似。圖案化縫隙片150結(jié)合在框架155的內(nèi)部。圖案化縫隙片150具有沿X軸方向布置的多個圖案化縫隙151。圖案化縫隙151沿著Y軸方向延伸。已經(jīng)在沉積源110"中汽化并穿過沉積源噴嘴121"的沉積材料115穿過圖案化縫隙片150朝向基板 500。圖案化縫隙片150可以由金屬薄膜形成。圖案化縫隙片150固定到框架155，從而向圖案化縫隙片150施加拉力。換言之，圖案化縫隙片150可以在框架155的作用下在一個方向或兩個相反的方向上受拉(例如，伸展)。通過將圖案化縫隙片150蝕刻為條紋圖案來形成圖案化縫隙151。在根據(jù)當(dāng)前實施例的有機層沉積設(shè)備100"中，圖案化縫隙151的總數(shù)可以大于沉積源噴嘴121"的總數(shù)。此外，位于兩個相鄰的障礙板131之間的圖案化縫隙151的數(shù)量可以大于位于兩個相鄰的障礙板131之間的沉積源噴嘴121"的數(shù)量。圖案化縫隙151的數(shù)量可以等于將要形成在基板500上的沉積圖案的數(shù)量。障礙板組件130和圖案化縫隙片150可以彼此分隔開一定的距離(例如，預(yù)定的距離)，并且可以通過第二連接構(gòu)件133連接。障礙板130的溫度由于溫度高的沉積源110"而可以升高到100°C或更高。因此，為了防止障礙板組件130的熱被傳導(dǎo)到圖案化縫隙片150，障礙板組件130和圖案化縫隙片150彼此分開一定的距離(例如，預(yù)定的距離)。如上所述，根據(jù)當(dāng)前實施例的有機層沉積設(shè)備100"在相對于基板500移動的同時執(zhí)行沉積。為了使有機層沉積設(shè)備100"相對于基板500移動，圖案化縫隙片150與基板500分隔開一定的距離(例如，預(yù)定的距離)。此外，為了防止當(dāng)圖案化縫隙片150與基板500彼此分隔開時在基板500上形成相對大的陰影區(qū)域，將障礙板131布置在沉積源噴嘴單元120"和圖案化縫隙片150之間以使沉積材料115受迫以沿著直線方向移動。因此，減小了(例如，急劇減小了)可能形成在基板500上的陰影區(qū)域的尺寸。在使用FMM的普通的沉積方法中，利用與基板緊密接觸的FMM來執(zhí)行沉積以減少 或防止在基板上形成陰影區(qū)域。然而，當(dāng)與基板緊密接觸地使用FMM時，這種接觸會造成缺陷，例如形成在基板上的圖案上的劃痕。另外，在普通的沉積方法中，由于掩模不能相對于基板移動，所以掩模的尺寸與基板的尺寸相同。因此，掩模的尺寸隨著顯示裝置變得更大而增大。然而，制造這種大的掩模并不容易。為了克服這樣的問題，在根據(jù)當(dāng)前實施例的有機層沉積設(shè)備100"中，圖案化縫隙片150與基板500分隔開一定的距離(例如，預(yù)定的距離)。通過安裝障礙板131可以有助于減小形成在基板500上的陰影區(qū)域的尺寸。如上所述，當(dāng)將圖案化縫隙片150制造成比基板500小時，圖案化縫隙片150可以在沉積過程中相對于基板500移動。因此，不再需要制造如在傳統(tǒng)的沉積方法中所使用的大的FMM。另外，由于基板500和圖案化縫隙片150彼此分開，所以可以防止由于二者之間的接觸造成的缺陷。另外，由于在沉積工藝期間不需要使基板500與圖案化縫隙片150接觸，所以可以提高制造速度。圖19是根據(jù)本發(fā)明另一實施例的有機層沉積設(shè)備100"，的示意性切開透視圖。參照圖19，根據(jù)當(dāng)前實施例的有機層沉積設(shè)備100"'包括沉積源110"、沉積源噴嘴單元120"、第一障礙板組件130、第二障礙板組件140和圖案化縫隙片150。盡管為了便于解釋未在圖19中示出，但是有機層沉積設(shè)備100"'的所有組件可以位于保持在適當(dāng)真空度的室(未示出)內(nèi)。將室保持在適當(dāng)?shù)恼婵?，以使沉積材料115能夠穿過有機層沉積設(shè)備100"，沿著大致的直線移動。作為沉積目標(biāo)基板的基板500位于室內(nèi)。包含并加熱沉積材料115的沉積源110"位于室的與基板500所處的側(cè)部相對的側(cè)部處。沉積源110 "和圖案化縫隙片150的結(jié)構(gòu)與參照圖16描述的實施例中的沉積源和圖案化縫隙片的結(jié)構(gòu)基本相同，因此，在此將不提供對其的詳細(xì)描述。第一障礙板組件130也與參照圖16描述的實施例的障礙板組件130基本相同，因此，在此將不提供對其的詳細(xì)描述。在當(dāng)前實施例中，第二障礙板組件140位于第一障礙板組件130的一側(cè)。第二障礙板組件140包括多個第二障礙板141和覆蓋第二障礙板141的側(cè)部的第二障礙板框架142。
多個第二障礙板141可以沿著X軸方向以相等的間隔彼此平行地布置。另外，在圖19中，每個第二障礙板141可以形成為沿著YZ平面延伸，即，垂直于X軸方向延伸。如上所述布置的多個第一障礙板131和多個第二障礙板141劃分沉積源噴嘴單元120"和圖案化縫隙片150之間的沉積空間。沉積空間被第一障礙板131和第二障礙板141分為分別與排放沉積材料115所通過的沉積源噴嘴121"對應(yīng)的子沉積空間。第二障礙板141可以定位成分別對應(yīng)于第一障礙板131。換言之，第二障礙板141可以分別與第一障礙板131對齊。每對對應(yīng)的第一障礙板131和第二障礙板141可以位于同一平面上。雖然第一障礙板131和第二障礙板141分別示出為具有相同的沿X軸方向的寬度，但是本發(fā)明的多個方面不限于此。換言之，應(yīng)當(dāng)與圖案化縫隙151精確對準(zhǔn)的第二障礙板141可以形成得相對薄，而不需要與圖案化縫隙151精確對準(zhǔn)的第一障礙板131可以形成得相對厚。這使得制造有機層沉積設(shè)備100"，更為容易。如圖I所示，可以在室中連續(xù)地設(shè)置多個有機層沉積設(shè)備100"'。在這種情況 下，多個有機層沉積設(shè)備100"'可以分別用來沉積不同的沉積材料。例如，多個有機層沉積設(shè)備100"，可以具有不同的圖案化縫隙圖案，從而可以通過沉積工藝并發(fā)地(例如，同時地)限定不同顏色(例如，紅色、綠色和藍(lán)色)的像素。圖20是根據(jù)本發(fā)明實施例的通過使用有機層沉積設(shè)備制造的有源矩陣有機發(fā)光顯示裝置的剖視圖。參照圖20，有源矩陣有機發(fā)光顯示裝置形成在基板30上?；?0可以由諸如玻璃、塑料或金屬的透明材料形成。諸如緩沖層的絕緣層31形成在基板30的整個表面上。薄膜晶體管(TFT) 40、電容器50和有機發(fā)光二極管(OLED) 60設(shè)置在絕緣層31上，如圖20所示。半導(dǎo)體有源層41形成在絕緣層31的上表面上(例如，以預(yù)定的圖案形成)。柵極絕緣層32形成為覆蓋半導(dǎo)體有源層41。半導(dǎo)體有源層41可以包含P型或η型半導(dǎo)體材料。電容器50的第一電容器電極51和TFT 40的對應(yīng)于半導(dǎo)體有源層41的柵電極42形成在柵極絕緣層32的上部上。層間絕緣層33形成為覆蓋第一電容器電極51和柵電極
42。然后，通過例如干蝕刻來蝕刻層間絕緣層33和柵極絕緣層32，以形成暴露半導(dǎo)體有源層41的部分的接觸孔。然后，第二電容器電極52和源/漏電極43形成在層間絕緣層33上。源/漏電極43通過接觸孔接觸半導(dǎo)體有源層41。鈍化層34形成為覆蓋第二電容器電極52和源/漏電極43，并且被蝕刻為暴露漏電極43的一部分。絕緣層(未示出)可進(jìn)一步形成在鈍化層34上以使鈍化層34平坦化。另外，隨著電流流過OLED 60，OLED 60通過發(fā)射紅光、綠光或藍(lán)光來顯示圖像信息(例如，預(yù)定的圖像信息)。OLED 60包括位于鈍化層34上的第一電極61。第一電極61電連接到TFT 40的漏電極43。像素限定層35形成為覆蓋第一電極61。開口 64形成在像素限定層35中，有機發(fā)射層63形成在由開口 64限定的區(qū)域中。第二電極62形成在有機發(fā)射層63上。限定單個像素的像素限定層35由有機材料形成。像素限定層35還使基板30的形成有第一電極61的區(qū)域的表面平坦化，具體地講，使鈍化層34的表面平坦化。
第一電極61和第二電極62彼此絕緣，并且分別向有機發(fā)射層63施加極性相反的電壓，以誘導(dǎo)發(fā)光。有機發(fā)射層63可以由低分子量有機材料或高分子量有機材料形成。當(dāng)使用低分子量有機材料時，有機發(fā)射層63可以具有包括從由空穴注入層(HIL)、空穴傳輸層(HTL)、發(fā)射層(EML)、電子傳輸層(ETL)和電子注入層(EIL)組成的組中選擇的至少一層的單層結(jié)構(gòu)或多層結(jié)構(gòu)?？捎玫挠袡C材料的示例可以包括銅酞菁(CuPc)、N，N' -二(萘-I-基)-N，N' - 二苯基-聯(lián)苯胺(NPB)、三-8-羥基喹啉鋁(Alq3)等?？梢允褂弥T如圖I至圖19中示出的有機層沉積設(shè)備的有機層沉積設(shè)備利用真空沉積來沉積這種低分子量有機材料。另夕卜，圖I和圖2的有機層沉積設(shè)備100、200、300和/或400可以用圖3至圖5的有機層沉積設(shè)備100、圖13的有機層沉積設(shè)備100a、圖14的有機層沉積設(shè)備100'、圖15的有機層沉積設(shè)備100、200、300、圖16至圖18的有機層沉積設(shè)備100"或者圖19的有機層沉積設(shè)備100"，中的任一適合的有機層沉積設(shè)備來代替。在形成有機發(fā)射層63之后，可以通過與形成有機發(fā)射層63所使用的沉積方法相同的沉積方法來形成第二電極62。 第一電極61可以起著陽極的作用，并且第二電極62可以起著陰極的作用，或者，反之亦然。第一電極61可以被圖案化為對應(yīng)于單個像素區(qū)域，第二電極62可以形成為覆蓋所有的像素。第一電極61可以形成為透明電極或反射電極。這樣的透明電極可以由氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、氧化鋅(ZnO)或者氧化銦(In2O3)形成。這樣的反射電極可以通過以下步驟形成由銀(Ag)、鎂(Mg)、鋁(Al)、鉬(Pt)、鈀(Pd)、金(Au)、鎳(Ni)、釹(Nd)、銥(Ir)、鉻(Cr)或它們的混合物形成反射層；在反射層上形成ΙΤ0、ΙΖ0、Ζη0或In2O3的層?？梢酝ㄟ^例如濺射形成層，然后通過例如光刻將該層圖案化，來形成第一電極61。第二電極62也可以形成為透明電極或反射電極。當(dāng)?shù)诙姌O62形成為透明電極時，第二電極62起著陰極的作用。為此，可以通過在中間的層63的表面上沉積諸如鋰(Li)、鈣(Ca)、氟化鋰/鈣(LiF/Ca)、氟化鋰/鋁(LiF/Al)、鋁(Al)、銀(Ag)、鎂(Mg)或它們的混合物的功函數(shù)低的金屬，并由ITO、IZO、ZnO或In2O3等在所述金屬上形成輔助電極層或匯流電極線，來形成這樣的透明電極。當(dāng)?shù)诙姌O62形成為反射電極時，可以通過在有機發(fā)射層63的整個表面上沉積由Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg或它們的混合物來形成反射電極?？梢允褂门c上述的用來形成有機發(fā)射層63的方法相同的沉積方法來形成第二電極62?？梢詰?yīng)用如上所述的根據(jù)本發(fā)明實施例的有機層沉積設(shè)備來形成有機TFT的有機層或無機層，并且來形成各種材料的層。如上所述，根據(jù)本發(fā)明多個方面的有機層沉積設(shè)備可以容易地制造，并且可以簡單地應(yīng)用于大規(guī)模地制造大型顯示裝置。有機層沉積設(shè)備可以提高制造產(chǎn)率和沉積效率，可以使沉積材料能夠被再利用，并且可以使基板和有機層沉積設(shè)備彼此精確地對準(zhǔn)。雖然已經(jīng)參照本發(fā)明的示例性實施例具體地示出并描述了本發(fā)明，但是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員應(yīng)該明白，在不脫離由權(quán)利要求及其等同物所限定的本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可以在此做出各種形式和細(xì)節(jié)上的改變。
權(quán)利要求
1.一種用來在基板上形成有機層的有機層沉積設(shè)備，所述有機層沉積設(shè)備包括 沉積源，被構(gòu)造為排放沉積材料； 沉積源噴嘴單元，設(shè)置在沉積源的一側(cè)并且包括沿著第一方向布置的多個沉積源噴嘴；以及 圖案化縫隙片，與沉積源噴嘴單元相對地設(shè)置并且具有沿著垂直于第一方向的第二方向布置的多個圖案化縫隙，圖案化縫隙片在第一方向和第二方向中的至少一個方向上比基板小， 其中，在基板與圖案化縫隙片隔開并且相對于有機層沉積設(shè)備沿著第一方向移動的同時執(zhí)行沉積， 圖案化縫隙片包括彼此隔開設(shè)置的第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記， 基板包括彼此隔開設(shè)置的第一對準(zhǔn)圖案和第二對準(zhǔn)圖案， 所述有機層沉積設(shè)備還包括用來拍攝第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第一對準(zhǔn)圖案的第一相機組件以及用來拍攝第二對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)圖案的第二相機組件， 基板的移動速度與第一相機組件和第二相機組件的拍攝速度同步，從而當(dāng)基板與有機層沉積設(shè)備適當(dāng)?shù)貙?zhǔn)時，被第一相機組件捕獲的第一對準(zhǔn)圖案的圖像基本彼此相同，被第二相機組件捕獲的第二對準(zhǔn)圖案的圖像基本彼此相同。
2.如權(quán)利要求I所述的有機層沉積設(shè)備，其中，沉積源、沉積源噴嘴單元和圖案化縫隙片整體化地形成為一體。
3.如權(quán)利要求I所述的有機層沉積設(shè)備，其中，沉積源和沉積源噴嘴單元與圖案化縫隙片通過引導(dǎo)沉積材料的移動的連接構(gòu)件整體化地連接為一體。
4.如權(quán)利要求3所述的有機層沉積設(shè)備，其中，連接構(gòu)件形成為密封沉積源、沉積源噴嘴單元和圖案化縫隙片之間的空間。
5.如權(quán)利要求I所述的有機層沉積設(shè)備，其中，所述多個沉積源噴嘴以一定的角度傾斜。
6.如權(quán)利要求5所述的有機層沉積設(shè)備，其中，所述多個沉積源噴嘴包括沿著第一方向布置成兩行的沉積源噴嘴，所述兩行的沉積源噴嘴傾斜成相互面對。
7.如權(quán)利要求5所述的有機層沉積設(shè)備，其中， 所述多個沉積源噴嘴包括沿著第一方向布置成兩行的沉積源噴嘴， 所述兩行中的位于沉積源噴嘴單元的第一側(cè)的一行的沉積源噴嘴布置成面向圖案化縫隙片的第二側(cè)， 所述兩行中的位于沉積源噴嘴單元的第二側(cè)的另一行的沉積源噴嘴布置成面向圖案化縫隙片的第一側(cè)。
8.如權(quán)利要求I所述的有機層沉積設(shè)備，其中， 第一對準(zhǔn)圖案包括沿著第一方向布置的多個第一標(biāo)記， 第二對準(zhǔn)圖案包括沿著第一方向布置的多個第二標(biāo)記， 第一對準(zhǔn)圖案和第二對準(zhǔn)圖案沿著第二方向彼此分隔開。
9.如權(quán)利要求8所述的有機層沉積設(shè)備，其中，所述多個第一標(biāo)記的形狀和尺寸與所述多個第二標(biāo)記的形狀和尺寸相同。
10.如權(quán)利要求8所述的有機層沉積設(shè)備，其中，所述多個第一標(biāo)記之間的距離與所述多個第二標(biāo)記之間的距離基本相等。
11.如權(quán)利要求10所述的有機層沉積設(shè)備，其中，所述多個第一標(biāo)記和所述多個第二標(biāo)記中的每個標(biāo)記具有十字形的形狀。
12.如權(quán)利要求8所述的有機層沉積設(shè)備，其中，所述多個第一標(biāo)記和所述多個第二標(biāo)記中的每個標(biāo)記具有多邊形形狀。
13.如權(quán)利要求12所述的有機層沉積設(shè)備，其中，所述多個第一標(biāo)記和所述多個第二標(biāo)記中的每個標(biāo)記具有三角形形狀。
14.如權(quán)利要求12所述的有機層沉積設(shè)備，其中，第一對準(zhǔn)圖案和第二對準(zhǔn)圖案具有鋸齒形形狀。
15.如權(quán)利要求I所述的有機層沉積設(shè)備，其中，基板沿著第一方向以基本均勻的速率移動，第一相機組件和第二相機組件分別以一定的時間間隔拍攝第一對準(zhǔn)圖案和第二對準(zhǔn)圖案，第一相機組件被構(gòu)造成捕獲均包含第一對準(zhǔn)圖案的多個圖像，第二相機組件被構(gòu)造成捕獲均包含第二對準(zhǔn)圖案的多個圖像，其中，包含第二對準(zhǔn)圖案的圖像的個數(shù)等于包含第一對準(zhǔn)圖案的圖像的個數(shù)。
16.如權(quán)利要求I所述的有機層沉積設(shè)備，其中，第一相機組件和第二相機組件位于基板上方，以分別對應(yīng)于第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記。
17.如權(quán)利要求I所述的有機層沉積設(shè)備，所述有機層沉積設(shè)備還包括控制器，所述控制器基于由第一相機組件和第二相機組件捕獲的信息來確定基板和圖案化縫隙片彼此對準(zhǔn)的程度。
18.如權(quán)利要求17所述的有機層沉積設(shè)備，其中，控制器被構(gòu)造成通過將由第一相機組件拍攝的第一對準(zhǔn)圖案和第一對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像之間的第一距離與由第二相機組件拍攝的第二對準(zhǔn)圖案與第二對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像之間的第二距離進(jìn)行比較，來確定基板和圖案化縫隙片在垂直于第一方向的第二方向上彼此對準(zhǔn)的程度。
19.如權(quán)利要求17所述的有機層沉積設(shè)備，其中，控制器被構(gòu)造成通過將由第一相機組件捕獲的第一對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像與由第二相機組件捕獲的第二對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像進(jìn)行比較，來確定圖案化縫隙片在第一方向上是否傾斜。
20.如權(quán)利要求19所述的有機層沉積設(shè)備，其中，控制器被構(gòu)造成確定第一對準(zhǔn)標(biāo)記的被捕獲圖像和第二對準(zhǔn)標(biāo)記的被捕獲圖像在第一方向上的位置之間的差異，在第二對準(zhǔn)標(biāo)記的被捕獲圖像位于第一對準(zhǔn)標(biāo)記的被捕獲圖像的前面時確定圖案化縫隙片在第一方向上朝著第一對準(zhǔn)標(biāo)記傾斜，并且在第二對準(zhǔn)標(biāo)記的被捕獲圖像位于第一對準(zhǔn)標(biāo)記的被捕獲圖像的后面時確定圖案化縫隙片在第一方向上朝著第二對準(zhǔn)標(biāo)記傾斜。
21.如權(quán)利要求17所述的有機層沉積設(shè)備，其中，控制器被構(gòu)造成通過將第一對準(zhǔn)圖案的被第一相機組件捕獲的圖像與第二對準(zhǔn)圖案的被第二相機組件捕獲的圖像進(jìn)行比較，來確定基板在第一方向上是否傾斜。
22.如權(quán)利要求21所述的有機層沉積設(shè)備，其中，控制器被構(gòu)造成確定第一對準(zhǔn)圖案的被捕獲圖像和第二對準(zhǔn)圖案的被捕獲圖像在第一方向上的位置之間的差異，在第二對準(zhǔn)圖案的被捕獲圖像位于第一對準(zhǔn)圖案的被捕獲圖像的前面時確定基板在第一方向上朝著第一對準(zhǔn)圖案傾斜，并且在第二對準(zhǔn)圖案的被捕獲圖像位于第一對準(zhǔn)圖案的被捕獲圖像的后面時確定基板在第一方向上朝著第二對準(zhǔn)圖案傾斜。
23.如權(quán)利要求17所述的有機層沉積設(shè)備，其中，基于通過控制器確定的對準(zhǔn)的程度，通過移動基板或圖案化縫隙片使基板和圖案化縫隙片彼此對準(zhǔn)。
24.如權(quán)利要求I所述的有機層沉積設(shè)備，其中，圖案化縫隙片還包括在第一方向上與第一對準(zhǔn)標(biāo)記分隔開的第三對準(zhǔn)標(biāo)記和在第一方向上與第二對準(zhǔn)標(biāo)記分隔開的第四對準(zhǔn)
25.如權(quán)利要求24所述的有機層沉積設(shè)備，其中，第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第三對準(zhǔn)標(biāo)記之間的距離等于第二對準(zhǔn)標(biāo)記和第四對準(zhǔn)標(biāo)記之間的距離。
26.如權(quán)利要求24所述的有機層沉積設(shè)備，其中，第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記在第二方向上相互分隔開，第三對準(zhǔn)標(biāo)記和第四對準(zhǔn)標(biāo)記在第二方向上相互分隔開。
27.如權(quán)利要求26所述的有機層沉積設(shè)備，其中，第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記之間的距離基本等于第三對準(zhǔn)標(biāo)記和第四對準(zhǔn)標(biāo)記之間的距離。
28.如權(quán)利要求24所述的有機層沉積設(shè)備，所述有機層沉積設(shè)備還包括第三相機組件和第四相機組件， 其中，第三相機組件和第四相機組件位于基板上方，以分別對應(yīng)于第三對準(zhǔn)標(biāo)記和第四對準(zhǔn)標(biāo)記。
29.一種用來在基板上形成有機層的有機層沉積設(shè)備，所述有機層沉積設(shè)備包括 沉積源，被構(gòu)造為排放沉積材料； 沉積源噴嘴單元，設(shè)置在沉積源的一側(cè)并且包括沿著第一方向布置的多個沉積源噴嘴； 圖案化縫隙片，與沉積源噴嘴單元相對地設(shè)置并且具有沿著第一方向布置的多個圖案化縫隙，圖案化縫隙片在第一方向和垂直于第一方向的第二方向中的至少一個方向上比基板??；以及 障礙板組件，包括多個障礙板，所述多個障礙板沿著第一方向位于沉積源噴嘴單元和圖案化縫隙片之間并且將沉積源噴嘴單元和圖案化縫隙片之間的沉積空間劃分為多個子沉積空間， 其中，有機層沉積設(shè)備和基板相互分隔開， 有機層沉積設(shè)備或基板在沉積過程中相對于另一者移動， 基板包括彼此隔開設(shè)置的第一對準(zhǔn)圖案和第二對準(zhǔn)圖案， 圖案化縫隙片包括彼此隔開設(shè)置的第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記， 所述有機層沉積設(shè)備還包括用來拍攝第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第一對準(zhǔn)圖案的第一相機組件以及用來拍攝第二對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)圖案的第二相機組件， 基板的移動速度與第一相機組件和第二相機組件的拍攝速度同步，從而當(dāng)基板與有機層沉積設(shè)備適當(dāng)?shù)貙?zhǔn)時，被第一相機組件捕獲的第一對準(zhǔn)圖案的圖像基本彼此相同，被第二相機組件捕獲的第二對準(zhǔn)圖案的圖像基本彼此相同。
30.如權(quán)利要求29所述的有機層沉積設(shè)備，其中，所述多個障礙板沿著第二方向延伸。
31.如權(quán)利要求29所述的有機層沉積設(shè)備，其中，障礙板組件包括第一障礙板組件和第二障礙板組件，第一障礙板組件包括多個第一障礙板，第二障礙板組件包括多個第二障礙板。
32.如權(quán)利要求31所述的有機層沉積設(shè)備，其中，所述多個第一障礙板和所述多個第二障礙板沿著第二方向延伸。
33.如權(quán)利要求32所述的有機層沉積設(shè)備，其中，所述多個第一障礙板被布置成分別對應(yīng)于所述多個第二障礙板。
34.如權(quán)利要求29所述的有機層沉積設(shè)備，其中， 第一對準(zhǔn)圖案包括沿著第二方向布置的多個第一標(biāo)記， 第二對準(zhǔn)圖案包括沿著第二方向布置的多個第二標(biāo)記， 第一對準(zhǔn)圖案和第二對準(zhǔn)圖案在第一方向上彼此分隔開。
35.如權(quán)利要求34所述的有機層沉積設(shè)備，其中，所述多個第一標(biāo)記的形狀和尺寸與所述多個第二標(biāo)記的形狀和尺寸相同。
36.如權(quán)利要求34所述的有機層沉積設(shè)備，其中，所述多個第一標(biāo)記之間的距離與所述多個第二標(biāo)記之間的距離相等。
37.如權(quán)利要求36所述的有機層沉積設(shè)備，其中，所述多個第一標(biāo)記和所述多個第二標(biāo)記中的每個標(biāo)記具有十字形的形狀。
38.如權(quán)利要求34所述的有機層沉積設(shè)備，其中，所述多個第一標(biāo)記和所述多個第二標(biāo)記中的每個標(biāo)記具有多邊形形狀。
39.如權(quán)利要求29所述的有機層沉積設(shè)備，其中，基板沿著第二方向以基本均勻的速率移動，第一相機組件和第二相機組件分別以一定的時間間隔拍攝第一對準(zhǔn)圖案和第二對準(zhǔn)圖案，第一相機組件被構(gòu)造成捕獲均包含第一對準(zhǔn)圖案的多個圖像，第二相機組件被構(gòu)造成捕獲均包含第二對準(zhǔn)圖案的多個圖像，其中，包含第二對準(zhǔn)圖案的圖像的個數(shù)等于包含第一對準(zhǔn)圖案的圖像的個數(shù)。
40.如權(quán)利要求29所述的有機層沉積設(shè)備，其中，第一相機組件和第二相機組件位于基板上方，以分別對應(yīng)于第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記。
41.如權(quán)利要求29所述的有機層沉積設(shè)備，所述有機層沉積設(shè)備還包括控制器，所述控制器基于由第一相機組件和第二相機組件捕獲的信息來確定基板和圖案化縫隙片彼此對準(zhǔn)的程度。
42.如權(quán)利要求41所述的有機層沉積設(shè)備，其中，控制器被構(gòu)造成通過將由第一相機組件拍攝的第一對準(zhǔn)圖案和第一對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像之間的第一距離與由第二相機組件拍攝的第二對準(zhǔn)圖案與第二對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像之間的第二距離進(jìn)行比較，來確定基板和圖案化縫隙片在第一方向上彼此對準(zhǔn)的程度。
43.如權(quán)利要求41所述的有機層沉積設(shè)備，其中，控制器被構(gòu)造成通過將由第一相機組件捕獲的第一對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像與由第二相機組件捕獲的第二對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像進(jìn)行比較，來確定圖案化縫隙片在第二方向上是否傾斜。
44.如權(quán)利要求43所述的有機層沉積設(shè)備，其中，控制器被構(gòu)造成確定第一對準(zhǔn)標(biāo)記的被捕獲圖像和第二對準(zhǔn)標(biāo)記的被捕獲圖像在第二方向上的位置之間的差異，在第二對準(zhǔn)標(biāo)記的被捕獲圖像位于第一對準(zhǔn)標(biāo)記的被捕獲圖像的前面時確定圖案化縫隙片在第二方向上朝著第一對準(zhǔn)標(biāo)記傾斜，并且在第二對準(zhǔn)標(biāo)記的被捕獲圖像位于第一對準(zhǔn)標(biāo)記的被捕獲圖像的后面時確定圖案化縫隙片在第二方向上朝著第二對準(zhǔn)標(biāo)記傾斜。
45.如權(quán)利要求41所述的有機層沉積設(shè)備，其中，控制器被構(gòu)造成通過將第一對準(zhǔn)圖案的被第一相機組件捕獲的圖像與第二對準(zhǔn)圖案的被第二相機組件捕獲的圖像進(jìn)行比較，來確定基板在第二方向上是否傾斜。
46.如權(quán)利要求45所述的有機層沉積設(shè)備，其中，控制器被構(gòu)造成確定第一對準(zhǔn)圖案的被捕獲圖像和第二對準(zhǔn)圖案的被捕獲圖像在第二方向上的位置之間的差異，在第二對準(zhǔn)圖案的被捕獲圖像位于第一對準(zhǔn)圖案的被捕獲圖像的前面時確定基板在第二方向上朝著第一對準(zhǔn)圖案傾斜，并且在第二對準(zhǔn)圖像的被捕獲圖像位于第一對準(zhǔn)圖案的被捕獲圖像的后面時確定基板在第二方向上朝著第二對準(zhǔn)圖案傾斜。
47.如權(quán)利要求41所述的有機層沉積設(shè)備，其中，基于通過控制器確定的對準(zhǔn)的程度，通過移動基板或圖案化縫隙片使基板和圖案化縫隙片彼此對準(zhǔn)。
48.如權(quán)利要求29所述的有機層沉積設(shè)備，其中，圖案化縫隙片還包括在第二方向上與第一對準(zhǔn)標(biāo)記分隔開的第三對準(zhǔn)標(biāo)記和在第二方向上與第二對準(zhǔn)標(biāo)記分隔開的第四對準(zhǔn)標(biāo)記。
49.如權(quán)利要求48所述的有機層沉積設(shè)備，其中，所述有機層沉積設(shè)備還包括第三相機組件和第四相機組件， 其中，第三相機組件和第四相機組件位于基板上方，以分別對應(yīng)于第三對準(zhǔn)標(biāo)記和第四對準(zhǔn)標(biāo)記。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種可以在沉積工藝期間與基板精確地對準(zhǔn)的有機層沉積設(shè)備。所述有機層沉積設(shè)備包括沉積源；沉積源噴嘴單元；圖案化縫隙片，與基板分隔開且比基板小，并且具有沿著垂直于第一方向的第二方向布置的多個圖案化縫隙。在基板相對于有機層沉積設(shè)備沿著第一方向移動的同時執(zhí)行沉積。圖案化縫隙片包括彼此隔開設(shè)置的第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記?；灏ū舜烁糸_設(shè)置的第一對準(zhǔn)圖案和第二對準(zhǔn)圖案。所述有機層沉積設(shè)備還包括用來拍攝第一對準(zhǔn)標(biāo)記/圖案的第一相機組件和用來拍攝第二對準(zhǔn)標(biāo)記/圖案的第二相機組件?；宓囊苿铀俣扰c第一相機組件和第二相機組件的拍攝速度同步。
文檔編號H01L51/50GK102867919SQ201210216700
公開日2013年1月9日 申請日期2012年6月27日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月4日
發(fā)明者蔣允豪, 柳在光 申請人:三星顯示有限公司