專利名稱：基片旋涂裝置和基片處理方法
技術領域：
本發(fā)明涉及有機薄I旲晶體管的生廣，尤其涉及一種可提聞基片的可蒸鍛性和良品率，且操作方便的基片處理方法和基片旋涂裝置。
背景技術：
TFT (Thin Film Transistor) LCD即薄膜場效應晶體管LCD，是有源矩陣類型液晶顯示器(AM-IXD)中的一種。OTFT(有機薄膜晶體管)是一種采用有機材料制成的，具TFT 特性的器件，采用有材料制成的TFT器件，具有性能可告靠，成本低廉，環(huán)境友好等特性。所述OTFT包括基片、依次在基片上制作的柵電極、柵絕緣層、源電極、漏電極和有機導體層， 在基片上制作相應電極時，一般采用真空鍍膜的方式，然而受到基片的可蒸鍍性限定，往往不能達到均勻有效的鍍膜。因此，現(xiàn)在繼續(xù)一種可解決上述問題的基片處理方法和裝置。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種基片旋涂裝置，所述基片旋涂裝置在基片上通過旋涂的方式涂覆一層有機膜，從而提高基片的可蒸鍍性和良品率，且操作方便。本發(fā)明的另一目的是提供一種基片處理方法，所述基片處理方法可有效提高基片的可蒸鍍性和良品率，且操作方便。為了實現(xiàn)上有目的，本發(fā)明提供了一種基片旋涂裝置，用于有機薄膜晶體管的生產(chǎn)工藝中，其包括真空吸盤、定位夾具、轉(zhuǎn)盤、升降機構、旋轉(zhuǎn)機構、下料機構和控制機構，所述真空吸盤用于承載基片；所述定位夾具包括位于所述基片四角的四個對位鉤，所述四個對位鉤構成夾持所述基片的夾持區(qū)；所述轉(zhuǎn)盤包括伸入所述夾持區(qū)的安裝盤，所述安裝盤上開設有容納所述真空吸盤的容納槽，所述容納槽內(nèi)開設有通孔，所述定位夾具與所述轉(zhuǎn)盤相連并在所述轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動時同步轉(zhuǎn)動；所述升降機構的升降桿滑動穿過所述通孔后與所述真空吸盤相連并帶動所述真空吸盤升降動作；所述旋轉(zhuǎn)機構與所述轉(zhuǎn)盤相連并帶動所述轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動；所述下料機構的下料嘴位于所述夾持區(qū)上方并向所述基片表面下有機材料；所述控制機構與所述升降機構、旋轉(zhuǎn)機構和下料機構相連，用于控制所述升降機構的升降、旋轉(zhuǎn)機構的旋轉(zhuǎn)速度和下料機構的下料。與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明基片旋涂裝置可在蒸鍍前對所述基片采用旋涂的方式涂覆一層有機I旲，從而有效提聞OTFT的基片可蒸鍛性和良品率。一方面，本發(fā)明基片旋涂裝置具有升降機構，所述升降機構可控制所述真空吸盤升降，便于取、放基片和基片的對位； 另一方面，本發(fā)明基片旋涂裝置中的定位夾具上包括位于所述基片四角的四個對位鉤，使得基片放置于夾持區(qū)后，在旋涂過程中不會因離心力而產(chǎn)生不良現(xiàn)象和問題，良品率高；再一方面，本發(fā)明具有可控制旋轉(zhuǎn)機構旋轉(zhuǎn)速度的控制機構，使得本發(fā)明在進行旋轉(zhuǎn)時可先控制所述基片低速旋轉(zhuǎn)并在基片上下料、在下料結束后控制基片高速旋轉(zhuǎn)使得有機膜的膜厚分布均勻，進一步提供OTFT的良品率。另，所述真空吸盤使得基片穩(wěn)定的承載于上，防止基片再升降過程中平行移動。較佳地，所述基片旋涂裝置還包括機架、安裝于所述機架上的工作槽和蓋于所述工作槽上的上蓋板，所述定位夾具和轉(zhuǎn)盤位于所述工作槽內(nèi)。上蓋板可在完成下料后蓋于工作槽上，為基片的高速旋轉(zhuǎn)提供不受外界打擾的環(huán)境。較佳地，所述轉(zhuǎn)盤還包括凸設于所述安裝盤下方并位于所述安裝盤中心的轉(zhuǎn)軸， 所述旋轉(zhuǎn)機構與所述轉(zhuǎn)軸相連并帶動所述轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動。具體地,所述旋轉(zhuǎn)機構包括旋轉(zhuǎn)電機、與所述旋轉(zhuǎn)電機輸出軸相連的主動輪、與所述轉(zhuǎn)軸相連的從動輪和環(huán)繞所述主動輪和從動輪的同步帶，所述旋轉(zhuǎn)電機帶動所述主動輪轉(zhuǎn)動，所述主動輪通過所述同步帶帶動所述從動輪轉(zhuǎn)動，所述從動輪通過所述轉(zhuǎn)軸帶動所述安裝盤轉(zhuǎn)動，所述控制機構與所述旋轉(zhuǎn)電機相連并控制所述旋轉(zhuǎn)電機的轉(zhuǎn)動速度。較佳地，所述升降機構包括與所述真空吸盤相連的升降桿、與所述升降桿相連并帶動所述升降桿升降動作的氣缸電機組件，所述氣缸電機組件包括氣缸和控制所述氣缸動作的升降電機，所述升降桿與所述氣缸輸出軸相連，所述控制機構與所述升降電機相連并控制所述升降電機的動作。具體地，所述氣缸電機組件包括短行程氣缸電機組件和長行程氣缸電機組件，所述短行程氣缸電機 組件的動作行程短于所述長行程氣缸電機組件的動作行程，所述短行程氣缸電機組件包括第一氣缸和第一升降電機，所述長行程氣缸電機組件包括第二氣缸和第二升降電機，所述第一升降電機安裝在安裝架上并與所述第一氣缸相連，所述安裝架與所述升降桿的末端固定，所述第二升降電機安裝在基片旋涂裝置的機架上并與所述第二氣缸相連，所述第一氣缸和第二氣缸的輸出軸位置相對地固定在一起。上述兩個行程不同的氣缸電機組件便于操作人員對真空吸盤高度的精細控制。具體地，所述基片旋涂裝置還包括安裝于所述機架上的滑臺支撐座，所述滑臺支撐座包括固定于所述機架上是滑動桿、滑動設置于所述滑動桿上的滑塊和與所述滑塊相連的所述安裝架。安裝架使得所述氣缸電機組件的接受穩(wěn)定，便于第一氣缸的安裝。較佳地，所述定位夾具包括與所述轉(zhuǎn)盤相連的定位板，所述定位板上開設有與所述基片相對應夾持槽，所述夾持槽的四角設置有所述對位鉤，且所述夾持槽構成所述夾持區(qū)。較佳地，所述真空吸盤包括吸盤部和托盤部，所述吸盤部上開設有與抽真空系統(tǒng)相連的若干抽氣孔，所述托盤部用于承載基片。本發(fā)明還提供了一種使用所述基片旋涂裝置對基片進行處理的方法，具體步驟如下(1)所述升降機構動作并帶動所述真空吸盤上升至適當位置，將基片放入所述真空吸盤內(nèi)；(2)所述升降機構動作并帶動所述真空吸盤下降以使所述真空吸盤置于所述夾持區(qū)內(nèi)；(3)所述旋轉(zhuǎn)機構動作并帶動所述基片低速旋轉(zhuǎn)的同時，所述下料機構由基片中心位置開始由里向外，在基片上噴下有機材料；(4))下料結束后，所述旋轉(zhuǎn)機構動作并帶動所述基片高速旋轉(zhuǎn)，以使有機材料均勻涂覆于所述基片表面形成有機膜；(5)用鍍膜機對所述形成有機摸的基片進行蒸鍍。與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明基片旋涂裝置可在蒸鍍前對所述基片采用旋涂的方式涂覆一層有機膜，從而有效提高OTFT的基片可蒸鍍性和良品率，而且使用所述基片旋涂裝置對基片進行旋涂，操作方便。


圖I是本發(fā)明基片旋涂裝置的結構示意圖。圖2是本發(fā)明基片旋涂裝置對基片下有機材料的狀態(tài)圖。圖3是本發(fā)明基片旋涂裝置讓有機材料均勻旋涂于基片上的狀態(tài)圖。圖4是本發(fā)明基片旋涂裝置的局部俯視圖。圖5是本發(fā)明基片旋涂裝置中所述定位夾具夾持基片的示意圖。
具體實施例方式為詳細說明本發(fā)明的技術內(nèi)容、構造特征、所實現(xiàn)目的及效果，以下結合實施方式并配合附圖詳予說明。 參考圖1，本發(fā)明公開了基片旋涂裝置100，用于有機薄膜晶體管的生產(chǎn)工藝中， 該基片旋涂裝置包括機架10、安裝于所述機架10上的工作槽11、蓋于所述工作槽11上的上蓋板12以及安裝于工作槽11內(nèi)和機架10上的旋涂部分。參考圖I至圖5，所述基片旋涂裝置100的旋涂部分包括真空吸盤21、定位夾具 23和轉(zhuǎn)盤30、安裝于機架10上的升降機構50、旋轉(zhuǎn)機構40、下料機構(下料嘴22)和控制機構(圖中未示)，所述真空吸盤21用于承載基片101 ;所述定位夾具23包括位于所述基片101四角的四個對位鉤231 (如圖5所示)，所述定位夾具23與所述轉(zhuǎn)盤30相連并在所述轉(zhuǎn)盤30的轉(zhuǎn)動時同步轉(zhuǎn)動，其四個對位鉤231構成夾持所述基片101的夾持區(qū)；所述轉(zhuǎn)盤30包括伸入所述夾持區(qū)的安裝盤31，所述安裝盤31上開設有容納所述真空吸盤21的容納槽311，所述容納槽311內(nèi)開設有通孔312 ;所述升降機構50的升降桿51滑動穿過所述通孔312并與所述真空吸盤21相連，所述升降機構50動作時帶動所述真空吸盤21升降動作；所述旋轉(zhuǎn)機構40與所述轉(zhuǎn)盤30相連并帶動所述轉(zhuǎn)盤30轉(zhuǎn)動；所述下料機構的下料嘴 22位于所述夾持區(qū)上方并向所述基片101表面下有機材料；所述控制機構與所述升降機構 50、旋轉(zhuǎn)機構40和下料機構相連，用于控制所述升降機構50的升降、旋轉(zhuǎn)機構40的旋轉(zhuǎn)速度和下料機構的下料。參考圖4，所述真空吸盤21包括吸盤部211和托盤部212，所述吸盤部211上開設有與抽真空系統(tǒng)相連的若干抽氣孔，所述托盤部212用于承載基片101。參考圖I至圖3，所述轉(zhuǎn)盤30包括位于工作槽11內(nèi)所述安裝盤31和穿過所述工作槽11并伸入所述機架10內(nèi)的轉(zhuǎn)軸32，所述旋轉(zhuǎn)機構40與所述轉(zhuǎn)軸32相連并帶動所述轉(zhuǎn)軸32轉(zhuǎn)動。參考圖4和圖5，所述定位夾具23包括與所述轉(zhuǎn)盤30相連的定位板232，所述定位板232上開設有與所述基片101相對應夾持槽233，所述夾持槽四角設置有所述對位鉤 231，且所述夾持槽233構成所述夾持區(qū)。參考圖I至圖3，所述旋轉(zhuǎn)機構40包括旋轉(zhuǎn)電機41、與所述旋轉(zhuǎn)電機41輸出軸相連的主動輪42、與所述轉(zhuǎn)軸32相連的從動輪43和環(huán)繞所述主動輪42和從動輪43的同步帶44,所述旋轉(zhuǎn)電機41帶動所述主動輪42轉(zhuǎn)動,所述主動輪42通過所述同步帶44帶動所述從動輪43轉(zhuǎn)動，所述從動輪43通過所述轉(zhuǎn)軸32帶動所述安裝盤31轉(zhuǎn)動，所述控制機構與所述旋轉(zhuǎn)電機41相連并控制所述旋轉(zhuǎn)電機41的轉(zhuǎn)動速度。
參考圖I至圖3，所述基片旋涂裝置100還包括安裝于所述機架10上的滑臺支撐座60，所述滑臺支撐座60包括固定于所述機架10上是滑動桿61、滑動設置于所述滑動桿 61上的滑塊62和與所述滑塊62相連的安裝架63。參考圖I至圖3，所述升降機構50包括與所述真空吸盤21相連的升降桿51、與所述升降桿51相連并帶動所述升降桿51升降動作的氣缸電機組件，所述氣缸電機組件包括短行程氣缸電機組件和長行程氣缸電機組件，所述短行程氣缸電機組件的動作行程短于所述長行程氣缸電機組件的動作行程，所述短行程氣缸電機組件包括第一氣缸522和第一升降電機521,所述長行程氣缸電機組件包括第二氣缸531和第二升降電機(圖中未不)，所述第一升降電機521安裝在安裝架63上并與所述第一氣缸522相連，所述安裝架61與所述升降桿51的末端固定，所述第二升降電機安裝在機架10上并與所述第二氣缸531相連， 所述第一氣缸522的輸出軸523和第二氣缸531的輸出軸532位置相對地固定在一起。所述控制機構與所述第一升降電機521和第二升降電機相連并控制上述升降電機的動作。本發(fā)明還公開了一種使用所述基片旋涂裝置100對基片進行處理的方法，參考圖 I至圖3，具體步驟如下(1)所述升降機構50的第一氣缸522和第二氣缸531動作，所述輸出軸523和輸出軸532處于伸出狀態(tài)，所述真空吸盤21上升至適當位置(如圖I所示)，將基片101放入所述真空吸盤21內(nèi)并對位；(2)所述升降機構40動作的第一氣缸522和第二氣缸531動作，所述輸出軸523和輸出軸532處于縮回狀態(tài)，所述真空吸盤21下降并位于所述夾持區(qū)內(nèi)(如圖2所示)；(3)所述旋轉(zhuǎn)機構40動作并帶動所述轉(zhuǎn)盤30低速旋轉(zhuǎn)， 轉(zhuǎn)盤30上的基片101隨之轉(zhuǎn)動，所述下料嘴22由基片101中心位置開始由里向外，在基片 101上噴下有機材料；(4))下料結束后，將上蓋板12蓋于工作槽11上，所述旋轉(zhuǎn)機構40動作并帶動轉(zhuǎn)盤30高速轉(zhuǎn)動，轉(zhuǎn)盤30上的基片101隨之轉(zhuǎn)動，以使有機材料均勻涂覆于所述基片101表面形成有機膜(如圖3所示)；(5)用鍍膜機對所述形成有機摸的基片101進行蒸鍍。
以上所揭露的僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例而已，當然不能以此來限定本發(fā)明之權利范圍，因此依本發(fā)明申請專利范圍所作的等同變化，仍屬本發(fā)明所涵蓋的范圍。
權利要求
1.一種基片旋涂裝置，用于有機薄膜晶體管的生產(chǎn)工藝中，其特征在于包括 真空吸盤，用于承載基片； 定位夾具，包括位于所述基片四角的四個對位鉤，所述四個對位鉤構成夾持所述基片的夾持區(qū)； 轉(zhuǎn)盤，所述轉(zhuǎn)盤包括伸入所述夾持區(qū)的安裝盤，所述安裝盤上開設有容納所述真空吸盤的容納槽，所述容納槽內(nèi)開設有通孔，所述定位夾具與所述轉(zhuǎn)盤相連并在所述轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動時同步轉(zhuǎn)動； 升降機構，所述升降機構的升降桿滑動穿過所述通孔后與所述真空吸盤相連并帶動所述真空吸盤升降動作； 旋轉(zhuǎn)機構，所述旋轉(zhuǎn)機構與所述轉(zhuǎn)盤相連并帶動所述轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動； 下料機構，所述下料機構的下料嘴位于所述夾持區(qū)上方并向所述基片表面下有機材料； 控制機構，所述控制機構與所述升降機構、旋轉(zhuǎn)機構和下料機構相連，用于控制所述升降機構的升降、旋轉(zhuǎn)機構的旋轉(zhuǎn)速度和下料機構的下料。
2.如權利要求I所述的基片旋涂裝置，其特征在于還包括機架、安裝于所述機架上的工作槽和蓋于所述工作槽上的上蓋板，所述定位夾具和轉(zhuǎn)盤位于所述工作槽內(nèi)。
3.如權利要求I所述的基片旋涂裝置，其特征在于所述轉(zhuǎn)盤還包括凸設于所述安裝盤下方并位于所述安裝盤中心的轉(zhuǎn)軸，所述旋轉(zhuǎn)機構與所述轉(zhuǎn)軸相連并帶動所述轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動。
4.如權利要求3所述的基片旋涂裝置，其特征在于所述旋轉(zhuǎn)機構包括旋轉(zhuǎn)電機、與所述旋轉(zhuǎn)電機輸出軸相連的主動輪、與所述轉(zhuǎn)軸相連的從動輪和環(huán)繞所述主動輪和從動輪的同步帶，所述旋轉(zhuǎn)電機帶動所述主動輪轉(zhuǎn)動，所述主動輪通過所述同步帶帶動所述從動輪轉(zhuǎn)動，所述從動輪通過所述轉(zhuǎn)軸帶動所述安裝盤轉(zhuǎn)動，所述控制機構與所述旋轉(zhuǎn)電機相連并控制所述旋轉(zhuǎn)電機的轉(zhuǎn)動速度。
5.如權利要求I所述的基片旋涂裝置，其特征在于所述升降機構包括與所述真空吸盤相連的升降桿、與所述升降桿相連并帶動所述升降桿升降動作的氣缸電機組件，所述氣缸電機組件包括與所述升降桿相連的氣缸和控制所述氣缸動作的升降電機，所述控制機構與所述升降電機相連并控制所述升降電機的動作。
6.如權利要求5所述的基片旋涂裝置，其特征在于所述氣缸電機組件包括短行程氣缸電機組件和長行程氣缸電機組件，所述短行程氣缸電機組件的動作行程短于所述長行程氣缸電機組件的動作行程，所述短行程氣缸電機組件包括第一氣缸和第一升降電機，所述長行程氣缸電機組件包括第二氣缸和第二升降電機，所述第一升降電機安裝在安裝架上并與所述第一氣缸相連，所述安裝架與所述升降桿的末端固定，所述第二升降電機安裝在基片旋涂裝置的機架上并與所述第二氣缸相連，所述第一氣缸和第二氣缸的輸出軸位置相對地固定在一起。
7.如權利要求6所述的基片旋涂裝置，其特征在于還包括安裝于所述機架上的滑臺支撐座，所述滑臺支撐座包括固定于所述機架上是滑動桿、滑動設置于所述滑動桿上的滑塊和與所述滑塊相連的所述安裝架。
8.如權利要求I所述的基片旋涂裝置，其特征在于所述定位夾具包括與所述轉(zhuǎn)盤相連的定位板，所述定位板上開設有與所述基片相對應夾持槽，所述夾持槽的四角設置有所述對位鉤,且所述夾持槽構成所述夾持區(qū)。
9.如權利要求I所述的基片旋涂裝置，其特征在于所述真空吸盤包括吸盤部和托盤部，所述吸盤部上開設有與抽真空系統(tǒng)相連的若干抽氣孔，所述托盤部用于承載基片。
10.一種使用如權利1-9任一項所述的基片旋涂裝置對基片進行處理的方法，其特征在于具體步驟如下 (1)所述升降機構動作并帶動所述真空吸盤上升至適當位置，將基片放入所述真空吸盤內(nèi)； (2)所述升降機構動作并帶動所述真空吸盤下降以使所述真空吸盤置于所述夾持區(qū)內(nèi)； (3)所述旋轉(zhuǎn)機構動作并帶動所述基片低速旋轉(zhuǎn)的同時，所述下料機構由基片中心位置開始由里向外，在基片上噴下有機材料； (4))下料結束后，所述旋轉(zhuǎn)機構動作并帶動所述基片高速旋轉(zhuǎn)，以使有機材料均勻涂覆于所述基片表面形成有機膜； (5)用鍍膜機對所述形成有機摸的基片進行蒸鍍。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種基片旋涂裝置，用于有OTFT生產(chǎn)中，其包括承載基片的真空吸盤、固定基片的定位夾具、轉(zhuǎn)動基片的轉(zhuǎn)盤、與真空吸盤相連的升降機構、與轉(zhuǎn)盤相連的旋轉(zhuǎn)機構、位于轉(zhuǎn)盤上方的下料機構和控制上述機構動作的控制機構，定位夾具包括位于基片四角的四個對位鉤以形成夾持基片的夾持區(qū)；轉(zhuǎn)盤包括伸入夾持區(qū)的安裝盤，安裝盤上開設有容納真空吸盤的容納槽，容納槽內(nèi)開設有通孔；所述控制機構用于控制升降機構的升降、旋轉(zhuǎn)機構的旋轉(zhuǎn)速度和下料機構的下料。本發(fā)明還公開了一種使用上述基片旋涂裝置處理基片的方法，該方法需在蒸鍍前對所述基片采用旋涂的方式涂覆一層有機膜，從而有效提高OTFT的基片可蒸鍍性和良品率。
文檔編號H01L51/40GK102709476SQ20121001106
公開日2012年10月3日 申請日期2012年1月13日 優(yōu)先權日2012年1月13日
發(fā)明者劉惠森, 楊明生, 楊順先, 范繼良 申請人:東莞宏威數(shù)碼機械有限公司