專利名稱：曝光裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種曝光裝置，更詳細(xì)地說涉及一種能夠?qū)?yīng)尺寸及吸附區(qū)域不同的多個(gè)掩模的曝光裝置。
背景技術(shù)：
液晶顯示器裝置的TFT基板、濾色板以及等離子顯示面板用基板等，是通過使用曝光裝置，經(jīng)掩模對涂布有光致抗蝕劑的基板進(jìn)行曝光照射，由此將掩模的圖案轉(zhuǎn)印到基板上來制成的。在曝光裝置的掩模架中設(shè)置有吸附槽，并將掩模的緣部真空吸附到該吸附槽中，以保持掩模。以往，尺寸不同的基板曝光需要按照掩模的大小來更換曝光裝置的掩模架后再進(jìn)行，但更換掩模架需要時(shí)間，在作業(yè)效率方面存在問題。對此，已知有以一個(gè)掩模架來應(yīng)對多個(gè)尺寸的掩模的曝光裝置(例如參照專利文獻(xiàn)1 3)。專利文獻(xiàn)1所述的曝光裝置，是通過將掩模架分割形成為用于保持掩模周邊部的多個(gè)獨(dú)立的支架部，并對應(yīng)于掩模的大小使支架部移動(dòng)，從而能夠短時(shí)間地應(yīng)對尺寸不同的掩模。另外，專利文獻(xiàn)2中所述的掃描投影曝光裝置具有使掩模移動(dòng)的掩模臺；僅僅對掩模的兩條邊進(jìn)行吸附保持的吸附保持機(jī)構(gòu)；以及能夠選擇性地進(jìn)出掩模臺的多個(gè)掩模定位用對接銷；而且可應(yīng)對尺寸不同的多個(gè)掩模。另外，在專利文獻(xiàn)3中所述的曝光裝置的掩模保持機(jī)構(gòu)，利用以預(yù)定的間距在掩模的各長邊側(cè)所設(shè)置的三處、合計(jì)六處的卡盤部來保持掩模的長邊側(cè)，抑制掩模固有振動(dòng)頻率的下降，并且可應(yīng)對尺寸不同的多個(gè)掩模。另一方面，周邊部被真空吸附保持于掩模架上的掩模，因其自重使中央部分下垂而產(chǎn)生撓曲，因此，無法維持掩模的平坦度，結(jié)果使掩模與基板之間的間隙發(fā)生變化，有可能對曝光精度造成較大的影響。為了解決該問題，公開了一種曝光裝置，其利用外力施加機(jī)構(gòu)，對借助隔墊安裝于掩模臺下表面的掩模架施加外力，使掩模架呈凸?fàn)钭冃危纱?，對掩模附加傾斜角、即相對于掩模架水平方向的傾斜角，以修正掩模的平坦度(例如，參照專利文獻(xiàn)4)?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1 日本特開2009-210920號公報(bào)專利文獻(xiàn)2 日本特開2006-5139號公報(bào)專利文獻(xiàn)3 日本特開2008-58789號公報(bào)專利文獻(xiàn)4 日本特開2006-178318號公報(bào)發(fā)明所要解決的問題專利文獻(xiàn)1中所公開的曝光裝置無需更換掩模架，也能夠應(yīng)對尺寸不同的多個(gè)掩模，但不具有用于修正平坦度的機(jī)構(gòu)，因而無法高精度地對掩模的圖案進(jìn)行曝光轉(zhuǎn)印，而且，在使用了尺寸不同的掩模時(shí)，因掩模的更換也使掩模與基板之間的間隙發(fā)生變化，有可能對曝光精度造成不良影響。另外，專利文獻(xiàn)4中所公開的曝光裝置通過對掩模賦予傾斜角，以謀求對掩模平坦度的改善，但文中并沒有有關(guān)不同尺寸的掩模的記載內(nèi)容，存在無法應(yīng)對多個(gè)尺寸的掩模的問題，有改善的余地。另外，通常，用于形成掩模圖案的掩模用玻璃基板使用了多種尺寸的掩模，而且掩模圖案的大小取決于產(chǎn)品的大小以及圖案化，存在有尺寸不同的多個(gè)圖案。因此，為了對所期望的掩模圖案進(jìn)行圖案化，而選擇使用最適尺寸的掩模用玻璃基板。因此，隨著圖案化， 會(huì)出現(xiàn)圖案以外的部分不同、即可用作掩模的吸附區(qū)域不同的情況。另一方面，由于掩模的價(jià)格高，因此強(qiáng)烈要求將掩?？煽康匚奖３衷谘谀＜苌?，以防止因落下等造成的損壞。專利文獻(xiàn)1中所公開的曝光裝置，通過使獨(dú)立分割形成的支架部對應(yīng)于掩模的大小進(jìn)行移動(dòng)，從而無需更換掩模架，也能夠應(yīng)對尺寸不同的多個(gè)掩模，但用于對設(shè)置于支架部上的掩模進(jìn)行吸附保持的吸附槽的大小是一定的，例，即使能夠在掩模上設(shè)定較大面積的吸附區(qū)域，但僅能利用設(shè)置于支架部那樣大小的吸附槽來進(jìn)行吸附保持，從可靠地保持掩模以防止因掩模落下造成破損的觀點(diǎn)來看，也存在改善的余地。另外，在專利文獻(xiàn)2中公開的掃描投影曝光裝置僅能吸附保持掩模的長邊側(cè)的兩條邊，存在與專利文獻(xiàn)1同樣的問題。進(jìn)而，如圖35(a)所示，專利文獻(xiàn)1中所公開的曝光裝置，通過以獨(dú)立的四個(gè)支架部Ha、Hb、Hc、Hd(其中Hc、Hd可移動(dòng))來吸附保持掩模M的四條邊，無需更換掩模架，也能夠?qū)?yīng)尺寸不同的多個(gè)掩模M。如圖35(b)以及(c)所示，周緣部被吸附保持的掩模M因自重而產(chǎn)生了自重?fù)锨?，在四邊被保持的掩模M的情況，在X方向、Y方向上都是掩模M的中央部撓曲量最大，形成隨著靠近周緣而撓曲量逐漸變小的復(fù)雜形狀的三維撓曲。另外，關(guān)于大小尺寸不同的掩模M的撓曲形狀，由于用于保持短邊側(cè)兩緣部的支架部He、Hd之間的間距S不同，因此X方向的撓曲形狀隨著掩模M的大小而不同。該掩模M的撓曲成為掩模 M與基板之間的間隙出現(xiàn)偏差的主要原因，有可能對曝光精度產(chǎn)生不良影響。但是，在專利文獻(xiàn)1的曝光裝置中，存在無法解決因更換尺寸不同的掩模而造成的平坦度(撓曲)變化的問題。另外，在專利文獻(xiàn)3中公開的曝光裝置的掩模保持機(jī)構(gòu)中，將設(shè)置于掩模長邊側(cè)的卡盤部的間距設(shè)定為長邊長度一半的0. 65 0. 80倍，這樣抑制了安裝于掩模架的掩模的固有振動(dòng)頻率的下降，且無法使基于尺寸不同的掩模的自重?fù)锨钠教苟扰c尺寸無關(guān)聯(lián)地保持一定，因此存在改善的余地。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述課題而提出的，其第一目的在于提供一種曝光裝置，其在使平坦度維持一定的狀態(tài)下，能夠?qū)?yīng)尺寸不同的多個(gè)掩模。另外，第二目的在于提供一種曝光裝置，其能夠?qū)?yīng)尺寸和可吸附區(qū)域不同的多個(gè)掩模，可靠地吸附保持掩模，能夠防止因掩模落下等造成的損壞。第三目的在于提供一種曝光裝置，其能夠?qū)?yīng)尺寸不同的多個(gè)掩模， 并能夠較容易地修正掩模的撓曲。用于解決問題的手段本發(fā)明的上述目的通過下述的結(jié)構(gòu)來實(shí)現(xiàn)。(1) 一種曝光裝置，具有載置有作為被曝光材料的基板的基板臺；配置于所述基板臺的上方，以保持大致矩形狀的掩模的掩模臺；以及對所述基板經(jīng)所述掩模照射圖案曝光用光的照射機(jī)構(gòu)；其特征在于，所述掩模臺具有掩模臺基座側(cè)構(gòu)件；能夠分別吸附保持所述掩模的各邊的四個(gè)掩模架；多個(gè)引導(dǎo)機(jī)構(gòu)，其分別設(shè)置在所述掩模臺基座側(cè)構(gòu)件與用于吸附保持所述掩模短邊側(cè)的至少兩個(gè)所述掩模架之間，能夠引導(dǎo)所述短邊側(cè)的掩模架相對于所述掩模臺基座側(cè)構(gòu)件向長邊方向移動(dòng)；驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其使所述短邊側(cè)的掩模架相對于所述掩模臺基座側(cè)構(gòu)件向長邊方向移動(dòng)；以及傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)，其分別設(shè)置在所述掩模臺基座側(cè)構(gòu)件與所述各引導(dǎo)機(jī)構(gòu)之間、 和所述各引導(dǎo)機(jī)構(gòu)與所述短邊側(cè)的掩模架之間中的至少一方，能夠調(diào)整所述掩模的傾斜角。(2)根據(jù)(1)所述的曝光裝置，其特征在于，所述傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)分別設(shè)置在所述掩模臺基座側(cè)構(gòu)件與所述各引導(dǎo)機(jī)構(gòu)之間、以及所述各引導(dǎo)機(jī)構(gòu)與所述短邊側(cè)的掩模架之間。(3)根據(jù)(1)或(2)所述的曝光裝置，其特征在于，所述各引導(dǎo)機(jī)構(gòu)分別具有安裝于所述掩模臺基座側(cè)的導(dǎo)軌、和安裝于所述掩模架側(cè)的滑塊構(gòu)件，所述傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)分別設(shè)置在所述掩模臺基座側(cè)構(gòu)件與所述各導(dǎo)軌之間、和所述各滑塊構(gòu)件與所述短邊側(cè)的掩模架之間的至少一者中。(4)根據(jù)1至3中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，所述傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)為彼此高度不同的可更換的一對隔墊。(5)根據(jù)(1)至(3)中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，所述傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)具有具備預(yù)定高度的隔墊；和楔機(jī)構(gòu)，該楔機(jī)構(gòu)具有設(shè)置于該隔墊的外側(cè)，具有傾斜面的固定側(cè)錐形構(gòu)件；和具有滑動(dòng)自如地接觸上述傾斜面的傾斜面的活動(dòng)側(cè)錐形構(gòu)件，該楔機(jī)構(gòu)通過改變所述傾斜面的滑動(dòng)接觸位置可改變高度。(6)根據(jù)( 所述的曝光裝置，其特征在于，所述楔機(jī)構(gòu)通過由電動(dòng)促動(dòng)器驅(qū)動(dòng)所述活動(dòng)側(cè)錐形構(gòu)件，以調(diào)整所述傾斜角。(7)根據(jù)(1)至(3)中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，所述傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)為通過通電控制能夠改變高度的壓電元件。(8)根據(jù)(1)至(7)中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為氣缸裝置，其氣缸主體固定在所述掩模臺基座側(cè)構(gòu)件上，且其活塞前端固定在所述掩模架上。(9)根據(jù)(8)所述的曝光裝置，其特征在于，所述氣缸裝置具有以可移動(dòng)的方式安裝于所述掩模臺基座側(cè)構(gòu)件上、帶吸震器的止動(dòng)件，使所述活塞與該止動(dòng)件抵接而將所述掩模架定位到預(yù)定的位置上。(10)根據(jù)(1)至(7)中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為電動(dòng)機(jī)。(11)根據(jù)(10)所述的曝光裝置，其特征在于，所述電動(dòng)機(jī)使所述掩模架在至少三處的停止位置停止。(12)根據(jù)⑴至(11)中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，用于吸附保持所述掩模短邊側(cè)的所述掩模架和用于吸附保持所述掩模長邊側(cè)的所述掩模架，至少在相互接近的側(cè)緣部，具有形成為比其余部分更薄壁的薄壁部。(13)根據(jù)⑴至(11)中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，用于吸附保持所述掩模短邊側(cè)的所述掩模架和用于吸附保持所述掩模長邊側(cè)的所述掩模架，在相互接近的角部具有倒角部。(14)根據(jù)⑴至(11)中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，用于吸附保持所述掩模短邊側(cè)的所述掩模架和用于吸附保持所述掩模長邊側(cè)的所述掩模架中的任一個(gè)掩模架，至少在相互接近的側(cè)緣部具有從下表面延伸出的臺階部，并且所述另一個(gè)掩模架具有從上表面延伸出的臺階部，所述短邊側(cè)和長邊側(cè)的掩模架以所述臺階部彼此相互疊合的狀態(tài)來吸附保持所述掩模。(15)根據(jù)(1)至(14)中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，所述曝光裝置還具有負(fù)壓修正機(jī)構(gòu)，該負(fù)壓修正機(jī)構(gòu)具有面對著所述掩模一個(gè)面的腔室(chamber)，且對所述腔室內(nèi)的氣壓和作用于所述掩模另一個(gè)面上的氣壓賦予壓力差，以修正所述掩模的所述傾斜角。(16) 一種曝光裝置，其具有載置有作為被曝光材料的基板的基板臺；配置于所述基板臺的上方，以保持大致矩形狀的掩模的掩模臺；以及對所述基板經(jīng)所述掩模照射圖案曝光用光的照射機(jī)構(gòu)；其特征在于，所述掩模臺具有一對第一掩模架，其能夠吸附保持沿預(yù)定方向延伸的所述掩模的相對兩邊；一對第二掩模架，其能夠吸附保持沿與所述預(yù)定方向正交的方向延伸的所述掩模的相對的另外兩邊，并且能夠向所述掩模的所述預(yù)定方向移動(dòng)；以及一對驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其分別使所述各第二掩模架向所述掩模的所述預(yù)定方向移動(dòng)，所述各第二掩模架具有并列于所述預(yù)定方向上的多列吸附槽，該吸附槽利用所提供的負(fù)壓來吸附保持所述掩模的另外兩邊側(cè)。(17)根據(jù)(16)所述的曝光裝置，其特征在于，所述第二掩模架的所述吸附槽利用電磁閥來切換負(fù)壓的供給和停止。(18)根據(jù)(16)或(17)所述的曝光裝置，其特征在于，所述各第一掩模架具有多個(gè)其他吸附槽，所述吸附槽在所述預(yù)定方向上分割設(shè)置，以利用所提供的負(fù)壓來吸附保持所述掩模的兩邊側(cè)，所述第一掩模架的所述其他吸附槽和所述第二掩模架的吸附槽，利用逐個(gè)設(shè)置于每個(gè)所述其他吸附槽和所述吸附槽中的各電磁閥，切換負(fù)壓的供給和停止，且控制負(fù)壓的大小。(19)根據(jù)(16) (18)中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，還具有負(fù)壓修正機(jī)構(gòu)，該負(fù)壓修正機(jī)構(gòu)具有面對著所述掩模一個(gè)面的腔室，并對所述腔室內(nèi)的氣壓和作用于所述掩模另一個(gè)面上的氣壓賦予壓力差，以修正所述掩模的撓曲。(20) 一種曝光裝置，其具有載置有作為被曝光材料的基板的基板臺；配置于所述基板臺的上方，以保持大致矩形狀的掩模的掩模臺；以及對所述基板經(jīng)所述掩模照射圖案曝光用光的照射機(jī)構(gòu)；其特征在于，所述掩模臺具有—對掩模架，其利用所提供的負(fù)壓來吸附保持所述掩模的相對兩邊，且分別具有沿著該兩邊方向分割形成的多個(gè)吸附槽；和負(fù)壓修正機(jī)構(gòu)，其具有面對著所述掩模一個(gè)面的腔室，對所述腔室內(nèi)的氣壓和作用于所述掩模的另一個(gè)面上的氣壓賦予壓力差，以修正所述掩模的撓曲。(21)根據(jù)00)所述的曝光裝置，其特征在于，所述一對掩模架的所述多個(gè)吸附槽利用逐個(gè)設(shè)置于每個(gè)所述吸附槽中的電磁閥，切換負(fù)壓的供給和停止，且控制負(fù)壓的大小。(22) 一種曝光裝置，其具有載置有作為被曝光材料的基板的基板臺；配置于所述基板臺的上方，以保持大致矩形狀的掩模的掩模臺；以及對所述基板經(jīng)所述掩模照射圖案曝光用光的照射機(jī)構(gòu)；其特征在于，所述掩模臺具有掩模臺基座側(cè)構(gòu)件；一對掩模架，其分別具有多個(gè)吸附槽，所述吸附槽利用所提供的負(fù)壓來吸附保持所述掩模的相對兩邊，并在沿著該兩邊的方向分割形成；以及傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)，其分別設(shè)置在所述掩模臺基座側(cè)構(gòu)件與所述各掩模架之間，以使所述各掩模架傾斜，并能夠調(diào)整所述掩模的傾斜角。(23)根據(jù)0 所述的曝光裝置，其特征在于，所述一對掩模架的所述多個(gè)吸附槽利用逐個(gè)設(shè)置于每個(gè)所述吸附槽中的各電磁閥，切換負(fù)壓的供給和停止，并控制負(fù)壓的大發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置，掩模臺具有掩模臺基座；用于吸附保持掩模各邊的四個(gè)掩模架；將短邊側(cè)的掩模架引導(dǎo)為能夠相對于掩模臺基座側(cè)構(gòu)件向長邊方向移動(dòng)的多個(gè)引導(dǎo)機(jī)構(gòu)；以及使短邊側(cè)的掩模架向掩模的長邊方向移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，因此，通過使短邊側(cè)的掩模架對應(yīng)于掩模大小而移動(dòng)，在不更換掩模架的情況下，也能夠相應(yīng)地吸附保持不同尺寸的多個(gè)掩模。另外，在掩模臺基座側(cè)構(gòu)件與各引導(dǎo)機(jī)構(gòu)之間、和各引導(dǎo)機(jī)構(gòu)與短邊側(cè)的掩模架之間中的至少一方具有傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)，因此，無論掩模尺寸如何，也能夠修正所安裝的掩模的平坦度，將掩模與基板之間的間隙維持為一定，并提高曝光精度。另外，根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置，掩模臺具有一對第一掩模架，其能夠吸附保持沿預(yù)定方向延伸的掩模的相對兩邊；一對第二掩模架，其能夠吸附保持沿與預(yù)定方向正交的方向延伸的掩模的相對的其他兩邊，且能夠向掩模的預(yù)定方向移動(dòng)；以及一對驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其分別使各第二掩模架向掩模的預(yù)定方向移動(dòng)，因此，無需更換掩模架，能夠吸附保持尺寸不同的多個(gè)掩模。另外，在各第二掩模架上，設(shè)置有多個(gè)并列在預(yù)定方向上的吸附槽，因此，即使可吸附區(qū)域?qū)?yīng)于不同的掩模，也能夠有效使用該可吸附區(qū)域，并能夠可靠地吸附保持掩模。另外，根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置，掩模臺具有利用分割形成為多個(gè)的吸附槽來吸附保持掩模的相對兩邊的一對掩模架，因此，無需更換掩模架，也能夠相應(yīng)地吸附保持該兩邊長度不同的多種尺寸的掩模。另外，掩模架僅以該兩邊來保持掩模，從而即使更換為尺寸不同的掩模，掩模的撓曲形狀也不會(huì)變化。進(jìn)而，具有對面對著掩模一個(gè)面的腔室內(nèi)的氣壓和作用于掩模另一個(gè)面上的氣壓賦予壓力差，用于修正掩模撓曲的負(fù)壓修正機(jī)構(gòu)，因此，可利用負(fù)壓修正機(jī)構(gòu)來修正掩模的撓曲，能夠?qū)⒀谀Ｅc基板之間的間隙維持為一定，并維持高曝光精度。另外，在具有配設(shè)于掩模臺基座側(cè)構(gòu)件與各掩模架之間的傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)的情況下，也能夠由傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)來修正掩模的撓曲，使掩模與基板之間的間隙保持一定，并能夠提高曝光精度。


圖1是本發(fā)明的第一實(shí)施方式的曝光裝置的主要部位立體圖。圖2是圖1所示的曝光裝置的主視圖。圖3是放大顯示掩模臺附近部分的立體圖。圖4是沿著圖3的A-A線的向視剖視圖。圖5是從下方觀察掩模臺的仰視圖。圖6是表示由傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)來修正尺寸不同的掩模的平坦度的狀態(tài)的圖。圖7是使短邊側(cè)掩模架移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的側(cè)視圖。圖8是變形例的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的側(cè)面圖。圖9是變形例的傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)的局部斷裂側(cè)視圖。圖10是圖9所示的楔機(jī)構(gòu)的固定側(cè)錐形構(gòu)件的部分?jǐn)嗔褌?cè)視圖。圖11 (a)是圖9所示的楔機(jī)構(gòu)的活動(dòng)側(cè)錐形構(gòu)件的側(cè)視圖，(b)是沿著B-B線的向視剖視圖。圖12是表示利用第二實(shí)施方式的曝光裝置的傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)來修正尺寸不同的掩模的平坦度的狀態(tài)的圖。圖13是表示利用第二實(shí)施方式的變形例的傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)來修正尺寸不同的掩模的平坦度的狀態(tài)的圖。圖14(a)是表示作為用于調(diào)整第三實(shí)施方式的固定掩模架與活動(dòng)掩模架之間的段差的機(jī)構(gòu)，由在側(cè)緣部形成薄壁部的掩模架對掩模進(jìn)行吸附保持的狀態(tài)的立體圖，(b)是沿著(a)的XIV-XIV線的剖視圖；(c)是表示形成于側(cè)緣部的薄壁部的第一變形例的、與 (b)相對應(yīng)的剖視圖；(d)是表示形成于側(cè)緣部的薄壁部的第二變形例的、與(b)相對應(yīng)的剖視圖，(e)是表示形成于側(cè)緣部的薄壁部的第三變形例的、與(b)相對應(yīng)的剖視圖；(f)是表示形成于側(cè)緣部的薄壁部的第四變形例的、與(b)相對應(yīng)的剖視圖。圖15是用于說明固定掩模架和活動(dòng)掩模架之間形成段差的情況的剖視圖。圖16(a)和(b)是表示作為用于調(diào)整第三實(shí)施方式的變形例的固定掩模架和活動(dòng)掩模架之間的段差的機(jī)構(gòu)，由角部設(shè)置有倒角部的掩模架來吸附保持掩模的狀態(tài)的斜視圖。圖17(a)是表示用于調(diào)整作為第三實(shí)施方式的另一變形例的固定掩模架和活動(dòng)掩模架之間的段差的機(jī)構(gòu)，由具有從側(cè)緣部的上表面和下表面延伸的臺階部的掩模架來吸附保持掩模的狀態(tài)的立體圖，(b)是進(jìn)一步具有調(diào)整螺栓的掩模架的沿著(a)中的 XVII-XVII線的剖視圖。
圖18是表示第四實(shí)施方式的曝光裝置的結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。圖19是與第五實(shí)施方式的曝光裝置的圖4相對應(yīng)的剖視圖。圖20是表示第一、第二掩模架的吸附槽的配置與吸附保持于其上的大掩模的位置關(guān)系的一個(gè)例子的俯視圖。圖21是第一、第二掩模架與各吸附槽相連接的氣動(dòng)電路圖。圖22是用于使短邊側(cè)的第二掩模架移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的側(cè)視圖。圖23是變形例的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的側(cè)視圖。圖M是表示第一、第二掩模架與大掩模之間的位置關(guān)系的另一例子的俯視圖。圖25是表示第一、第二掩模架與小掩模之間的位置關(guān)系的一個(gè)例子的俯視圖。圖沈是表示第一、第二掩模架與小掩模之間的位置關(guān)系的另一個(gè)例子的俯視圖。圖27是第一、第二掩模架與各吸附槽相連接的變形例的氣動(dòng)電路圖。圖觀是與第六實(shí)施方式的曝光裝置的圖4相對應(yīng)的剖視圖。圖四是掩模架與各吸附槽相連接的氣動(dòng)電路圖。圖30是表示尺寸不同的大小掩模與掩模架之間的位置關(guān)系的俯視圖。圖31 (a)是以掩模架來保持長邊側(cè)兩邊的掩模的俯視圖，(b)是表示掩模的X方向撓曲狀態(tài)的剖視圖，(c)是表示掩模的Y方向撓曲狀態(tài)的剖視圖。圖32是本發(fā)明的第七實(shí)施方式的與圖觀相當(dāng)?shù)钠室晥D。圖33是變形例的傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)的局部截?cái)鄠?cè)視圖。圖34(a) (c)是表示掩模的角部的形狀的圖。圖35(a)是四條邊被掩模架保持的掩模的俯視圖，(b)是表示掩模的X方向撓曲狀態(tài)的剖視圖，(c)是表示掩模的Y方向撓曲狀態(tài)的剖視圖。附圖標(biāo)記說明1 曝光裝置；10 掩模臺；11 掩模臺基座(掩模臺基座側(cè)構(gòu)件)；12 掩模保持框 (掩模臺基座側(cè)構(gòu)件)14:掩模架；1 :主吸附槽(吸附槽)14b:副吸附槽(吸附槽)；20: 基板臺30:照明光學(xué)系統(tǒng)(照射機(jī)構(gòu))；71 固定掩模架(掩模架)；71d、72d:側(cè)緣部；71e、 72e 薄壁部；71f、72f 倒角部；71g、72g 臺階部；72 活動(dòng)掩模架(短邊側(cè)掩模架、掩模架)；73 線性導(dǎo)軌；73a 導(dǎo)軌；7 滑塊構(gòu)件；74 氣缸裝置(驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu))；7 氣缸主體； 74b 活塞；76 吸震器；77 止動(dòng)件；78 電動(dòng)促動(dòng)器；80、80A、80B 傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)；81 隔墊；83 楔機(jī)構(gòu)；84 固定側(cè)錐形構(gòu)件；84a 固定側(cè)錐形構(gòu)件的傾斜面；85 活動(dòng)側(cè)錐形構(gòu)件；8 活動(dòng)側(cè)錐形構(gòu)件的傾斜面；90 負(fù)壓修正機(jī)構(gòu)；91 熱處理室(腔室，chamber) ；92 光學(xué)系統(tǒng)室(腔室)；113、115、116、117 電磁閥；171 固定掩模架(第一掩模架)；171a 主吸附槽(其他吸附槽)；171b 副吸附槽(其他吸附槽)；172 活動(dòng)掩模架(第二掩模架)； 172a 主吸附槽(吸附槽)；172b 副吸附槽(吸附槽)；M 掩模；W 基板。
具體實(shí)施例方式以下，根據(jù)附圖，對本發(fā)明的曝光裝置的各實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說明。(第一實(shí)施方式)圖1是作為本發(fā)明第一實(shí)施方式的曝光裝置的主要部位立體圖，圖2是主視圖，圖 3是掩模臺附近部分的放大圖，圖4是掩模臺的俯視圖。
11
如圖1所示，本實(shí)施方式的曝光裝置1具有用于保持掩模M的掩模臺10 ；用于保持玻璃基板(被曝光材料)W的基板臺20 ；作為圖案曝光用照射機(jī)構(gòu)的照明光學(xué)系統(tǒng)30 ；基板臺移動(dòng)機(jī)構(gòu)40，其使基板臺20向X軸、Y軸、Z軸方向移動(dòng)，并且對基板臺20進(jìn)行傾斜調(diào)整；以及用于支承掩模臺10和基板臺移動(dòng)機(jī)構(gòu)40的裝置基座50。此外，玻璃基板W(以下簡稱為“基板W”)與掩模M相對配置，在要將描繪于該掩模M上的掩模圖案進(jìn)行曝光轉(zhuǎn)印的表面(掩模M的對置面?zhèn)?上涂布感光劑。首先，從照明光學(xué)系統(tǒng)30開始進(jìn)行說明。照明光學(xué)系統(tǒng)30具有作為紫外線照射用光源的例如高壓水銀燈31 ；將從該高壓水銀燈31照射出的光進(jìn)行聚光的凹面鏡32 ；切換自如地配置于該凹面鏡32的焦點(diǎn)附近的兩種光學(xué)積分器33 ；用于改變光路方向的平面鏡35、36和球面鏡37 ；以及配置于該平面鏡35與光學(xué)積分器33之間以開閉控制照射光路的曝光控制用開閉器34。并且，在照明光學(xué)系統(tǒng)30中，在曝光時(shí)對曝光控制用開閉器34進(jìn)行開啟控制時(shí)， 從高壓水銀燈31照射出的光，經(jīng)由圖1所示的光路L，作為圖案曝光用的平行光垂直地照射到保持于掩模臺10上的掩模M、以及保持于基板臺20上的基板W的表面上。由此，將掩模 M的掩模圖案曝光轉(zhuǎn)印到基板W上。如圖1 圖3所示，掩模臺10具有中央部形成有矩形形狀的開口 Ila的掩模臺基座11 ；和安裝于掩模臺基座11的開口 Ila處，且能夠沿X軸、Y軸、θ方向移動(dòng)的掩模保持框(掩模臺基座側(cè)構(gòu)件)12。掩模臺基座11由垂直設(shè)置于裝置基座50上的支柱51以及設(shè)置于支柱51上端部的Z軸移動(dòng)裝置52支承，使其能夠向Z軸方向移動(dòng)(參照圖幻，且配置在基板臺20的上方。 Z軸移動(dòng)裝置52具有例如由電動(dòng)機(jī)以及滾珠絲杠等構(gòu)成的電動(dòng)促動(dòng)器或者氣動(dòng)氣缸等，通過進(jìn)行簡單的上下動(dòng)作，而使掩模臺10升降到預(yù)定的位置。此外，Z軸移動(dòng)裝置52用于掩模M的更換或Z平臺21的清掃等時(shí)。如圖4所示，在掩模臺基座11的開口 Ila的周緣部上表面，多處配置有平面軸承 13，設(shè)置于掩模保持框12的上端外周緣部的凸緣1 載置在平面軸承13上。由此，掩模保持框12經(jīng)預(yù)定的間隙插入到掩模臺基座11的開口 Ila中，因此，掩模保持框12只能分別向X軸、Y軸、θ方向移動(dòng)相當(dāng)于該間隙的距離。在掩模保持框12的中央部形成有用于使圖案曝光用光通過的矩形形狀的開口 12b。參照圖5，在作為掩模保持側(cè)構(gòu)件一個(gè)例子的掩模保持框12的下表面?zhèn)染哂信渲糜陂_口 12b長邊側(cè)的一對固定掩模架71 ；配置于開口 12b短邊側(cè)的一對活動(dòng)掩模架72 ； 設(shè)置于掩模保持框12與各活動(dòng)掩模架72之間的多個(gè)線性導(dǎo)軌(引導(dǎo)機(jī)構(gòu))73 ；以及作為使活動(dòng)掩模架72沿著開口 12b的長邊移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的氣缸裝置74(參照圖7)。另外，在線性導(dǎo)軌73與活動(dòng)掩模架72之間，配置有傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)80。如圖5所示，在借助隔墊等固定于掩模保持框12下表面的一對固定掩模架71的下表面(基板W側(cè))設(shè)有形成于長度方向中央處的主吸附槽71a;以及位于該主吸附槽 71a的左右，從主吸附槽71a獨(dú)立形成的副吸附槽71b。另外，在以可移動(dòng)的方式配置于掩模保持框12下方的活動(dòng)掩模架72的下表面，沿著大致整個(gè)長度形成有吸附槽72a。固定掩模架71和活動(dòng)掩模架72的主吸附槽71a、副吸附槽71b和吸附槽72a，都是用于對未描繪有掩模M的掩模圖案的周緣部進(jìn)行吸附的槽，由未圖示的真空式吸附裝置分別吸附掩模M的四邊，將掩模M保持為可自由裝卸的狀態(tài)。主吸附槽71a、副吸附槽71b以及吸附槽72a分別經(jīng)由未圖示的切換閥與真空式吸附裝置相連接，通過適當(dāng)?shù)厍袚Q切換閥，能夠使任意的吸附槽處于工作狀態(tài)。在此，根據(jù)加工多個(gè)倒角時(shí)對描繪于有效曝光區(qū)域上的圖案進(jìn)行配置等情況，掩模M的尺寸多少有些 (例如10 20mm左右)不同，但固定掩模架71以及活動(dòng)掩模架72能夠相應(yīng)地吸附保持這樣的尺寸不同的掩模M。具體而言，主吸附槽71a、副吸附槽71b和吸附槽7 相互配合來吸附大尺寸的掩模M，主吸附槽71a和吸附槽7 相互配合來吸附保持小尺寸的掩模M。如圖4以及圖6所示，線性導(dǎo)軌73由安裝于掩模臺基座11側(cè)(掩模保持框12) 的導(dǎo)軌73a;以及安裝于活動(dòng)掩模架72側(cè)，且由導(dǎo)軌73a引導(dǎo)的、能夠向Y方向(開口 12b 的長邊方向)移動(dòng)的滑塊構(gòu)件73b(在附圖所示的實(shí)施方式中，包括分別與一條導(dǎo)軌73a相對應(yīng)的兩個(gè)滑塊構(gòu)件73bi、7!3b0)構(gòu)成。作為活動(dòng)掩模架72的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的一對氣缸裝置74與各活動(dòng)掩模架72相對應(yīng)地配置在其長度方向的大致中央位置，換而言之，其配置在掩模保持框12的短邊的大致中央處，且沿長度方向延伸設(shè)置。如圖7所示，在各氣缸裝置74中，氣缸主體7 固定在掩模保持框12的下表面，活塞74b轉(zhuǎn)動(dòng)自如地嵌合到突起部72b的支承軸75中，該突起部72b從活動(dòng)掩模架72向上方突出設(shè)置。由此，能夠在后述的進(jìn)行活動(dòng)掩模架72的傾斜角調(diào)整時(shí)， 吸收氣缸裝置74和活動(dòng)掩模架72的角度變化以順利地進(jìn)行操作。另外，在位于活塞74b的動(dòng)作方向前方的掩模保持框12的下表面，固定有具有吸震器76的止動(dòng)件77，在氣缸裝置74動(dòng)作而活塞74b伸長時(shí)，經(jīng)由吸震器76使突起部 72b (活動(dòng)掩模架7 與止動(dòng)件77抵接，這樣使活動(dòng)掩模架72定位在預(yù)定的位置上而不會(huì)受到?jīng)_擊。止動(dòng)件77的位置限制了安裝大尺寸的掩模M時(shí)的活動(dòng)掩模架72的位置，在氣缸裝置74的活塞74b被推入氣缸主體74a內(nèi)時(shí)的活動(dòng)掩模架72的位置，即為安裝小尺寸的掩模M時(shí)的活動(dòng)掩模架72的位置。如上所述，固定掩模架71、活動(dòng)掩模架72、線性導(dǎo)軌73以及氣缸裝置74安裝于掩模保持框12中，因此，這些構(gòu)件能夠與掩模保持框12 —同相對于掩模臺基座11向X軸、Y 軸、θ方向移動(dòng)。并且，如圖6所示，使氣缸裝置74動(dòng)作，在安裝大尺寸的掩模M時(shí)，使一對活動(dòng)掩模架72同時(shí)向相互分離的方向(外側(cè))移動(dòng)而增大了間隔(圖6(a))，在安裝小尺寸的掩模 M時(shí)，使一對活動(dòng)掩模架72同時(shí)向相互接近的方向(內(nèi)側(cè))移動(dòng)而縮小了間隔(圖6(b))， 由此能夠容易應(yīng)對尺寸不同的多個(gè)掩模Μ。根據(jù)能夠定位兩個(gè)位置的本實(shí)施方式的氣缸裝置74，能夠應(yīng)對大小不同的兩種尺寸的掩模Μ。此時(shí)，使一對氣缸裝置74同時(shí)動(dòng)作，并使一對活動(dòng)掩模架72總是位于左右對稱的位置，由此不使兩活動(dòng)掩模架72的中央位置、即掩模M的中心移動(dòng)，也能夠更換掩模Μ。圖8是變形例的驅(qū)動(dòng)裝置的側(cè)視圖，具有吸震器76的止動(dòng)件77利用例如電動(dòng)促動(dòng)器78能夠向活塞74b的移動(dòng)方向移動(dòng)。由此，利用氣缸裝置74，能夠使活動(dòng)掩模架72的停止位置定位在三處以上的多個(gè)位置，還可定位在任意位置，能夠應(yīng)對尺寸不同的三個(gè)以上的掩模M或者尺寸的微小變化。另外，也能夠由電動(dòng)機(jī)(未圖示)代替氣缸裝置74來構(gòu)成驅(qū)動(dòng)裝置，根據(jù)電動(dòng)機(jī)，容易將多個(gè)停止位置設(shè)定在任意的位置，能夠使活動(dòng)掩模架72停止在該停止位置。傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)80是能夠調(diào)整一對活動(dòng)掩模架72的角度即傾斜角的機(jī)構(gòu)，在本實(shí)施方式中，彼此高度不同的、可更換的一對隔墊80a、80b配置在各滑塊構(gòu)件7 與短邊側(cè)的掩模架72之間。由此，對于兩端被一對活動(dòng)掩模架72吸附保持的掩模M賦予相對于長度方向中心C呈左右對稱的傾斜角，能夠進(jìn)行修正以降低掩模M的撓曲，提高掩模M的平坦度。因此，能夠盡量使掩模M的有效曝光區(qū)域中的掩模M與基板W之間的間隙均勻化。另外，由于在尺寸大的掩模M中掩模M的撓曲也變大，因而對撓曲大的掩模M設(shè)定大角度的傾斜角。因此，在變更所更換的掩模M的尺寸時(shí)，也可以通過更換一對隔墊80a、 80b來調(diào)整傾斜角。另外，如圖3以及圖4所示，在掩模臺基座11的上表面設(shè)置有掩模位置調(diào)整機(jī)構(gòu) 16，該掩模位置調(diào)整機(jī)構(gòu)16使掩模保持框12沿X軸、Y軸、θ方向移動(dòng)，以調(diào)整保持在該掩模保持框12上的掩模M的位置。掩模位置調(diào)整機(jī)構(gòu)16具有安裝在沿著掩模保持框12的X軸方向的一條邊上的一臺Y軸方向驅(qū)動(dòng)裝置16y ；和安裝在沿著掩模保持框12的Y軸方向的一條邊上的兩臺X 軸方向驅(qū)動(dòng)裝置16x。Y軸方向驅(qū)動(dòng)裝置16y具有設(shè)置于掩模臺基座11上，且具有沿Y軸方向伸縮的操作桿56的驅(qū)動(dòng)用促動(dòng)器(例如電動(dòng)促動(dòng)器等)55 ；經(jīng)由銷支承機(jī)構(gòu)57與操作桿56的前端連結(jié)的滑塊58 ；以及導(dǎo)軌59，其安裝于沿著掩模保持框12的X軸方向的邊部，并可移動(dòng)地安裝有滑塊58。另一方面，X軸方向驅(qū)動(dòng)裝置16x也構(gòu)成為與Y軸方向驅(qū)動(dòng)裝量16y同樣的結(jié)構(gòu)， 其具有設(shè)置于掩模臺基座11上，且具有沿X軸方向伸縮的操作桿56的驅(qū)動(dòng)用促動(dòng)器55 ； 經(jīng)由銷支承機(jī)構(gòu)57與操作桿56的前端連結(jié)的滑塊58 ；以及導(dǎo)軌59，其安裝于沿著掩模保持框12的Y軸方向的邊部，并可移動(dòng)地安裝有滑塊58。并且，在掩模位置調(diào)整機(jī)構(gòu)16中，通過驅(qū)動(dòng)一臺Y軸方向驅(qū)動(dòng)裝置16y來使掩模保持框12向Y軸方向移動(dòng)，并通過同等地驅(qū)動(dòng)兩臺X軸方向驅(qū)動(dòng)裝置16x來使掩模保持框 12向X軸方向移動(dòng)。另外，通過驅(qū)動(dòng)兩臺X軸方向驅(qū)動(dòng)裝置16x中的任一個(gè)，以使掩模保持框12向θ方向移動(dòng)(繞Z軸旋轉(zhuǎn))。進(jìn)而，如圖3所示，在掩模臺基座11的上表面設(shè)置有用于測量掩模M和基板W的對置面之間的間隙的間隙傳感器17 ；用于確認(rèn)掩模M的安裝位置的校準(zhǔn)照相機(jī)18。所述間隙傳感器17和校準(zhǔn)照相機(jī)18被保持為經(jīng)由移動(dòng)機(jī)構(gòu)19能夠向X軸、Y軸方向移動(dòng)，且配置在掩模保持框12內(nèi)。移動(dòng)機(jī)構(gòu)19具有保持架臺25，其分別配置在掩模保持框12的Y軸方向上相互對置的兩條邊上，用于保持間隙傳感器17和校準(zhǔn)照相機(jī)18 ；線性導(dǎo)軌沈、27，其將保持架臺 25支承為能夠沿X軸、Y軸方向移動(dòng)；以及驅(qū)動(dòng)用促動(dòng)器觀、29，其使保持架臺25向X軸、 Y軸方向移動(dòng)。并且，在移動(dòng)機(jī)構(gòu)19中，利用線性導(dǎo)軌沈和驅(qū)動(dòng)用促動(dòng)器觀使保持架臺25向X 軸方向移動(dòng)，利用線性導(dǎo)軌27和驅(qū)動(dòng)用促動(dòng)器四使保持架臺25向Y軸方向移動(dòng)。此外， 移動(dòng)機(jī)構(gòu)19使用線性導(dǎo)軌和驅(qū)動(dòng)用促動(dòng)器使保持架臺向X軸、Y軸方向移動(dòng)，但也可以使用線性電動(dòng)機(jī)等。
校準(zhǔn)照相機(jī)18是從掩模背面?zhèn)葘ρ谀的表面的掩模側(cè)校準(zhǔn)標(biāo)記(未圖示)進(jìn)行光學(xué)檢測的裝置，由焦點(diǎn)調(diào)整機(jī)構(gòu)相對于掩模M進(jìn)行接近或分離移動(dòng)，由此進(jìn)行焦點(diǎn)調(diào)整。此外，如圖3所示，在掩模臺基座11的上表面，且在掩模臺基座11的開口 Ila的X 軸方向兩端部，設(shè)置有根據(jù)需要來遮蔽掩模M兩端部的遮蓋光圈38。該遮蓋光圈38利用電機(jī)、滾珠絲杠以及線性導(dǎo)軌等構(gòu)成的遮蓋光圈驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)39能夠向X軸方向移動(dòng)，以調(diào)整掩模M的兩端部的遮蔽面積。此外，遮蓋光圈38不僅可設(shè)置在開口 Ila的X軸方向兩端部， 也可同樣地設(shè)置在開口 Ila的Y軸方向兩端部。如圖1以及圖2所示，基板臺20設(shè)置在基板臺移動(dòng)機(jī)構(gòu)40上，且具有上表面上配置有工件卡盤22的Z平臺21。此外，工件卡盤22利用真空吸附來保持基板W?；迮_移動(dòng)機(jī)構(gòu)40具有使基板臺20向Y軸方向移動(dòng)的Y軸進(jìn)給機(jī)構(gòu)41 ；使基板臺20向X軸方向移動(dòng)的X軸進(jìn)給機(jī)構(gòu)42 ；用于進(jìn)行基板臺20的傾斜調(diào)整，且使基板臺 20在Z軸方向上微動(dòng)的Z傾斜調(diào)整機(jī)構(gòu)43。Y軸進(jìn)給機(jī)構(gòu)41具有在裝置基座50的上表面上沿著Y軸方向設(shè)置的一對線性導(dǎo)軌44 ；由線性導(dǎo)軌44支承為能夠向Y軸方向移動(dòng)的Y軸工作臺45 ；以及使Y軸工作臺45 向Y軸方向移動(dòng)的Y軸進(jìn)給驅(qū)動(dòng)裝置46。線性導(dǎo)軌44具有在裝置基座50上沿著Y軸方向設(shè)置的導(dǎo)軌44a;固定在Y軸工作臺45的下表面上，可移動(dòng)地安裝于導(dǎo)軌4 上的一對滑塊44b ；以及介于設(shè)置在導(dǎo)軌4 與滑塊44b之間的未圖示的滾動(dòng)體。Y軸進(jìn)給驅(qū)動(dòng)裝置46 具有固定在Y軸工作臺45的下表面上的滾珠絲杠螺母46a ；螺合于滾珠絲杠螺母46a中的滾珠絲杠軸46b ；以及設(shè)置于裝置基座50上，以旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)滾珠絲杠軸46b的電動(dòng)機(jī)46c。并且，在Y軸進(jìn)給機(jī)構(gòu)41中，驅(qū)動(dòng)Y軸進(jìn)給驅(qū)動(dòng)裝置46的電動(dòng)機(jī)46c，以使?jié)L珠絲杠軸46b旋轉(zhuǎn)，由此使Y軸工作臺45與滾珠絲杠螺母46a —起沿著線性導(dǎo)軌44的導(dǎo)軌 44a移動(dòng)，并使基板臺20向Y軸方向移動(dòng)。X軸進(jìn)給機(jī)構(gòu)42具有在Y軸工作臺45的上表面沿著X軸方向設(shè)置的一對線性導(dǎo)軌47 ；由線性導(dǎo)軌47支承為能夠向X軸方向移動(dòng)的X軸工作臺48 ；以及使X軸工作臺48 向X軸方向移動(dòng)的X軸進(jìn)給驅(qū)動(dòng)裝置49。線性導(dǎo)軌47具有在Y軸工作臺45上沿著X軸方向設(shè)置的導(dǎo)軌47a;固定在X軸工作臺48的下表面，且可移動(dòng)地安裝于導(dǎo)軌47a上的一對滑塊47b ；以及介于設(shè)置在導(dǎo)軌47a與滑塊47b之間的未圖示的滾動(dòng)體。X軸進(jìn)給驅(qū)動(dòng)裝置 49具有固定在X軸工作臺48的下表面的未圖示的滾珠絲杠螺母；螺合于該滾珠絲杠螺母中的滾珠絲杠軸49b ；設(shè)置于Y軸工作臺45上，以旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)滾珠絲杠軸49b的電動(dòng)機(jī)49c。并且，在X軸進(jìn)給機(jī)構(gòu)42中，驅(qū)動(dòng)X軸進(jìn)給驅(qū)動(dòng)裝置49的電動(dòng)機(jī)49c，以使?jié)L珠絲杠軸49b旋轉(zhuǎn)，由此使X軸工作臺48與未圖示的滾珠絲杠螺母一同沿著線性導(dǎo)軌47的導(dǎo)軌47a移動(dòng)，并使基板臺20向X軸方向移動(dòng)。Z-傾斜調(diào)整機(jī)構(gòu)43具有設(shè)置于X軸工作臺48上的電動(dòng)機(jī)43a ；由電動(dòng)機(jī)43a旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的滾珠絲杠軸43b ；形成為楔狀且螺合在滾珠絲杠軸4 上的楔狀螺母43c ；以及呈楔狀突出設(shè)置在基板臺20的下表面，且卡合在楔狀螺母43c的傾斜面中的楔部43d。并且， 在本實(shí)施方式中，Z-傾斜調(diào)整機(jī)構(gòu)43共計(jì)配置有三臺，其中，兩臺設(shè)置在X軸工作臺48的 X軸方向一端側(cè)(圖1的跟前側(cè))，一臺設(shè)置在其另一端側(cè)(即圖1的紙面?zhèn)龋瑓⒄請D2)，且各自獨(dú)立受到驅(qū)動(dòng)控制。此外，Z-傾斜調(diào)整機(jī)構(gòu)43的配置數(shù)目為任意數(shù)。并且，在Z-傾斜調(diào)整機(jī)構(gòu)43中，通過電動(dòng)機(jī)43a旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)滾珠絲杠軸43b，從而楔
15狀螺母43c向X軸方向水平移動(dòng)，該水平移動(dòng)運(yùn)動(dòng)利用楔狀螺母43c和楔部43d的斜面作用而被變換為高精度的上下微動(dòng)運(yùn)動(dòng)，楔部43d沿Z方向微動(dòng)。因此，通過以相同的量驅(qū)動(dòng)三臺Z-傾斜調(diào)整機(jī)構(gòu)43，能夠使基板臺20向Z軸方向微動(dòng)；而且，通過獨(dú)立驅(qū)動(dòng)三臺Z-傾斜調(diào)整機(jī)構(gòu)43，能夠進(jìn)行基板臺20的傾斜調(diào)整。由此，使基板臺20的Z軸、傾斜方向的位置微調(diào)整，能夠使掩模M與基板W以預(yù)定的間隔平行對置。此外，用于構(gòu)成Y軸進(jìn)給機(jī)構(gòu)41、X軸進(jìn)給機(jī)構(gòu)42以及Z-傾斜調(diào)整機(jī)構(gòu)43的、滾珠絲杠軸機(jī)構(gòu)與電動(dòng)機(jī)的組合結(jié)構(gòu)也可以由線性電動(dòng)機(jī)來置換。另外，如圖1以及圖2所示，在本實(shí)施方式的曝光裝置1中，設(shè)置有作為檢測基板臺20的位置的位置測量裝置的激光測距裝置60。該激光測距裝置60用于測量在驅(qū)動(dòng)基板臺移動(dòng)機(jī)構(gòu)40時(shí)發(fā)生的基板臺20的移動(dòng)距離。激光測距裝置60具有配設(shè)于基板臺20上的X軸用鏡64和Y軸用鏡65 ；X軸測距器(測距器)61和偏向測量儀(測距器)62，其配設(shè)于裝置基座50上，將激光(檢測光) 照射到X軸用鏡64上，并接收由X軸用鏡64反射的激光，以測量基板臺20的位置；一臺Y 軸測距器(測距器)63，其將激光照射到Y(jié)軸用鏡65上，并接收由Y軸用鏡65反射出的激光，以測量基板臺20的位置。并且，將基板臺20的XY方向的位置檢測信號輸入至控制裝置。在如上所述那樣構(gòu)成的曝光裝置1中，由傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)80對掩模M施加相對長度方向中心C呈左右對稱的傾斜角，這樣能夠進(jìn)行修正以降低掩模M的撓曲，并提高掩模M 的平坦度。因此，能夠盡量使掩模M的有效曝光區(qū)域中的掩模M與基板W之間的間隙均勻化。另外，在相對于圖6(a)所示的大尺寸的掩模M而言，使用了圖6(b)所示的更小尺寸的掩模M的情況下，使氣缸裝置74動(dòng)作，使一對活動(dòng)掩模架72向相互分離或接近的方向移動(dòng)，能夠相應(yīng)地吸附保持尺寸不同的多個(gè)掩模M。進(jìn)而，對應(yīng)于尺寸不同的掩模M，利用傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)80來調(diào)整傾斜角，能夠修正所安裝的掩模M的撓曲量變動(dòng)。由此，無論掩模M 尺寸如何，都能夠?qū)⒀谀與基板W之間的間隙維持為一定，維持高曝光精度。接著，參照圖9至圖11，對傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)的變形例，進(jìn)行詳細(xì)說明。圖9是作為傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)的一個(gè)例子的楔機(jī)構(gòu)的局部截?cái)鄠?cè)視圖，圖10是楔機(jī)構(gòu)的固定側(cè)錐形構(gòu)件的局部截?cái)鄠?cè)視圖，圖11是楔機(jī)構(gòu)的活動(dòng)側(cè)錐形構(gòu)件的側(cè)視圖以及剖視圖。傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)80由水平程度調(diào)整用隔墊81和楔機(jī)構(gòu)83構(gòu)成。隔墊81配置在位于內(nèi)側(cè)(掩模保持框12的中心側(cè))的滑塊構(gòu)件73bi的下表面與活動(dòng)掩模架72之間，利用掩模架固定用螺栓82將活動(dòng)掩模架72安裝到滑塊構(gòu)件73bi的下表面。在位于比隔墊 81更靠外側(cè)的滑塊構(gòu)件73bo與活動(dòng)掩模架72之間，在活動(dòng)掩模架72的上表面，設(shè)置有用于施加向下外力的楔機(jī)構(gòu)83。該楔機(jī)構(gòu)83具備具有從活動(dòng)掩模架72的外側(cè)(圖9中的左側(cè))向內(nèi)側(cè)傾斜的傾斜面8 的固定側(cè)錐形構(gòu)件84 ；具有與固定側(cè)錐形構(gòu)件84的傾斜面8 滑動(dòng)自如地接觸的傾斜面85a的活動(dòng)側(cè)錐形構(gòu)件85 ；以及使活動(dòng)側(cè)錐形構(gòu)件85向與隔墊81接合或分離的方向移動(dòng)的作為活動(dòng)側(cè)錐形構(gòu)件進(jìn)給機(jī)構(gòu)的進(jìn)給螺釘86。進(jìn)給螺釘86被保持在向固定側(cè)錐形構(gòu)件84的外側(cè)突出設(shè)置的支架87上。在活動(dòng)側(cè)錐形構(gòu)件85上形成有傾斜面8 和長孔85b，該傾斜面8 具有與固定側(cè)錐形構(gòu)件84的傾斜面8 相同的傾斜角，并與傾斜面 8 滑動(dòng)接觸。
插通于活動(dòng)掩模架72的螺栓孔72c中的固定側(cè)錐形構(gòu)件固定用的螺栓88貫穿固定側(cè)錐形構(gòu)件84的貫通孔84b以及活動(dòng)側(cè)錐形構(gòu)件85的長孔85b，并固定到滑塊構(gòu)件73bo 的下表面。在這樣的結(jié)構(gòu)中，操作楔機(jī)構(gòu)83的進(jìn)給螺釘86，使活動(dòng)側(cè)錐形構(gòu)件85向圖9中的左右方向移動(dòng)，改變傾斜面8如、8如的滑動(dòng)接觸位置，由此變更楔機(jī)構(gòu)83的高度。由此，調(diào)整施加于比活動(dòng)掩模架72的隔墊81更靠外側(cè)(圖9中的左側(cè))處的向下外力，并以隔墊 81的位置為中心來改變活動(dòng)掩模架72的傾斜度。由此，對兩端被一對活動(dòng)掩模架72吸附保持的掩模M施加傾斜角，能夠?qū)ρ谀 進(jìn)行修正以降低其撓曲度，并能夠提高掩模M的平坦度。此外，也可以代替進(jìn)給螺釘86，由未圖示的電動(dòng)促動(dòng)器來驅(qū)動(dòng)活動(dòng)側(cè)錐形構(gòu)件85，由此來調(diào)整傾斜角。另外，傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)80只要是能夠調(diào)整一對活動(dòng)掩模架72的角度的機(jī)構(gòu)，則不作特別限定，除了上述說明的隔墊80a、80b或楔機(jī)構(gòu)83以外，也可以由通過通電控制能夠改變高度的壓電元件(未圖示)構(gòu)成。(第二實(shí)施方式)圖12是表示傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)與第一實(shí)施方式不同的第二實(shí)施方式的曝光裝置的圖。在本實(shí)施方式的曝光裝置1中，傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)80配置地掩模保持框12與導(dǎo)軌73a 之間。根據(jù)這樣的曝光裝置1，與第一實(shí)施方式同樣，無需更換掩模架，也能夠相應(yīng)地吸附保持不同尺寸的多個(gè)掩模。另外，無論掩模M的尺寸如何，都能夠利用傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)80 來調(diào)整傾斜角，并修正所安裝的掩模M的平坦度，且能夠?qū)⒀谀與基板W之間的間隙維持為一定，以提高曝光精度。此外，在本實(shí)施方式的情況下，隨著掩模M尺寸的變更短邊側(cè)的活動(dòng)掩模架72的吸附位置的高度也發(fā)生變化，因而需要在掩模臺側(cè)或基板臺側(cè)進(jìn)行間隙調(diào)整。(變形例)圖13是表示第二實(shí)施方式的變形例中的曝光裝置1的圖，在掩模保持框12與導(dǎo)軌73a之間配置有第一傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)80A，且在滑塊構(gòu)件7 與活動(dòng)掩模架72之間配置有第二傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)80B。根據(jù)這樣的曝光裝置1，即使掩模保持框12的水平度多少有些傾斜，也能夠由第一傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)80A將導(dǎo)軌73a的傾斜修正為水平。并且，由第二傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)80B來調(diào)整活動(dòng)掩模架72的傾斜角，并修正隨著掩模M的安裝而發(fā)生的掩模 M撓曲量的變化，將掩模M與工件W之間的間隙維持為一定，能夠以高曝光精度來進(jìn)行轉(zhuǎn)印曙光ο(第三實(shí)施方式)圖14表示在第三實(shí)施方式的曝光裝置中，在由傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)使活動(dòng)掩模架傾斜時(shí)，用于調(diào)整固定掩模架與活動(dòng)掩模架之間產(chǎn)生的段差的機(jī)構(gòu)。例如，如圖15所示，在調(diào)整活動(dòng)掩模架72的傾斜角時(shí)，有時(shí)在固定掩模架71與活動(dòng)掩模架72之間產(chǎn)生高度差(段差)，若該段差大，則支架71、72的剛性高，因此在活動(dòng)掩模架72與掩模M之間產(chǎn)生間隙C，有可能對曝光精度造成不良影響。因此，如圖14所示，在固定掩模架71和活動(dòng)掩模架72中，將彼此接近的側(cè)緣部 71d、72d的上表面?zhèn)惹胁?，而形成為比其余部分更薄的薄壁?1e、72e。在剛性減弱的薄壁部72e吸附保持掩模M時(shí)，從圖14(b)中以虛線表示的位置到以實(shí)線表示的位置向掩模架 72的板厚方向產(chǎn)生彈性變形，掩模架71、72與掩模M之間不產(chǎn)生間隙C地對掩模M進(jìn)行吸附保持。當(dāng)將掩模架71、72的板厚設(shè)為h時(shí)，薄壁部71e、7&的厚度t優(yōu)選為 l/2h ( t ( 2/池。這是因?yàn)?，若薄壁?1e、7&的厚度t為1/ 以下，則剛性過低，掩模架71、72有可能破損，而且，若厚度t為2/ 以上，則剛性過高，有可能在掩模架71、72與掩模M之間產(chǎn)生間隙C。此外，如圖14 (c)、圖14 (d)所示，薄壁部71e、7&的前端可形成為截面三角形狀或曲面形狀，能夠防止掩模架71、72與掩模M之間產(chǎn)生間隙C。另外，如圖14(e)、圖4(f)所示，薄壁部71e、7&未設(shè)置段差，但可以通過使側(cè)緣部71d、72d設(shè)置為截面三角形狀或曲面形狀來形成，通過降低側(cè)緣部71d、72d的剛性，能夠防止在掩模架71、72與掩模M之間產(chǎn)生間隙C。另外，作為用于調(diào)整固定掩模架71與活動(dòng)掩模架72之間的段差的其他的機(jī)構(gòu)，在圖16(a)所示的掩模架71、72中，在相互接近的角部設(shè)置有倒角部71f、72f。由此，掩模架 71、72的角部間的間距變長，掩模M容易變形，因此，在掩模M與掩模架71、72之間不產(chǎn)生間隙，而能夠吸附保持。此外，優(yōu)選在掩模架71、72的側(cè)面與倒角部71f、72f相接合的棱線部施加呈曲面狀的倒角，以防止集中應(yīng)力的發(fā)生。另外，如圖16(b)所示，如果將倒角部71f、 72f的形狀設(shè)成曲面形狀，能夠進(jìn)一步降低集中應(yīng)力的發(fā)生，則更為優(yōu)選。圖17(a)表示用于調(diào)整固定掩模架71和活動(dòng)掩模架72間的段差的另一其他機(jī)構(gòu)，固定掩模架71具有從所接近的側(cè)緣部71d的下表面延伸出的臺階部71g，活動(dòng)掩模架 72具有從側(cè)緣部72d的上表面延伸出的臺階部72g。關(guān)于掩模架71、72，通過將臺階部71g、 72g彼此疊合起來，從而能夠增加按壓掩模M的作用力，無間隙且可靠地吸附保持掩模M。進(jìn)而，如圖17(b)所示，在固定掩模架71與活動(dòng)掩模支架72疊合的臺階部72g設(shè)置有調(diào)整螺栓79，也可以調(diào)整固定掩模架71和活動(dòng)掩模架72的高度，以使固定掩模架71 與活動(dòng)掩模架72的下表面(掩模保持面)不產(chǎn)生段差。在該情況下，在調(diào)整螺栓79的螺絲的前端部分，設(shè)置有特氟隆(Teflon，注冊商標(biāo))等滑潤材料79a，以防止固定掩模架71 的臺階部71g的上表面71gl受到調(diào)整螺栓79的磨損。此外，用于設(shè)置薄壁部71f、72f或臺階部71g、72g的位置并不局限于側(cè)緣部71d， 72d，也可以形成在掩模架71、72的整個(gè)周圍。(第四實(shí)施方式)圖18是表示第四實(shí)施方式的曝光裝置結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。如圖18所示，本實(shí)施方式的曝光裝置1采用負(fù)壓修正機(jī)構(gòu)90作為掩模M的傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)。掩模臺10和基板臺20 的周圍被熱處理室91所遮蔽。在熱處理室91的側(cè)壁，設(shè)置有用于搬送基板W的開口 91a。 另外，掩模臺10的上方被光學(xué)系統(tǒng)室92遮蔽，并且與光學(xué)系統(tǒng)室92相鄰地配置有光源室 93。在光學(xué)系統(tǒng)室92與光源室93之間配置有透明板94，從光源室93內(nèi)的高壓水銀燈31 照射出而穿過透明板94的曝光用光經(jīng)過光路L，被引導(dǎo)至掩模M。熱處理室91經(jīng)由供氣路95與正壓泵96連接，光學(xué)系統(tǒng)室92經(jīng)由排氣路97與負(fù)壓泵98連接。CPUlOl分別利用傳感器102來測量熱處理室91和光學(xué)系統(tǒng)室92的壓力，并適當(dāng)?shù)貙φ龎罕?6和負(fù)壓泵98進(jìn)行驅(qū)動(dòng)控制。
根據(jù)本實(shí)施方式的曝光裝置1，對應(yīng)于來自間隙傳感器17(參照圖3)的信號和來自傳感器102的信號，預(yù)先求出可修正掩模M的撓曲的壓力差，并將其存儲(chǔ)于CPUlOl中，據(jù)此使負(fù)壓泵98和正壓泵96動(dòng)作，以對熱處理室91內(nèi)部加壓，且使光學(xué)系統(tǒng)室92內(nèi)部減壓， 通過在熱處理室91與光學(xué)系統(tǒng)室92之間施加壓力差，由此能夠修正掩模M的撓曲。根據(jù)本實(shí)施方式的曝光裝置1，利用壓力差來修正掩模M的撓曲，因此，適于整體地修正大掩模M的撓曲。另外，在熱處理室91和光學(xué)系統(tǒng)室92中配設(shè)有未圖示的溫度調(diào)節(jié)裝置，并進(jìn)行溫度管理以將熱處理室91與光學(xué)系統(tǒng)室92之間的室內(nèi)溫度差控制為最小，則較為優(yōu)選。這是因?yàn)?，在掩模M的上表面?zhèn)?，在較大空間(光學(xué)系統(tǒng)室92)內(nèi)有氣體流動(dòng)， 因此，易于冷卻掩模M的上表面，但在作為掩模M的下表面?zhèn)鹊臒崽幚硎?1中氣體流動(dòng)較少，因而難以被冷卻，因此，可防止因掩模M的上下表面的溫度差而產(chǎn)生的掩模M的熱變形 (膨脹或收縮)對掩模M的平坦度造成的影響。進(jìn)而，作為熱源的高壓水銀燈31被透明板 94分隔開，因此，具有從高壓水銀燈31產(chǎn)生的熱量難以傳導(dǎo)到掩模M或基板W的優(yōu)點(diǎn)，能夠高精度地進(jìn)行曝光轉(zhuǎn)印。此外，在上述實(shí)施方式中，例如，也能夠同時(shí)設(shè)置傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)。另外，在上述實(shí)施方式中，將掩模保持框12作為了掩模臺基座側(cè)構(gòu)件，但是，也可以根據(jù)掩模臺的結(jié)構(gòu)，將掩模臺基座11作為掩模臺基座側(cè)構(gòu)件，并將固定掩模架71、活動(dòng)掩模架72、線性導(dǎo)軌73、氣缸裝置74以及傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)80配置在掩模臺基座11的下表面?zhèn)取?第五實(shí)施方式)以下，根據(jù)附圖，對本發(fā)明的曝光裝置的第五實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說明。此外，本實(shí)施方式在掩模臺的結(jié)構(gòu)方面與第一實(shí)施方式不同，對與第一實(shí)施方式同樣或同等的部分標(biāo)注同一附圖標(biāo)記，并省略或簡略了其說明。在本實(shí)施方式的掩模臺10中，如圖19、圖20以及圖22所示，在掩模保持框12的下表面?zhèn)染哂信渲糜陂_口 12b的長邊側(cè)的作為第一掩模架的一對固定掩模架171 ；配置于開口 12b的短邊側(cè)的作為第二掩模架的一對活動(dòng)掩模架172 ；設(shè)置于掩模保持框12與各活動(dòng)掩模架172之間的多個(gè)線性導(dǎo)軌(弓丨導(dǎo)機(jī)構(gòu))73 ；以及使活動(dòng)掩模架172沿著開口 12b的長邊移動(dòng)的作為驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的氣缸裝置74。如圖20所示，在借助隔墊等被固定于掩模保持框12下表面的一對固定掩模架171 的下表面(基板W側(cè))，沿預(yù)定方向(X方向)分割設(shè)置有形成于長度方向中央的主吸附槽171a ；以及在該主吸附槽171a左右從主吸附槽171a獨(dú)立形成的副吸附槽171b。另外， 活動(dòng)掩模架172以可移動(dòng)的方式配設(shè)在掩模保持框12的下方，在該活動(dòng)掩模架172的下表面，在長邊方向上排列為兩列的主吸附槽17 和副吸附槽172b，沿著短邊方向的大致整個(gè)長度形成。固定掩模架171和活動(dòng)掩模架172的各吸附槽171a、171b、17h、172b，分別是用于對掩模M的未描繪掩模圖案的周緣部進(jìn)行吸附的槽，且與真空式吸附裝置110相連接(參照圖21)，分別對掩模M的4邊進(jìn)行吸附且裝卸自如地保持。即，固定掩模架171吸附保持沿著預(yù)定方向(X方向)延伸的掩模M的相互對置的兩邊(長邊)，活動(dòng)掩模架172吸附保持沿著與預(yù)定方向正交的方向(Y方向)延伸的掩模M的相互對置的兩邊(短邊)。如圖21所示，固定掩模架171和活動(dòng)掩模架172各自的主吸附槽171a、172a經(jīng)由配管111與真空式吸附裝置110相連接。另外，固定掩模架171的各副吸附槽171b經(jīng)由配管112以及可進(jìn)行接通/斷開切換的電磁閥113與真空式吸附裝置110相連接，活動(dòng)掩模架172的各副吸附槽172b，經(jīng)由配管114以及可進(jìn)行接通/斷開切換的電磁閥115與真空式吸附裝置110相連接。電磁閥113、115使用了直動(dòng)式或?qū)蚴?pilot)的電磁閥。由此，在吸附保持掩模M時(shí)，始終通過配管111將真空式吸附裝置110連接到固定掩模架171以及活動(dòng)掩模架172的主吸附槽171a、17 上，并對其提供真空，并且通過電磁閥113、115的切換，選擇性地將真空提供給固定掩模架171以及活動(dòng)掩模架172的各副吸附槽171b、172b，能夠使任意的吸附槽處于工作狀態(tài)。在此，掩模M的尺寸以及圖案的尺寸隨著在施加多倒角時(shí)描繪于有效曝光區(qū)域中的圖案的配置等而有若干(例如10 20mm左右)不同，但固定掩模架171和活動(dòng)掩模架172能夠相應(yīng)地吸附保持這樣的尺寸不同的掩模M。在圖20所示的實(shí)施例中，將電磁閥113切換到接通狀態(tài)，并將電磁閥115切換到斷開狀態(tài)，固定掩模架171的主吸附槽171a和副吸附槽171b、活動(dòng)掩模架172的主吸附槽 17 處于工作狀態(tài)。由此，大尺寸的掩模M被主吸附槽171a、17 和副吸附槽171b吸附保持。如圖19所示，線性導(dǎo)軌73由安裝于掩模保持框12下表面的導(dǎo)軌73a，以及安裝于活動(dòng)掩模架172上，被導(dǎo)軌73a引導(dǎo)而能夠沿X方向(開口 12b的長邊方向)移動(dòng)的滑塊構(gòu)件7 構(gòu)成。另外，如圖22所示，作為活動(dòng)掩模架172的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的一對氣缸裝置74與各活動(dòng)掩模架172相對應(yīng)地配置在其長度方向的大致中央位置，換言之，配置在掩模保持框12的短邊的大致中央處，并向長度方向延伸設(shè)置。各氣缸裝置74的氣缸主體7 固定在掩模保持框12的下表面，其活塞74b轉(zhuǎn)動(dòng)自如地嵌合到自活動(dòng)掩模架172向上方突出設(shè)置的突起部172c的支承軸75中。另外，在位于活塞74b的動(dòng)作方向前方的掩模保持框12的下表面，固定有具有吸震器76的止動(dòng)件77，在氣缸裝置74動(dòng)作且活塞74b伸長時(shí)，使突起部172c (活動(dòng)掩模架 172)經(jīng)由吸震器76與止動(dòng)件77抵接，這樣使活動(dòng)掩模架172定位到預(yù)定的位置而不會(huì)受到?jīng)_擊。止動(dòng)件77的位置限制了安裝大尺寸的掩模M時(shí)的活動(dòng)掩模架172的位置，在氣缸裝置74的活塞74b被推入氣缸主體74a內(nèi)時(shí)的活動(dòng)掩模架172的位置即為安裝小尺寸的掩模M時(shí)的活動(dòng)掩模架172的位置。如上所述，固定掩模架171、活動(dòng)掩模架172、線性導(dǎo)軌73以及氣缸裝置74安裝在掩模保持框12中，因此，它們能夠與掩模保持框12 —起相對于掩模臺基座11向X軸、Y軸和θ方向移動(dòng)。并且，在使氣缸裝置74動(dòng)作，安裝大尺寸的掩模M時(shí)，使一對活動(dòng)掩模架172同時(shí)向相互分離的方向(外側(cè))移動(dòng)而增大間隔，在安裝小尺寸的掩模M時(shí)，使一對活動(dòng)掩模架 172同時(shí)向相互接近的方向(內(nèi)側(cè))移動(dòng)而縮小間隔，由此能夠容易應(yīng)對尺寸不同的多個(gè)掩模Μ。根據(jù)能夠定位于兩處的本實(shí)施方式的氣缸裝置74，能夠應(yīng)對大小不同兩種尺寸的掩模Μ。此時(shí)，通過同時(shí)使一對氣缸裝置74動(dòng)作，使一對活動(dòng)掩模架172始終位于左右對稱位置，從而不必移動(dòng)兩活動(dòng)掩模架172的中央位置、即掩模M的中心，也能夠更換掩模M。圖23是變形例的驅(qū)動(dòng)裝置的側(cè)視圖，具有吸震器76的止動(dòng)件77利用例如電動(dòng)促動(dòng)器78能夠向活塞74b的移動(dòng)方向移動(dòng)。由此，利用氣缸裝置74，可將活動(dòng)掩模架172的停止位置定位在3處以上的多個(gè)位置，進(jìn)而定位在任意位置，能夠?qū)?yīng)尺寸不同的三個(gè)以上的掩模M或者尺寸的微小變化。另外，也能夠由電動(dòng)機(jī)(未圖示)代替氣缸裝置74來構(gòu)成驅(qū)動(dòng)裝置，根據(jù)電動(dòng)機(jī)， 容易將多個(gè)停止位置設(shè)定在任意的位置，并能夠使活動(dòng)掩模架172停止在該停止位置。作為掩模M的基材的玻璃基板使用了短邊側(cè)的兩邊長度大致一樣，且長邊側(cè)的兩邊長度不同的多個(gè)玻璃基板，將掩模圖案描畫在該玻璃基板上。因此，根據(jù)形成于預(yù)定尺寸的玻璃基板上的掩模圖案或圖案配置的不同，殘留于四條邊周緣部的非圖案區(qū)域、即掩模架171、172的可吸附區(qū)域的大小不同。圖20是表示保持掩模尺寸大且短邊側(cè)的可吸附區(qū)域小(掩模圖案大)的掩模M的情況的例子，通過使活塞74b伸長到與止動(dòng)件77抵接，并加大一對活動(dòng)掩模架172的間距， 以使副吸附槽172b位于掩模M的外側(cè)，并增大圖案區(qū)域。并且，使電磁閥113處于接通狀態(tài)，且使電磁閥115處于斷開狀態(tài)，并中止副吸附槽172b的吸附動(dòng)作(參照圖21)。由此， 掩模M被固定掩模架171的吸附槽171a、171b、和活動(dòng)掩模架172的副吸附槽172b所吸附保持。圖對表示保持掩模尺寸大且短邊側(cè)可吸附區(qū)域大的掩模M的情況的例子，推進(jìn)活塞74b而縮小一對活動(dòng)掩模架172的間隔，使活動(dòng)掩模架172的主吸附槽172a、副吸附槽 172b位于掩模M的內(nèi)側(cè)。并且，使電磁閥113、115均處于接通狀態(tài)，利用固定掩模架171 的吸附槽171a、171b、活動(dòng)掩模架172的吸附槽172a、172b來吸附且可靠地保持掩模M。在該情況下，掩模M的短邊側(cè)有效利用較大的可吸附區(qū)域并被兩條吸附槽172a、172b吸附，因此，可提高保持力。圖25表示掩模尺寸較小且短邊側(cè)可吸附區(qū)域較大的情況的例子，將固定掩模架 171的副吸附槽171b從掩模M卸下，因此，將電磁閥83切換到斷開狀態(tài)而中止副吸附槽 171b的吸附動(dòng)作，并且使電磁閥85處于接通狀態(tài)，利用固定掩模架171的主吸附槽171a、 活動(dòng)掩模架172的主吸附槽17 以及副吸附槽172b來吸附保持掩模Μ。在該情況下，掩模 M的短邊側(cè)由兩條吸附槽172a、172b來吸附保持。圖沈表示掩模尺寸較小且短邊側(cè)的可吸附區(qū)域較小的情況的例子，固定掩模架 171的副吸附槽171b和活動(dòng)掩模架172的副吸附槽172b被從掩模M卸下，因此，將電磁閥 113、115均切換到斷開狀態(tài)，以中止副吸附槽171b、172b的吸附動(dòng)作。由此，利用固定掩模架171的主吸附槽171a和活動(dòng)掩模架172的主吸附槽17 來吸附保持掩模M，以對應(yīng)于較小的掩模M。在如上述那樣構(gòu)成的曝光裝置1中，即使不更換掩模架，也能夠應(yīng)對不同尺寸的多個(gè)掩模，進(jìn)而，能夠?qū)?yīng)于可吸附區(qū)域不同的多個(gè)掩模，有效利用可吸附區(qū)域并可靠地進(jìn)行吸附保持。此外，與第一、第二掩模架171、172的各吸附槽171a、171b、17 和172b相連接的氣動(dòng)電路，并不局限于上述實(shí)施方式，也可以根據(jù)圖27所示的變形例來構(gòu)成。具體而言，各固定掩模架171的主吸附槽171a與可進(jìn)行接通/斷開切換的各電磁閥116相連接，各活動(dòng)掩模架172的主吸附槽17 與可進(jìn)行接通/斷開切換的各電磁閥117相連接。并且，這些電磁閥116、117經(jīng)配管111與真空式吸附裝置110相連接。另外，各固定掩模架171的副吸附槽171b與可進(jìn)行接通/斷開切換的各電磁閥113相連接，各電磁閥113經(jīng)配管112與真空式吸附裝置110相連接。進(jìn)而，各活動(dòng)掩模架172的副吸附槽172b與可進(jìn)行接通/斷開切換的各電磁閥115相連接，各電磁閥115，經(jīng)由配管114與真空式吸附裝置110相連接。S卩，如該變形例那樣，氣動(dòng)電路最大的情況也可以設(shè)置與吸附槽數(shù)目相對應(yīng)的數(shù)量的電磁閥。通過這樣在各個(gè)吸附槽171a、171b、17加、172b中逐個(gè)地設(shè)置電磁閥113、115、 116、117，容易控制各吸附槽171a、171b、172a、172b的流量，能夠進(jìn)行最適當(dāng)?shù)奈?。特別是通過逐個(gè)控制各電磁閥113、115、116、117的負(fù)壓，使各吸附槽171a、171b、172a、172b的負(fù)壓相等，能夠穩(wěn)定地吸附掩模M。此外，在具有第五實(shí)施方式的掩模臺的曝光裝置中，如圖18所示，也能夠采用可修正掩模M的撓曲的負(fù)壓修正機(jī)構(gòu)90。另外，掩模M的撓曲的修正機(jī)構(gòu)不限定于利用壓力差來修正撓曲的負(fù)壓修正機(jī)構(gòu)，與上述實(shí)施方式同樣，也可以是高度不同的一對隔墊等，能夠通過調(diào)整掩模架的安裝角度來調(diào)整掩模的傾斜角的傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)。進(jìn)而，也能夠同時(shí)設(shè)置負(fù)壓修正機(jī)構(gòu)和傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)。另外，在第五實(shí)施方式中，作為尺寸不同的掩模，使用了短邊側(cè)的兩條邊的長度大致相同，長邊側(cè)的兩條邊的長度不同的大小掩模進(jìn)行了說明，但也可以使用長邊側(cè)的兩條邊的長度大致相同，短邊側(cè)的兩條邊的長度不同的掩模。(第六實(shí)施方式)以下，根據(jù)附圖，對本發(fā)明的曝光裝置的第六實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說明。此外，本實(shí)施方式在掩模臺的結(jié)構(gòu)方面與第一實(shí)施方式不同，對與第一實(shí)施方式同樣或同等的部分標(biāo)注同一附圖標(biāo)記，并省略和簡化了其說明。在本實(shí)施方式的掩模臺中，如圖觀所示，在掩模保持框12的下表面，借助隔墊15 固定有用于保持掩模M的一對掩模架14。掩模架14能夠與掩模保持框12 —起相對于掩模臺基座11向X軸、Y軸、θ方向移動(dòng)。此外，掩模架14也可以是不分割為兩個(gè)，且兩端呈矩形框狀連接的一體型掩模架。如圖四所示，在一對掩模架14的下表面(基板W側(cè))分別設(shè)置有形成于長度方向中央的主吸附槽14a ；以及位于該主吸附槽14a的左右，從主吸附槽1 獨(dú)立形成的一對副吸附槽14b。掩模架14的主吸附槽1 和副吸附槽14b，均是用于對掩模M的未描繪有掩模圖案的長邊側(cè)兩條邊的周緣部進(jìn)行吸附的槽。主吸附槽14a以及副吸附槽14b分別經(jīng)由可進(jìn)行接通/斷開切換的電磁閥113、 115與真空式吸附裝置110相連接。具體而言，各主吸附槽14a與可進(jìn)行接通/斷開切換的各電磁閥113相連接，各電磁閥113，經(jīng)由配管111與真空式吸附裝置110相連接。另夕卜， 各副吸附槽14b與可進(jìn)行接通/斷開切換的各電磁閥115相連接，各電磁閥115經(jīng)由配管 112與真空式吸附裝置110相連接。因此，適當(dāng)切換電磁閥113、115，利用提供給任意吸附槽的真空來分別吸附掩模M的兩邊，并裝卸自如地保持。作為電磁閥113、115使用了直動(dòng)式或?qū)蚴降碾姶砰y。如圖四所示，該氣動(dòng)電路最大的情況設(shè)置有與吸附槽數(shù)目相對應(yīng)的數(shù)目的電磁閥。這樣，通過在各個(gè)吸附槽14a、14b中逐個(gè)地設(shè)置電磁閥113、115，容易控制各吸附槽14a、14b的流量，能夠進(jìn)行最適吸附。特別逐個(gè)控制各電磁閥113、115的負(fù)壓以使各吸附槽 14a、14b的負(fù)壓相等，由此能夠穩(wěn)定地吸附掩模M。此外，考慮到構(gòu)件的件數(shù)，主吸附槽1 也可以不設(shè)置電磁閥而是經(jīng)由配管111與真空式吸附裝置110相連接，多個(gè)副吸附槽14b 設(shè)置有公共的電磁閥115，并經(jīng)由配管112與真空式吸附裝置110相連接。在此，有時(shí)掩模M的尺寸隨著加工多倒角時(shí)描繪于有效曝光區(qū)域中的圖案的配置等的不同有時(shí)多少存在差異(例如10 20mm左右)，但掩模架14能夠相應(yīng)地吸附保持這樣的不同尺寸(長邊側(cè)的長度)的掩模M。具體而言，如圖30(a)所示，通過同時(shí)使主吸附槽1 和副吸附槽14b動(dòng)作，以吸附保持較大尺寸的掩模虬，如圖30(b)所示，僅僅使主吸附槽Ha動(dòng)作，以吸附保持較小尺寸的掩模Ms。另外，在本實(shí)施方式的曝光裝置中，也采用了圖18所示的能夠修正掩模M的撓曲的負(fù)壓修正機(jī)構(gòu)90。在如上所述構(gòu)成的曝光裝置1中，在圖31 (a)所示的長邊側(cè)兩邊被一對掩模架14 吸附保持的掩模M中，X方向的撓曲量一定(參照圖31(b))，Y方向的撓曲量在中央部最大， 且形成為隨著靠近掩模M的長邊側(cè)周緣部而逐漸變小的拋物線狀的撓曲(參照圖31 (C))。 換而言之，掩模M的撓曲形成為二維形狀的比較簡單的撓曲形狀。因此，兩邊被吸附保持的本實(shí)施方式的掩模M的撓曲與四邊被保持的掩模M的撓曲相比，其撓曲的絕對值大，但與四邊被保持的情況下的復(fù)雜的三維撓曲(參照圖35)相比，X方向的撓曲量形成為一定的簡單的撓曲形狀。因此，(X方向的撓曲無需修正)，通過由負(fù)壓修正機(jī)構(gòu)90對掩模M的兩面施加壓力差，能夠容易且高精度地修正Y方向的撓曲， 從而提高掩模M的平坦度。由此，能夠盡量使掩模M的有效曝光區(qū)域中的掩模M與基板W 之間的間隙均勻化，從而能夠獲得高曝光精度。另外，通過切換副吸附槽14b的吸附動(dòng)作，能夠吸附保持圖31 (a)所示的大尺寸的掩模禮和圖31(b)所示的小尺寸的掩模Ms，從而能夠?qū)?yīng)于長邊側(cè)尺寸不同的多個(gè)掩模M。 進(jìn)而，即使掩模M的長邊側(cè)尺寸不同，在X方向撓曲量為一定的狀態(tài)下，Y方向的撓曲形狀不改變，因此，實(shí)際上不調(diào)整負(fù)壓修正機(jī)構(gòu)90，也能夠容易修正隨著各掩模M的更換而產(chǎn)生的掩模M的撓曲量。(第七實(shí)施方式)接著，參照掩模臺的縱剖視圖(圖32)，對具有傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)的本發(fā)明的第七實(shí)施方式的曝光裝置進(jìn)行詳細(xì)說明。如圖32所示，在掩模保持框12中，在開口 12b的兩長邊側(cè)的下表面，經(jīng)傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)80安裝有一對掩模架14。傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)80是能夠調(diào)整一對掩模架14的角度即傾斜角的機(jī)構(gòu)，在本實(shí)施方式中，彼此高度不同的可更換的一對隔墊80a、80b配置在掩模保持框12與掩模架14之間。由此，使一對掩模架14相對于水平方向傾斜，由一對掩模架14對兩端被吸附保持的掩模M施加相對于長度方向中心C而言左右對稱的傾斜角，能夠進(jìn)行修正以降低掩模M的撓曲，從而提高掩模M的平坦度。因此，能夠盡量使掩模M的有效曝光區(qū)域中的掩模M與基板 W之間的間隙均勻化。根據(jù)這樣的曝光裝置1，也與第六實(shí)施方式同樣，即使掩模M的長邊側(cè)的尺寸不同，在X方向的撓曲量保持為一定的狀態(tài)下，Y方向的撓曲形狀不發(fā)生改變，因此，實(shí)際上不調(diào)整傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)80，也能夠容易修正隨著各掩模M的更換而產(chǎn)生的掩模M的撓曲量。此外，如圖33所示，作為本實(shí)施方式的傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)，也可以適用圖9 圖11 所示的傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)的變形例。此外，在所述實(shí)施方式中，能夠同時(shí)設(shè)置傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)等。另外，對于掩模，以短邊側(cè)兩邊的長度大致一樣且長邊側(cè)兩邊的長度不同的大小兩個(gè)掩模為例進(jìn)行了說明，但也可以是長邊側(cè)兩邊的長度大致一樣且短邊側(cè)兩邊的長度不同的掩模，在該情況下，掩模架構(gòu)成為具有并列于短邊方向上的多列吸附槽。另外，在本實(shí)施方式中，將掩模保持框12作為了掩模臺基座側(cè)構(gòu)件，但是，根據(jù)掩模臺的結(jié)構(gòu)不同，也可以將掩模臺基座11作為掩模臺基座側(cè)構(gòu)件，在該情況下，掩模架14 和傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)80配置在掩模臺基座11的下表面?zhèn)?。此外，本發(fā)明并不局限于上述各實(shí)施方式，也能夠進(jìn)行適當(dāng)?shù)淖冃魏透牧嫉取Ａ硗?，本發(fā)明在可實(shí)施的范圍內(nèi)，能夠適用各實(shí)施方式的組合。所謂的本發(fā)明的大致矩形狀的掩模，只要是四個(gè)掩模架或一對掩模架具有可吸附的四邊的結(jié)構(gòu)即可，如圖14、圖16所示，掩模不限于使角部相鄰的兩邊以90° 士 1°相交的情況，例如，如圖34(a) (c)所示，還包括角部被切除的情況。本發(fā)明基于2010年6月17日申請的日本專利申請(特愿2010-138505)、2010年 6月17日申請的日本專利申請(特愿2010-138506)、2010年6月23日申請的日本專利申請(特愿2010-142856)、2011年5月31日申請的日本專利申請(特愿2011-122231)、2011 年5月31日申請的日本專利申請(特愿2011-122232)、以及2011年5月31日申請的日本專利申請(特愿2011-122233)，通過引用，將這些申請的內(nèi)容合并于此。
2權(quán)利要求
1.一種曝光裝置，具有載置有作為被曝光材料的基板的基板臺；掩模臺，其配置于所述基板臺的上方，用于保持大致矩形狀的掩模；以及經(jīng)所述掩模對所述基板照射圖案曝光用光的照射機(jī)構(gòu)；其特征在于，所述掩模臺具有掩模臺基座側(cè)構(gòu)件；四個(gè)掩模架，能夠分別吸附保持所述掩模的各邊；多個(gè)引導(dǎo)機(jī)構(gòu)，分別設(shè)置在所述掩模臺基座側(cè)構(gòu)件與用于吸附保持所述掩模短邊側(cè)的至少兩個(gè)所述掩模架之間，能夠引導(dǎo)所述短邊側(cè)的掩模架相對于所述掩模臺基座側(cè)構(gòu)件向長邊方向移動(dòng)；驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，使所述短邊側(cè)的掩模架相對于所述掩模臺基座側(cè)構(gòu)件向長邊方向移動(dòng)；以及傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)，分別設(shè)置在所述掩模臺基座側(cè)構(gòu)件與所述各引導(dǎo)機(jī)構(gòu)之間、和所述各引導(dǎo)機(jī)構(gòu)與所述短邊側(cè)的掩模架之間中的至少一方，并能夠調(diào)整所述掩模的傾斜角。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)分別設(shè)置在所述掩模臺基座側(cè)構(gòu)件與所述各引導(dǎo)機(jī)構(gòu)之間以及所述各引導(dǎo)機(jī)構(gòu)與所述短邊側(cè)的掩模架之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的曝光裝置，其特征在于，所述各引導(dǎo)機(jī)構(gòu)分別具有安裝于所述掩模臺基座側(cè)的導(dǎo)軌和安裝于所述掩模架側(cè)的滑塊構(gòu)件；所述傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)分別設(shè)置在所述掩模臺基座側(cè)構(gòu)件與所述各導(dǎo)軌之間、和所述各滑塊構(gòu)件與所述短邊側(cè)的掩模架之間中的至少一方。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，所述傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)為彼此高度不同且可更換的一對隔墊。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，所述傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)具有具備預(yù)定高度的隔墊；和楔機(jī)構(gòu)，該楔機(jī)構(gòu)通過改變所述傾斜面的滑動(dòng)接觸位置能夠變更高度，且該楔機(jī)構(gòu)具有固定側(cè)錐形構(gòu)件和活動(dòng)側(cè)錐形構(gòu)件；該固定側(cè)錐形構(gòu)件設(shè)置于該隔墊的外側(cè)，且具有傾斜面；該活動(dòng)側(cè)錐形構(gòu)件具有滑動(dòng)自如地與上述傾斜面接觸的傾斜面。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的曝光裝置，其特征在于，所述楔機(jī)構(gòu)通過由電動(dòng)促動(dòng)器驅(qū)動(dòng)所述活動(dòng)側(cè)錐形構(gòu)件，以調(diào)整所述傾斜角。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，所述傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)是可通過通電控制改變高度的壓電元件。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為氣缸裝置，該氣缸裝置的氣缸主體固定在所述掩模臺基座側(cè)構(gòu)件上，且該氣缸裝置的活塞前端固定在所述掩模架上。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的曝光裝置，其特征在于，所述氣缸裝置具有止動(dòng)件，該止動(dòng)件具有吸震器且以可移動(dòng)的方式安裝于所述掩模臺基座側(cè)構(gòu)件上；并且，使所述活塞與該止動(dòng)件抵接，以將所述掩模架定位到預(yù)定的位置上。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為電動(dòng)機(jī)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的曝光裝置，其特征在于，所述電動(dòng)機(jī)使所述掩模架停止在至少三處的停止位置上。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，用于吸附保持所述掩模短邊側(cè)的所述掩模架和用于吸附保持所述掩模長邊側(cè)的所述掩模架，至少在相互接近的側(cè)緣部，具有形成為比其余部分更薄的薄壁部。
13.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，用于吸附保持所述掩模短邊側(cè)的所述掩模架和用于吸附保持所述掩模長邊側(cè)的所述掩模架，在相互接近的角部具有倒角部。
14.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，用于吸附保持所述掩模短邊側(cè)的所述掩模架和用于吸附保持所述掩模長邊側(cè)的所述掩模架中的任一個(gè)掩模架， 至少在相互接近的側(cè)緣部，具有從下表面延伸出的臺階部，并且所述另一個(gè)掩模架具有從上表面延伸出的臺階部，所述短邊側(cè)和長邊側(cè)的掩模架以所述臺階部彼此相互疊合的狀態(tài)來吸附保持所述掩模。
15.根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，還具有負(fù)壓修正機(jī)構(gòu)，該負(fù)壓修正機(jī)構(gòu)具有面對所述掩模一表面的腔室，且對所述腔室內(nèi)的氣壓和作用于所述掩模另一個(gè)表面上的氣壓賦予壓力差，以修正所述掩模的所述傾斜角。
16.一種曝光裝置，具有載置有作為被曝光材料的基板的基板臺；掩模臺，其配置于所述基板臺的上方，用于保持大致矩形狀的掩模；以及經(jīng)所述掩模對所述基板照射圖案曝光用光的照射機(jī)構(gòu)；其特征在于，所述掩模臺具有一對第一掩模架，能夠吸附保持沿預(yù)定方向延伸的所述掩模的相對兩邊；一對第二掩模架，能夠吸附保持沿與所述預(yù)定方向正交的方向延伸的所述掩模的相互對置的另外兩邊，并且能夠向所述掩模的所述預(yù)定方向移動(dòng)；以及一對驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，分別使所述各第二掩模架向所述掩模的所述預(yù)定方向移動(dòng)，所述各第二掩模架具有并列于所述預(yù)定方向上的多列吸附槽，該吸附槽利用所提供的負(fù)壓來吸附保持所述掩模的另外兩邊側(cè)。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的曝光裝置，其特征在于，所述第二掩模架的所述吸附槽利用電磁閥來切換負(fù)壓的供給和停止。
18.根據(jù)權(quán)利要求16或17所述的曝光裝置，其特征在于，所述各第一掩模架具有多個(gè)其他吸附槽，該其他吸附槽在所述預(yù)定方向上分割設(shè)置， 以利用所提供的負(fù)壓來吸附保持所述掩模的兩邊側(cè)，所述第一掩模架的所述其他吸附槽和所述第二掩模架的吸附槽，利用逐個(gè)設(shè)置于所述其他吸附槽和所述吸附槽中的各電磁閥，切換負(fù)壓的供給和停止，且控制負(fù)壓的大小。
19.根據(jù)權(quán)利要求16 18中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，還具有負(fù)壓修正機(jī)構(gòu)，該負(fù)壓修正機(jī)構(gòu)具有面對著所述掩模一表面的腔室，且對所述腔室內(nèi)的氣壓和作用于所述掩模的另一表面上的氣壓賦予壓力差，以修正所述掩模的撓曲。
20.一種曝光裝置，具有載置有作為被曝光材料的基板的基板臺；掩模臺，其配置于所述基板臺的上方，用于保持大致矩形狀的掩模；以及經(jīng)所述掩模對所述基板照射圖案曝光用光的照射機(jī)構(gòu)；其特征在于，所述掩模臺具有一對掩模架，利用所提供的負(fù)壓來吸附保持所述掩模的相對兩邊，且分別具有沿著該兩邊的方向分割形成的多個(gè)吸附槽；和負(fù)壓修正機(jī)構(gòu)，具有面對著所述掩模一表面的腔室，對所述腔室內(nèi)的氣壓和作用于所述掩模的另一表面上的氣壓賦予壓力差，以修正所述掩模的撓曲。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的曝光裝置，其特征在于，所述一對掩模架的所述多個(gè)吸附槽利用逐個(gè)設(shè)置于所述吸附槽中的各電磁閥，切換負(fù)壓的供給和停止，且控制負(fù)壓的大小。
22.—種曝光裝置，具有載置有作為被曝光材料的基板的基板臺；掩模臺，其配置于所述基板臺的上方，用于保持大致矩形狀的掩模；以及經(jīng)所述掩模對所述基板照射圖案曝光用光的照射機(jī)構(gòu)；其特征在于，所述掩模臺具有掩模臺基座側(cè)構(gòu)件；一對掩模架，分別具有多個(gè)吸附槽，所述吸附槽利用所提供的負(fù)壓來吸附保持所述掩模的相對兩邊，并在沿著該兩邊的方向分割形成；以及傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)，分別設(shè)置在所述掩模臺基座側(cè)構(gòu)件與所述各掩模架之間，以使所述各掩模架傾斜并能夠調(diào)整所述掩模的傾斜角。
23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的曝光裝置，其特征在于，所述一對掩模架的所述多個(gè)吸附槽利用逐個(gè)設(shè)置于所述吸附槽中的各電磁閥，切換負(fù)壓的供給和停止，并控制負(fù)壓的大小。
全文摘要
掩模臺(10)具有掩模臺基座(11)；能夠分別吸附保持掩模M各邊的四個(gè)掩模架(71，72)；分別設(shè)置在用于吸附保持掩模臺基座(11)側(cè)和掩模M短邊側(cè)的一對掩模架(72)之間的線性導(dǎo)軌(73)；使短邊側(cè)的掩模架(72)移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(74)；設(shè)置于掩模臺基座(11)側(cè)與掩模架(72)側(cè)之間，能夠調(diào)整掩模(M)的傾斜角的傾斜角調(diào)整機(jī)構(gòu)(80)。由此，在平坦度維持一定的狀態(tài)下，能夠?qū)?yīng)于尺寸不同的多個(gè)掩模。
文檔編號H01L21/027GK102449553SQ20118000184
公開日2012年5月9日 申請日期2011年6月10日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月17日
發(fā)明者戶川悟, 松坂昌明, 林慎一郎, 桐生恭孝 申請人:恩斯克科技有限公司