專利名稱：一種有機發(fā)光器件的薄膜封裝結構的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及具有有機材料的電子器件的多層薄膜封裝結構，該電子器件尤其 為OLED或者其它有機光電子器件。
技術背景 近年來，屬于自發(fā)光裝置的有機發(fā)光二極管(OLED)作為平板顯示器件引起人們 廣泛的關注。OLED器件的壽命一方面取決于所選用的有機材料，另一方面還取決于器件的 封裝方法；對于有機電子器件，尤其是0LED，要嚴格杜絕來自周圍環(huán)境的氧氣和潮氣進入 器件內部接觸到敏感的有機物質和電極。因為在有機發(fā)光裝置內部，潮氣或者氧氣的存在 容易引起其特性的退化或失效，即使微量的潮氣也會使有機化合物層與電極層剝離，導致 產生黑斑。因而，為使OLED在長期工作過程中的退化和失效得到抑制，穩(wěn)定工作達到足夠 的壽命，對封裝材料的阻隔性提出很高的要求。如今常用的是采用蝕刻玻璃罩或者金屬殼 體來覆蓋有機發(fā)光部分，在有機發(fā)光部分的周圍施加密封劑，并且將潮氣吸收劑放置在其 中，以使氧氣和濕氣不靠近或者在到達有機物質之前至少由吸氣材料截取，從而保證有機 發(fā)光裝置的壽命。然而，這樣的密封殼體的質量較大，相應的尺寸也較大，使得密封殼體不 適于某些應用，此外需要很多精力去制造。而且，金屬不透明，使得金屬也不適于某些應用。 因此，為了實現(xiàn)OLED更輕更薄的要求，有必要消除由潮氣吸收劑和玻璃/金屬殼體所占用 的空間。所以眾多的研究人員將目光轉向了薄膜封裝，在薄膜封裝中，為了限制或者防止潮 氣和氧氣的入侵，殼體配置有各種薄層的堆疊。例如，在WO 03/050894A2, CN100499953C中描述了這種薄膜封裝，該薄膜層優(yōu)選 地由無機層形成，并且無機層具有高的屏障效應。然而，由于無機層彈性較低，因而幾乎對 分散機械應力沒有幫助，另一方面，由于無機薄膜封裝層是堅硬層，切割之際在密封層中容 易形成裂縫或者部分密封層剝離，使得潮氣和氧氣能夠通過裂縫進入器件內部。由于這個 原因，已經公知在無機層之間設置有機層或者聚合物層，這些有機層或者聚合物層具有更 高彈性，因而可以有效抑制開裂。這樣的層結構例如在CN101106178A中提出，盡管由此獲 得良好的結果，但是最終的密封效果仍然不盡如人意。因為潮氣和氧氣一般很難從密封層 的厚度方向進入有機器件內部，倒是從密封層的邊緣及密封層與基板接合的部位進入的機 會更大一些，針對該情況，我們設計了一種有機/無機層層包裹的薄膜封裝結構，從而大大 降低潮氣/氧氣進入的機會。

實用新型內容本實用新型的目的是提供一種有機發(fā)光器件的薄膜封裝結構，該結構相比較現(xiàn)有 技術，具有更優(yōu)異的密封效果，從而有效延長有機器件壽命。為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用如下技術方案一種有機發(fā)光器件的薄膜封 裝結構，包括玻璃基板及若干獨立密封單元，所述密封單元包括設置于玻璃基板上的有機 發(fā)光元件及封裝所述有機發(fā)光元件的薄膜密封層，所述發(fā)光元件包括位于玻璃基板上且依次堆疊的第一電極、有機化合物層及第二電極，所述薄膜密封層包括包覆所述有機發(fā)光元 件且依次堆疊排布的第一無機材料密封層、第一有機材料密封層及第二無機材料密封層， 所述若干獨立密封單元的薄膜密封層彼此獨立而不粘連，所述第一有機材料密封層包覆所 述第一無機材料密封層的邊緣，所述第二無機材料密封層包覆所述第一有機材料密封層的 邊緣。 所述有機化合物層至少包括依次沉積在第一電極上方的空穴傳輸層、有機發(fā)光層 及電子傳輸層。所述第一無機材料密封層和第二無機材料密封層選用SiN、Si02、SiNO中的一種。所述第一有機材料密封層采用C型Parylene材料。所述第一無機材料密封層的沉積厚度為15-50nm，第一有機材料密封層的厚度為 50-200nm，第二無機材料密封層的厚度為100-200nm ；與現(xiàn)有技術相比，本實用新型具有以下優(yōu)點本實用新型的薄膜封裝結構，可有效 減少裂片之后出現(xiàn)裂紋的現(xiàn)象，有效提高有機顯示器件的壽命。

圖1為現(xiàn)有的薄膜封裝結構示意圖；圖2為本實用新型薄膜封裝結構示意圖。其中2為玻璃基板，3為第一電極，4為有機化合物層，5為第二電極，6為第一無 機材料密封層，7為第一有機材料密封層，8為第二無機材料密封層。
具體實施方式
以下結合附圖對本實用新型做進一步詳細描述。現(xiàn)有的薄膜封裝結構如圖1所示，密封材料層層堆疊，這種封裝結構在基板裂片 的過程中，容易造成層與層之間產生裂縫。針對該問題，本實用新型在沉積薄膜的過程中利 用掩膜版技術，使所沉積的薄膜產生如圖2所示的密封效果，即在上面的一層須完全包覆 下面一層的邊緣，形成一個個獨立的密封單元。該掩膜版為鎳鋼或不銹鋼材質，掩膜版的圖 案與單個有機發(fā)光器件的圖案一致，且下層密封層所使用的掩膜版圖案略小于其上一層密 封層的圖案。一層薄膜密封層使用一種掩膜版，沉積完一層之后由機械手在真空腔體內自 動更換下一層薄膜所用的掩膜版。這樣封裝完之后切割裂片，切割縫位于若干獨立的薄膜 密封層之間，切割時只破壞玻璃基板2而不會破壞這些薄膜密封層，這樣切割出來的單個 產品不會將封裝薄膜的斷面暴漏于大氣中。本實用新型有機發(fā)光器件的薄膜封裝結構至少包含玻璃基板2、設置在玻璃基板 2上的有機發(fā)光元件及封裝有機發(fā)光元件的無機/有機薄膜密封層。有機發(fā)光元件至少包 括構成像素單元的第一電極3，設置于第一電極3上面的有機化合物層4，及設置于有機化 合物層4上面第二電極5，有機化合物層4至少包括依次沉積于第一電極3上面的空穴傳 輸層、有機發(fā)光層及電子傳輸層等。該有機發(fā)光器件可以是被動矩陣有機發(fā)光二極體面板 (PM0LED)也可以是主動矩陣有機發(fā)光二極體面板(AM0LED)。本實用新型有機發(fā)光器件的薄膜封裝結構的封裝在同一腔室內進行，這樣可以避 免玻璃基板在搬送過程中造成的污染，無機密封層優(yōu)先采用離子束濺射沉積，無機密封材料優(yōu)先選用SiN、Si02、SiN0中的一種或兩種；有機密封層優(yōu)先采用化學氣相沉積(CVD)，有 機密封材料優(yōu)先采用C型聚氯代對二甲苯(Parylene)。沉積C型Parylene有機薄膜密封 層的過程是第一步在120-150°C將固態(tài)的C型Parylene進行升華；第二步在650_680°C 2 個側鏈碳碳鍵裂解，生成穩(wěn)定的活性單體；最后單聚物進入室溫溫度下的沉積艙內，在這里 瞬間聚合冷凝吸附在玻璃基板和無機薄膜密封層上，形成均勻致密的有機薄膜密封層。 在該有機發(fā)光器件中，薄膜密封層為無機/有機薄膜交替沉積。第一層為第一無 機材料密封層6，沉積厚度為15-50nm ；第二層為第一有機材料密封層7，厚度為50-200nm ； 第三層為第二無機材料密封層8，厚度為100-200nm;第四層和第五層為可選的輔助密封 層，第四層為有機層，第五層為無機層。
權利要求一種有機發(fā)光器件的薄膜封裝結構，包括玻璃基板(2)及若干獨立密封單元，所述密封單元包括設置于玻璃基板(2)上的有機發(fā)光元件及封裝所述有機發(fā)光元件的薄膜密封層，所述發(fā)光元件包括位于玻璃基板(2)上且依次堆疊的第一電極(3)、有機化合物層(4)及第二電極(5)，所述薄膜密封層包括包覆所述有機發(fā)光元件且依次堆疊排布的第一無機材料密封層(6)、第一有機材料密封層(7)及第二無機材料密封層(8)，其特征在于所述若干獨立密封單元的薄膜密封層彼此獨立而不粘連，所述第一有機材料密封層(7)包覆所述第一無機材料密封層(6)的邊緣，所述第二無機材料密封層(8)包覆所述第一有機材料密封層(7)的邊緣。
2.如權利要求1所述一種有機發(fā)光器件的薄膜封裝結構，其特征在于所述有機化合 物層(4)至少包括依次沉積在第一電極(3)上方的空穴傳輸層、有機發(fā)光層及電子傳輸層。
3.如權利要求1所述一種有機發(fā)光器件的薄膜封裝結構，其特征在于所述第一無機 材料密封層(6)和第二無機材料密封層(8)選用SiN、Si02、SiN0中的一種。
4.如權利要求1所述一種有機發(fā)光器件的薄膜封裝結構，其特征在于所述第一有機 材料密封層(7)采用C型Parylene材料。
5.如權利要求1所述一種有機發(fā)光器件的薄膜封裝結構，其特征在于所述第一無機 材料密封層(6)的沉積厚度為15-50nm，第一有機材料密封層(7)的厚度為50-200nm，第二 無機材料密封層(8)的厚度為100-200nm。
專利摘要本實用新型提供一種有機發(fā)光器件的薄膜封裝結構，包括玻璃基板及若干獨立密封單元，所述密封單元包括設置于玻璃基板上的有機發(fā)光元件及封裝所述有機發(fā)光元件的薄膜密封層，所述薄膜密封層包括包覆所述有機發(fā)光元件且依次堆疊排布的第一無機材料密封層、第一有機材料密封層及第二無機材料密封層，所述若干獨立密封單元的薄膜密封層彼此獨立而不粘連，所述第一有機材料密封層包覆所述第一無機材料密封層的邊緣，所述第二無機材料密封層包覆所述第一有機材料密封層的邊緣。本實用新型的多層薄膜封裝結構，可有效減少裂片之后出現(xiàn)裂紋的現(xiàn)象，有效提高有機顯示器件的壽命。
文檔編號H01L51/56GK201616434SQ20092024499
公開日2010年10月27日 申請日期2009年10月29日 優(yōu)先權日2009年10月29日
發(fā)明者張斌 申請人:彩虹集團公司