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低應(yīng)力芯片凸點(diǎn)封裝結(jié)構(gòu)的制作方法

文檔序號(hào):7187277閱讀:365來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:低應(yīng)力芯片凸點(diǎn)封裝結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種低應(yīng)力芯片凸點(diǎn)封裝結(jié)構(gòu)。屬于芯片封裝技術(shù)領(lǐng)域。
(二)
背景技術(shù)
在眾多的新型芯片封裝技術(shù)中,圓片級(jí)封裝技術(shù)最具創(chuàng)新性、最受世人矚目,是封裝技術(shù)取得革命性突破的標(biāo)志。圓片級(jí)封裝技術(shù)以圓片為加工對(duì)象,在圓片上同時(shí)對(duì)眾多芯片進(jìn)行封裝、老化、測(cè)試,最后切割成單個(gè)器件。它使封裝尺寸減小至IC芯片的尺寸,生產(chǎn)成本大幅度下降。圓片級(jí)封裝技術(shù)的優(yōu)勢(shì)使其一出現(xiàn)就受到極大的關(guān)注并迅速獲得巨大的發(fā)展和廣泛的應(yīng)用。在移動(dòng)電話等便攜式產(chǎn)品中,已普遍采用圓片級(jí)封裝型的
EPROM、 IPD(集成無(wú)源器件)、模擬芯片等器件。采用圓片級(jí)封裝的器件門(mén)類正在不斷增多,圓片級(jí)封裝技術(shù)是一項(xiàng)正在迅速發(fā)展的新技術(shù)。為了提高圓片級(jí)封裝的適用性并擴(kuò)大其應(yīng)用范圍,人們正在研究和開(kāi)發(fā)各種新型技術(shù)同時(shí)解決產(chǎn)業(yè)化過(guò)程中出現(xiàn)的問(wèn)題,開(kāi)展對(duì)圓片級(jí)封裝技術(shù)的現(xiàn)狀、應(yīng)用和發(fā)展進(jìn)行研究。
圓片級(jí)封裝具有許多獨(dú)特的優(yōu)點(diǎn)①封裝加工效率高,它以圓片形式的批量生產(chǎn)工藝進(jìn)行制造;②具有倒裝芯片封裝的優(yōu)點(diǎn),即輕、薄、短、
3?。虎蹐A片級(jí)封裝生產(chǎn)設(shè)施費(fèi)用低,可充分利用圓片的制造設(shè)備,無(wú)須投資另建封裝生產(chǎn)線;④圓片級(jí)封裝的芯片設(shè)計(jì)和封裝設(shè)計(jì)可以統(tǒng)一考慮、同時(shí)進(jìn)行,這將提高設(shè)計(jì)效率,減少設(shè)計(jì)費(fèi)用;⑤圓片級(jí)封裝從芯片制造、封裝到產(chǎn)品發(fā)往用戶的整個(gè)過(guò)程中,中間環(huán)節(jié)大大減少,周期縮短很多,這必將導(dǎo)致成本的降低;⑥圓片級(jí)封裝的成本與每個(gè)圓片上的芯片數(shù)量密切相關(guān),圓片上的芯片數(shù)越多,圓片級(jí)封裝的成本也越低。圓片級(jí)封裝是尺寸最小的低成本封裝。圓片級(jí)封裝技術(shù)是真正意義上的批量生產(chǎn)芯片封裝技術(shù)。圓片級(jí)封裝的優(yōu)勢(shì)在于它是一種適用于更小型集成電路的芯片級(jí)封裝(CSP)技術(shù),由于在圓片級(jí)采用并行封裝和電子測(cè)試技術(shù),在提高產(chǎn)量的同時(shí)顯著減少芯片面積。由于在圓片級(jí)采用并行操作進(jìn)行芯片連接,因
此可以大大降低每個(gè)i/o的成本。此外,采用簡(jiǎn)化的圓片級(jí)測(cè)試程序?qū)?huì)
進(jìn)一步降低成本。利用圓片級(jí)封裝可以在圓片級(jí)實(shí)現(xiàn)芯片的封裝與測(cè)試。
當(dāng)前最典型的圓片級(jí)芯片凸點(diǎn)工藝是,采用PI或BCB作為應(yīng)力緩沖層,Cu作為再分布連線金屬,采用濺射法淀積凸點(diǎn)底部金屬層(UBM),用植球或絲網(wǎng)印刷法淀積焊膏并回流,形成悍球悍球凸點(diǎn)。
目前凸點(diǎn)工藝的特點(diǎn)都是在整個(gè)芯片表面完全薄應(yīng)力緩沖的覆蓋,導(dǎo)致讓業(yè)界困惑的問(wèn)題 一是圓片表面應(yīng)力,隨著芯片功能的增多,芯片尺寸也在不斷的增加,芯片表面應(yīng)力對(duì)于芯片在使用中的可靠性影響加重,而應(yīng)力緩沖層的完全覆蓋,作用在芯片表面的應(yīng)力無(wú)法釋放,降低了芯片在使用中的可靠性;二是在圓片級(jí)封裝工藝中,應(yīng)力緩沖層上金屬較難腐蝕,容易造成金屬殘留存在漏電流問(wèn)題;另一方面,芯片尺寸不同的芯片必須單獨(dú)加工掩膜板,加工費(fèi)用較高。
(三) 發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于克服上述不足,提供一種可以降低整個(gè)芯片應(yīng)力、改善工藝中漏電流問(wèn)題、節(jié)省成本的低應(yīng)力芯片凸點(diǎn)封裝結(jié)構(gòu)。
本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的--種低應(yīng)力芯片凸點(diǎn)封裝結(jié)構(gòu),包括芯片本體、芯片電極、芯片表面鈍化層、凸點(diǎn)下應(yīng)力緩沖層、接觸電極和應(yīng)力緩沖層上焊料凸點(diǎn),所述凸點(diǎn)下應(yīng)力緩沖層相互分隔開(kāi)來(lái)不連續(xù)。
本實(shí)用新型的有益效果是
本實(shí)用新型通過(guò)將凸點(diǎn)下應(yīng)力緩沖層相互分隔開(kāi)來(lái),只有在凸點(diǎn)下有應(yīng)力緩沖層,應(yīng)力緩沖層不連續(xù),可以降低整個(gè)芯片應(yīng)力,分散芯片應(yīng)力分布,提高了凸點(diǎn)結(jié)構(gòu)的可靠性能,改善工藝中漏電流問(wèn)題,提高了工藝加工的實(shí)用性,并且不同尺寸的芯片可以共用同一塊掩膜板,節(jié)省成本。


圖1為本實(shí)用新型低應(yīng)力芯片凸點(diǎn)封裝結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖2為圖1的A-A剖示圖。
圖中芯片本體l、芯片電極2、芯片表面鈍化層3、凸點(diǎn)下應(yīng)力緩沖
層4、接觸電極5、應(yīng)力緩沖層上焊料凸點(diǎn)6。
具體實(shí)施方式
參見(jiàn)圖1~2,本實(shí)用新型低應(yīng)力芯片凸點(diǎn)封裝結(jié)構(gòu),包括芯片本體l、芯片電極2、芯片表面鈍化層3、凸點(diǎn)下應(yīng)力緩沖層4、接觸電極5和應(yīng)力緩沖層上焊料凸點(diǎn)6,所述凸點(diǎn)下應(yīng)力緩沖層4相互分隔開(kāi)來(lái)不連續(xù)。所述凸點(diǎn)下應(yīng)力緩沖層4為高分子絕緣材料,如聚酰亞胺、環(huán)氧樹(shù)脂等。
所述應(yīng)力緩沖層上焊料凸點(diǎn)6包括焊球和焊膏回流后所形成的凸點(diǎn)。
權(quán)利要求1、一種低應(yīng)力芯片凸點(diǎn)封裝結(jié)構(gòu),包括芯片本體(1)、芯片電極(2)、芯片表面鈍化層(3)、凸點(diǎn)下應(yīng)力緩沖層(4)、接觸電極(5)和應(yīng)力緩沖層上焊料凸點(diǎn)(6),其特征在于所述凸點(diǎn)下應(yīng)力緩沖層(4)相互分隔開(kāi)來(lái)不連續(xù)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低應(yīng)力芯片凸點(diǎn)封裝結(jié)構(gòu),其特征在于:所述凸點(diǎn)下應(yīng)力緩沖層(4)為高分子絕緣材料。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種低應(yīng)力芯片凸點(diǎn)封裝結(jié)構(gòu),其特征在于.-所述高分子絕緣材料是聚酰亞胺或環(huán)氧樹(shù)脂。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低應(yīng)力芯片凸點(diǎn)封裝結(jié)構(gòu),其特征在于所述應(yīng)力緩沖層上焊料凸點(diǎn)(6)包括焊球和焊膏回流后所形成的凸點(diǎn)。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種低應(yīng)力芯片凸點(diǎn)封裝結(jié)構(gòu),屬于芯片封裝技術(shù)領(lǐng)域。所述結(jié)構(gòu)包括芯片本體(1)、芯片電極(2)、芯片表面鈍化層(3)、凸點(diǎn)下應(yīng)力緩沖層(4)、接觸電極(5)和應(yīng)力緩沖層上焊料凸點(diǎn)(6),其特征在于所述凸點(diǎn)下應(yīng)力緩沖層(4)相互分隔開(kāi)來(lái)不連續(xù)。本實(shí)用新型的有益效果是本實(shí)用新型通過(guò)將凸點(diǎn)下應(yīng)力緩沖層相互分隔開(kāi)來(lái),只有在凸點(diǎn)下有應(yīng)力緩沖層,應(yīng)力緩沖層不連續(xù),可以降低整個(gè)芯片應(yīng)力,分散芯片應(yīng)力分布,提高了凸點(diǎn)結(jié)構(gòu)的可靠性能,改善工藝中漏電流問(wèn)題,提高了工藝加工的實(shí)用性,并且不同尺寸的芯片可以共用同一塊掩膜板,節(jié)省成本。
文檔編號(hào)H01L23/485GK201421840SQ20092004505
公開(kāi)日2010年3月10日 申請(qǐng)日期2009年5月26日 優(yōu)先權(quán)日2009年5月26日
發(fā)明者黎 張, 凱 曹, 賴志明, 棟 陳, 陳錦輝 申請(qǐng)人:江陰長(zhǎng)電先進(jìn)封裝有限公司
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