專利名稱：光學(xué)記錄介質(zhì)和其中所采用的二吡咯甲烷金屬螯合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種其中采用二吡咯甲烷金屬螯合物，并且與通常情況相比，在更高的密度下為可記錄和可重現(xiàn)的光學(xué)記錄介質(zhì)。
目前，作為一種與CD相比，具有更大容量的光學(xué)記錄介質(zhì)，已開(kāi)發(fā)并且商業(yè)化了具有4.7GB容量的數(shù)字錄像盤。DVD為ROM介質(zhì)，因此希望具有相應(yīng)容量的可記錄和可重現(xiàn)的光學(xué)記錄介質(zhì)。在DVDS中，一次性書寫的類型被稱為DVD-R。
在DVD中，為了實(shí)現(xiàn)高密度記錄，激光束的振動(dòng)波長(zhǎng)在約630nm-680nm的范圍內(nèi)，它為比CD情況下更短的波長(zhǎng)。作為用于可在該短波長(zhǎng)中被采用的含有機(jī)染料的光學(xué)記錄介質(zhì)的染料，在日本申請(qǐng)公開(kāi)號(hào)74690/1992,38878/1993,40161/1994,40162/1994,199045/1994,336086/1994,76169/1995,125441/1995,262604/1995,156218/1997,193544/1997,193545/1997,193547/1997,194748/1997,202052/1997,267562/1997和274732/1997中已建議了花青染料，偶氮染料，苯并吡喃類型染料，苯并二呋喃酮類型染料，靛類染料，二惡嗪類型染料和卟啉類型染料。然而，這些常規(guī)技術(shù)具有染料耐久性及尤其是使用短波長(zhǎng)所特有的一些問(wèn)題。例如，當(dāng)用聚焦激光束打開(kāi)一個(gè)小的紋孔時(shí)，其周邊廣泛被影響，這樣不利地形成大大擴(kuò)大的紋孔。這種不利導(dǎo)致振動(dòng)的惡化和徑向交調(diào)失真。相反地，在一些常規(guī)技術(shù)中，有時(shí)形成極其細(xì)小的紋孔，并且這種不利導(dǎo)致受調(diào)放大器失準(zhǔn)。此外，當(dāng)選擇一種具有不適宜的光學(xué)常數(shù)(折射率和消光系數(shù))的有機(jī)染料并在所希望的激光波長(zhǎng)下用于記錄層時(shí)，發(fā)生反射度，敏感性等的偏差。目前仍未根本上克服這些缺陷。
本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種光學(xué)記錄介質(zhì)，其用具有520-690nm波長(zhǎng)的短波激光可記錄和可重現(xiàn)。具有極好的耐久性，并適用于高密度記錄。
本發(fā)明人已建議一種適用于高密度記錄的可記錄和可重現(xiàn)的光學(xué)記錄介質(zhì)，在這種記錄介質(zhì)中，采用二吡咯甲烷金屬螯合物作為有機(jī)染料(日本專利申請(qǐng)公開(kāi)號(hào)226172/1998)。本發(fā)明人已進(jìn)一步廣泛研究了其中采用二吡咯甲烷金屬螯合物的光學(xué)記錄介質(zhì)。結(jié)果，已發(fā)現(xiàn)選擇具有包含乙烯基或鹵原子的取代基，取代基，如將特定的芳基或雜芳基引入吡咯環(huán)的α-位的二吡咯甲烷金屬螯合物，或銅或鈷作為上面二吡咯甲烷金屬螯合物中的配位金屬，并在記錄層中使用兩種或多種所選擇的二吡咯甲烷金屬螯合物可提供一種光學(xué)記錄介質(zhì)，其中由有機(jī)染料的缺陷導(dǎo)致的反射度和敏感性的偏差，即光學(xué)特性的波長(zhǎng)依賴性被抑制，并且在不穩(wěn)定性和耐久性方面是極好的。因此，已完成本發(fā)明。也就是說(shuō)，本發(fā)明的各個(gè)方面如下。
1．本發(fā)明的第一個(gè)方面涉及一種在底物上具有至少一層記錄層和一層反射層的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中在該記錄層中包含至少一種式(Ⅰ)代表的二吡咯甲烷金屬螯合物
其中R1和R9各自獨(dú)立地為鏈烯基、芳基或雜芳基；R2至R8各自獨(dú)立地為氫原子、鹵原子、或具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、鏈烯基、?；⑼檠趸驶?、芳烷基、芳基或雜芳基；及M為過(guò)渡金屬。
2．本發(fā)明的第二個(gè)方面涉及根據(jù)上面段落1的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中式(1)中的R1為-CH=CH-R10，其中R10為氫原子，鹵原子，具有20個(gè)或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、鏈烯基、?；⑼檠豸驶?。
3．本發(fā)明的第三個(gè)方面是涉及根據(jù)上面段落1的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中式(1)中的R1為具有20或更少碳原子的取代或未取代的芳基或雜芳基，及M為銅或鈷。
4．本發(fā)明的第四個(gè)方面是涉及根據(jù)上面段落3的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中式(1)中的R1和R3為具有20或更少碳原子的同時(shí)取代或未取代的芳基或雜芳基。
5．本發(fā)明的第五個(gè)方面是涉及根據(jù)上面段落4的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中式(1)中的R1,R3和R9為具有20或更少碳原子的取代或未取代的芳基，并且至少一個(gè)芳基被鹵素取代，或至少R2,R4至R8中的一個(gè)為鹵原子。
6．本發(fā)明的第六個(gè)方面是涉及根據(jù)上面段落1-5任一段的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中該記錄層進(jìn)一步包括至少一種另外的由式(2)代表的二吡咯金屬螯合物
其中R11-R17各自獨(dú)立地為氫原子、鹵原子、硝基、氰基、羥基、氨基、羧基、磺酸基，或具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、烷硫基、芳氧基、芳硫基、鏈烯基、酰基、烷氧羰基、氨基甲?；Ⅴ；被?、芳烷基、芳基或雜芳基，及R15和R16可相互結(jié)合形成可具有至少一個(gè)取代基的芳環(huán)；和M’為過(guò)渡元素。
7．本發(fā)明的第七個(gè)方面是涉及根據(jù)上面段落6的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中另外的二吡咯甲烷金屬螯合物選自式(3)代表的化合物
其中R19-R25各自獨(dú)立地為氫原子、鹵原子、硝基、氰基、羥基、氨基、羧基、磺酸基，或具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、烷硫基、芳氧基、芳硫基、鏈烯基、酰基、烷氧羰基、氨基甲?；Ⅴ；被蚍纪榛籖18和R26各自獨(dú)立地為鏈烯基或芳基；和M”為銅或鈷。
8．本發(fā)明的第八個(gè)方面是涉及根據(jù)上面段落1-7任一段的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中在520-690nm的激光波長(zhǎng)下，記錄層的折射率和消光系數(shù)分別為1.8或更大及0.04-0.40。
9．本發(fā)明的第九個(gè)方面是涉及根據(jù)上面段落1-7任一段的光學(xué)記錄介質(zhì)，其可被在520-690nm的波長(zhǎng)范圍內(nèi)選擇的激光束記錄和再現(xiàn)。
10．式(4)代表的二吡咯甲烷金屬螯合物
其中R27-R35各自獨(dú)立地為氫原子，鹵原子，或具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、鏈烯基、酰基、烷氧羰基、芳烷基、芳基或雜芳基；和M為過(guò)渡元素。
采用至少一種本發(fā)明的二吡咯甲烷金屬螯合物作為記錄層能提供非常引入注目的高密度記錄介質(zhì)，可被具有520-690nm波長(zhǎng)的激光束記錄和再現(xiàn)的，并且耐久性極佳的一次性書寫類型的光學(xué)記錄介質(zhì)。


圖1為截面結(jié)構(gòu)圖，說(shuō)明通常情況和本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)的層組成。
現(xiàn)在，詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明。
在由式(1)代表的二吡咯甲烷金屬螯合物中，R1和R9各自獨(dú)立地為鏈烯基、芳基或雜芳基，R2-R8各自獨(dú)立地為氫原子、鹵原子，或具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、鏈烯基、?；?、烷氧羰基、芳烷基、芳基或雜芳基。
由R1和R9代表的芳基的例子包括具有20或更少碳原子的取代和未取代的芳基，如苯基、硝基苯基、氰基苯基、羥基苯基、甲基苯基、乙基苯基、正丁基苯基、叔丁基苯基、環(huán)己基苯基、2,4-二甲基苯基、2,4-二異丙基苯基、2,4,6-三甲基苯基、2,6-二甲基-4-叔丁基苯基、氟苯基、氯苯基、溴苯基、碘苯基、2,4-二氟苯基、2,4-二氯苯基、2,4-二溴苯基、2,4-二碘苯基、甲氧基苯基、乙氧基苯基、正丁氧基苯基、異戊氧基苯基、三氟甲基苯基、N,N-二甲基氨基苯基、N,N-二乙基氨基苯基、N,N-二丁基氨基苯基、2-N,N-二乙基氨基-4-異丙基苯基、萘基、硝基萘基、氰基萘基、羥基萘基、甲基萘基、甲氧基萘基、氯萘基、溴萘基和三氟甲基萘基；R1和R9代表的雜芳基的例子包括具有20或更少碳原子的取代和未取代的雜芳基，如吡咯基、噻吩基、呋喃基、噁唑基、異噁唑基、噁二唑基、噻二唑基、咪唑基、苯并噁唑基、苯并噻唑基、苯并咪唑基、苯并呋喃基和吲哚基。
由R1和R9代表的鏈烯基的例子包括可具有一個(gè)取代基的鏈烯基，其優(yōu)選實(shí)例由-CH=CHR10表示，其中R10為氫原子、鹵原子，具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、鏈烯基、?；⑼檠趸驶?、芳烷基，芳基或雜芳基。
R10的典型例子包括氫原子；鹵原子，如氟、氯、溴和碘；具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基，如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、異戊基、2-甲基丁基、1-甲基丁基、新戊基、1,2-二甲基丙基、1,1-二甲基丙基、環(huán)戊基、正己基、4-甲基戊基、3-甲基戊基、2-甲基戊基、1-甲基戊基、3,3-二甲基丁基、2,3-二甲基丁基、1,3-二甲基丁基、2,2-二甲基丁基、1,2-二甲基丁基、1,1-二甲基丁基、3-乙基丁基、2-乙基丁基、1-乙基丁基、1,2,2-三甲基丁基、1,1,2-三甲基丁基、1-乙基-2-甲基丙基、環(huán)己基、正庚基、2-甲基己基、3-甲基己基、4-甲基己基、5-甲基己基、2,4-二甲基戊基、正辛基、2-乙基己基、2,5-二甲基己基、2,5,5-三甲基戊基、2,4-二甲基己基、2,2,4-三甲基戊基、3,5,5-三甲基己基、正壬基、正癸基、4-乙基辛基、4-乙基-4,5-二甲基己基、正十一烷基、正十二烷基、1,3,5,7-四乙基辛基、4-丁基辛基、6,6-二乙基辛基、正十三烷基、6-甲基-4-丁基辛基、正十四烷基、正十五烷基、3,5-二甲基庚基、2,6-二甲基庚基、2,4-二甲基庚基、2,2,5,5-四甲基己基、1-環(huán)戊基-2,2-二甲基丙基、1-環(huán)己基-2,2-二甲基丙基、氯甲基、二氯甲基、氟甲基、三氟甲基、環(huán)氟乙基和九氟丁基；
取代和未取代的具有20或更少碳原子的烷氧基，如甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、異丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、正戊氧基、異戊氧基、新戊氧基、正己氧基、正十二烷氧基、甲氧基乙氧基、乙氧基乙氧基、3-甲氧基丙氧基和3-異丙氧基)丙氧基；取代和未取代的具有20或更少碳原子的鏈烯基，如乙烯基、丙烯基、1-丁烯基、異丁烯基、1-戊烯基、2-戊烯基、2-甲基-1-丁烯基、3-甲基-1-丁烯基、2-甲基-2-丁烯基、2,2-二氰基乙烯基、2-氰基-2-甲基羰基乙烯基和2-氰基-2-甲基-磺酰乙烯基；取代和未取代的具有20或更少碳原子的?；?，如甲?；⒁阴；?、乙基羰基、正丙基羰基、異丙基羰基、正丁基羰基、正戊基羰基、異戊基羰基、新戊基羰基、2-甲基丁基羰基和硝基芐基羰基；取代和未取代的具有20或更少碳原子的烷氧基羰基，如甲氧基羰基、乙氧基羰基、異丙基氧羰基和2,4-二甲基丁基氧羰基；和取代和未取代的具有20或更少碳原子的芳烷基，如芐基、硝基芐基、氰基芐基、羥基芐基、甲基芐基、二甲基芐基、三甲基芐基、二氯芐基、甲氧基芐基、乙氧基芐基、三氟甲基芐基、萘基甲基、硝基萘基甲基、氰基萘基甲基、羥基萘基甲基、甲基萘基甲基和三氟甲基萘基甲基；芳基；和上面提到的雜芳基。
R2-R8的典型例子包括氫原子；鹵原子，如氟、氯、溴和碘；和上面提到的烷基、烷氧基、鏈烯基、?；?、烷氧羰基、芳烷基、芳基和雜芳基。
在由式(2)代表的二吡咯甲烷金屬螯合物中，R11-R17各自獨(dú)立地為氫原子、鹵原子、硝基、氰基、羥基、氨基、羰基、磺酸基、或具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、烷硫基、芳氧基、芳硫基、鏈烯基、?；⑼檠趸驶?、氨基甲酰基、酰基氨基、芳烷基、芳基或雜芳基。這里R15和R16可互相結(jié)合形成可具有一個(gè)取代基或多個(gè)取代基的芳環(huán)。
鹵原子、烷基、烷氧基、鏈烯基、?；⑼檠趸驶?、芳烷基、芳基和雜芳基的例子包括上面提到的那些。
而且，由R11-R17代表的烷硫基的典型例子包括烷硫基，如甲硫基、乙硫基、正丙基硫基、異丙基硫基、正丁基硫基、異丁基硫基、仲丁基硫基、叔丁基硫基、正戊基硫基、異戊基硫基、2-甲基丁基硫基、1-甲基丁基硫基、新戊基硫基、1,2-二甲基丙基硫基和1,1-二甲基丙基硫基；由R11-R17代表的芳氧基的典型例子包括芳氧基，如苯氧基、2-甲基苯氧基、4-甲基苯氧基、4-叔丁基苯氧基、2-甲氧基苯氧基和4-異一丙基苯氧基；由R11-R17代表的芳硫基的典型例子包括芳硫基，如苯硫基、4-甲基苯硫基、2-甲氧基苯硫基和4-叔丁基苯硫基；由R11-R17代表的?；被牡湫屠影；被?，如乙酰基氨基、乙基羰基氨基、丁基羰基氨基、苯基羰基氨基、4-乙基苯基羰基氨基和3-丁基苯基羰基氨基；和由R11-R17代表的氨基甲?；牡湫屠影ㄍ榛被驶缂谆被驶?、乙基氨基羰基、正丙基氨基羰基、正丁基氨基羰基和正己基氨基羰基，和苯基氨基羰基，如苯基氨基碳基、4-甲基苯基氨基羰基、2-甲氧基苯基氨基羰基和4-正丙基苯基氨基羰基。
在式(3)代表的二吡咯甲烷金屬螯合物中，R19-R25各自獨(dú)立地為氫原子、鹵原子、硝基、氰基、羥基、氨基、羰基、磺酸基，或具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、烷硫基、芳氧基、芳硫基、鏈烯基、?；?、烷氧基羰基、氨基甲?；?、?；被蚍纪榛?。R18和R26各自獨(dú)立地為鏈烯基或芳基。其典型的例子包括上面提到的基團(tuán)。
在式(4)代表的二吡咯甲烷金屬螯合物中，R27-R35各自獨(dú)立地為氫原子、鹵原子，或具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、鏈烯基、酰基、烷氧基羰基、芳烷基、芳基或雜芳基。其典型的例子包括上面提到的基團(tuán)。
對(duì)M,M’和M”’的典型例子沒(méi)有特別的限定，只要它們是具有與二吡咯甲烷化合物形成螯合物能力的過(guò)渡金屬，但其實(shí)例包括周期表組8、9和10(組Ⅷ)，組11(組Ⅰb)、組12(組Ⅱb)，組3(組Ⅲa)，組4(組Ⅳa)，組5(組Ⅴa)，組6(組Ⅵa)和組7(組Ⅶa)的金屬。其優(yōu)選例子包括鎳、鈷、鐵、釕、銠、鈀、銅、鋨、銥、鉑和鋅，并且從耐光性角度來(lái)看，尤其優(yōu)選的實(shí)例包括銅和鈷。
對(duì)制備式(1)代表的二吡咯甲烷金屬螯合物的方法沒(méi)有限制，但例如，該化合物可根據(jù)描述在澳大利亞化學(xué)雜志vol.11,p.1835-45(1965)，雜原子化學(xué)，vol.1,No.5,p.389(1990)，美國(guó)專利號(hào)4,774,339和5,433,896中的任何方法來(lái)制備。通常，該上述二吡咯甲烷金屬螯合物可通過(guò)下面兩步驟反應(yīng)來(lái)制備。
在第一個(gè)步驟中，在適宜溶劑中，在存在酸性催化劑，如氫溴酸或氫氯酸時(shí)，使式(5)代表的化合物和式(6)代表的化合物，或式(7)代表的化合物和式(8)代表的化合物發(fā)生反應(yīng)，從而獲得式(9)代表的二吡咯甲烷化合物，接著，在第二步中，將式(9)的二吡咯甲烷化合物與金屬，如鎳、鈷、鐵、釕、銠、鈀、銅、鋨、銥、鉑或鋅的乙酸鹽或鹵化物反應(yīng)，獲得式(1)代表的二吡咯甲烷金屬螯合物。式(2)-(4)的每種化合物也可以類似方法通過(guò)適當(dāng)改變?nèi)〈鶃?lái)獲得
其中R1和R9如上所定義。
由本發(fā)明式(1)-(3)代表的二吡咯甲烷金屬螯合物優(yōu)選的典型例子包括分別具有表1-3所示取代基的化合物。
表1
表1(續(xù))
表1(續(xù))
表1(續(xù))
表1(續(xù))
表1(續(xù))
表1(續(xù))
表1(續(xù))
表1(續(xù))
表1(續(xù))
表2
表2(續(xù))
表2(續(xù))
表2(續(xù))
表2(續(xù))
表3
下文將描述本發(fā)明的具體結(jié)構(gòu)。
如圖1所示，本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)具有層狀結(jié)構(gòu)。也就是說(shuō)，在底物1上形成記錄層2，且反射層3緊密排列在其上。在該反射層3上，另一底物與借助一粘附層4進(jìn)一步粘著在其上。然而，在記錄層2下面或其上可形成另一層，或在反射層3上形成另一層。
用作底物的材料應(yīng)在記錄光和再現(xiàn)光波長(zhǎng)下基本上為透明的。例如，可使用聚合物材料，如聚碳酸酯樹(shù)脂、氯乙烯樹(shù)脂、丙烯酸樹(shù)脂，聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯樹(shù)脂或環(huán)氧樹(shù)脂，或無(wú)機(jī)材料，如玻璃。通過(guò)注壓等方法將底物材料模壓至盤狀底物中。如果需要，可在底物表面形成導(dǎo)槽或紋孔。在模壓底物時(shí)，按需要產(chǎn)生該導(dǎo)槽或紋孔，但它們可通過(guò)在底物上使用紫外線硬化樹(shù)脂層來(lái)提供。當(dāng)被用作DVD時(shí)，底物為具有約1.2mm厚度，約80-120mm直徑，并且通過(guò)其中心形成直徑為15mm的孔的盤。
在本發(fā)明中，在底物上形成記錄層，且本發(fā)明的記錄層包含至少一種由式(1)代表的二吡咯甲烷金屬螯合物。較優(yōu)選地，它進(jìn)一步包含至少一種由式(2)代表的二吡咯甲烷金屬螯合物，最優(yōu)選地，它進(jìn)一步包含至少一種式(3)代表的二吡咯甲烷金屬螯合物。尤其是，需要該記錄層在520nm-690nm中選擇的記錄和再現(xiàn)激光波長(zhǎng)下，具有適宜的光學(xué)常數(shù){光學(xué)常數(shù)用折射的復(fù)合指數(shù)來(lái)表示(n+ki)，其中n和K分別為對(duì)應(yīng)于實(shí)部n和虛部K的系數(shù)，并且這里，n和K分別被定義為折射率和消光系數(shù)}。
通常，有機(jī)染料特征在于折射率n和消光系數(shù)K很大程度上依賴于波長(zhǎng)λ。當(dāng)折射率n的值小于1.8時(shí)，不可能獲得信號(hào)精確讀數(shù)所必需的反射度和信號(hào)調(diào)制振幅，甚至如果消光系數(shù)K大于0.40時(shí)，反射度失準(zhǔn)，這樣不僅不能獲得良好的可再現(xiàn)信號(hào)，而且信號(hào)容易再現(xiàn)光而變化。因此，通常的有機(jī)染料不是切實(shí)可行的。根據(jù)上面特性，應(yīng)選擇在所希望的激光波長(zhǎng)下具有優(yōu)選的光學(xué)常數(shù)的特定的有機(jī)染料。當(dāng)該有機(jī)染料被選擇并被用來(lái)形成記錄層時(shí)，可獲得具有高反射度和良好敏感性的介質(zhì)。
可用于本發(fā)明的由式(Ⅰ)代表的二吡咯甲烷金屬螯合物具有上面優(yōu)選的光學(xué)常數(shù)，采用兩或多種二吡咯甲烷金屬螯合物用于記錄層使得容易選擇所希望的光學(xué)常數(shù)。
從實(shí)用的觀點(diǎn)來(lái)看，當(dāng)采用兩或多種二吡咯甲烷金屬螯合物時(shí)，這些二吡咯甲烷金屬螯合物的最大吸收波長(zhǎng)之間差異優(yōu)選為100nm或更少，較優(yōu)選60nm或更少。對(duì)于這些二吡咯甲烷金屬螯合物的混合比例沒(méi)有特別限制。但由于上述原因，優(yōu)選混合它們，這樣光學(xué)常數(shù)n可為2.0或更大，消光系數(shù)K在0.04-0.20范圍內(nèi)。
通常在520nm-690nm范圍中選擇的激光光線導(dǎo)致的本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)的再現(xiàn)可通常在20％的反射度時(shí)實(shí)現(xiàn)，且30％或更大的反射度是優(yōu)選的。
在形成記錄層之前，如果需要，上面的染料可與驟冷劑，分解促進(jìn)劑，紫外線吸收劑，粘合劑等混合，或具有這些效果的化合物可作為替代物被加入染料中。
驟冷劑典型的優(yōu)選例子包括乙酰丙酮、雙二硫酚，如雙二硫-α-二酮和雙苯基二硫酚、硫代兒茶酚、水楊醛肟和硫代雙酚鹽的金屬?gòu)?fù)合物。此外，胺也是適宜的。
分解促進(jìn)劑的例子包括金屬化合物，如金屬抗爆劑，金屬茂化合物和乙酰丙酮的金屬?gòu)?fù)合物。
而且，如果需要，粘合劑，均化劑和防沫劑可被一起使用。粘合劑的優(yōu)選例子包括聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、硝基纖維素、乙酸纖維素、酮樹(shù)脂、丙烯樹(shù)脂、聚苯乙烯樹(shù)脂、聚氨酯樹(shù)脂、聚乙烯醇縮丁醛、聚碳酸酯和聚烯烴。
相底物上形成記錄層之前，為了提高底物的溶劑阻力、反射度和記錄敏感性，可在底物上形成包含無(wú)機(jī)材料或聚合物的一層。
這里，在記錄層中的由式(1)-(3)代表的二吡咯甲烷金屬螯合物的含量為30％或更高，優(yōu)選60％或更高。順便說(shuō)說(shuō)，該含量實(shí)際上為100％也是優(yōu)選的。
形成記錄層方法的例子包括通過(guò)自旋涂布、噴霧、澆鑄和浸漬的涂布方法，噴鍍方法，化學(xué)蒸汽淀積法和真空蒸汽淀積法，但是通過(guò)自旋涂布的涂布方法簡(jiǎn)單，因而是優(yōu)選的。
在采用如自旋涂布法的涂布方法的情況下，可使用通過(guò)將式(1)-(3)代表的二吡咯甲烷金屬螯合物溶解或分散在溶劑中，以使在1-40％(重量計(jì))的范圍內(nèi)，優(yōu)選3-30％(重量計(jì))制備的涂布溶液，但在這種情況下，優(yōu)選選擇不損害底物的溶劑。該溶劑的例子包括醇溶劑，如甲醇、乙醇、異丙醇、八氟戊醇、烯丙醇、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑和四氟丙醇，脂族和脂環(huán)烴溶劑，如己烷、庚烷、辛烷、癸烷、環(huán)己烷、甲基環(huán)己烷、乙基環(huán)己烷和二甲基環(huán)己烷，芳香烴溶劑，如甲苯、二甲苯和苯，鹵代烴溶劑，如四氯化碳、氯仿、四氯乙烷和二溴乙烷，醚溶劑，如二乙基醚、二丁基醚、二異丙基醚和二噁烷，酮溶劑，如丙酮和3-羥基-3-甲基-2-丁酮，酯溶劑，如乙酸乙酯和乳酸甲酯和水?？蓡为?dú)使用它們，或以其混合物狀態(tài)使用。
如所需，用于記錄層的染料可被分散在聚合物薄膜中。
當(dāng)不能選擇不損害底物的溶劑時(shí)，任何噴鍍方法，化學(xué)蒸汽淀積法和真空蒸汽淀積法均是有效的。
對(duì)記錄層的厚度沒(méi)有特別的限制，但優(yōu)選在50nm-300nm的范圍內(nèi)。如果記錄層的厚度少于50nm，熱擴(kuò)散增加，這樣記錄不能完成，或在記錄信號(hào)上發(fā)生失真，且信號(hào)振幅減小。而且，如果記錄層的厚度大于300nm，反射度降低，這樣可重現(xiàn)信號(hào)特征衰退。
接著，在記錄層上形成具有優(yōu)選50nm-300nm厚度的反射層。用于反射層的材制在重現(xiàn)光波長(zhǎng)下具有足夠高的反射度。反射層材料的例子包括金屬，如Au,Al,Ag,Cu,Ti,Cr,Ni,Pt,Ta,Cr和Pd，它們可被單獨(dú)使用或以其合金形式使用。尤其是，Au,Al和Ag具有高的反射度，因此它們適宜用作反射層材料。此外，反射層可包含任何金屬和準(zhǔn)金屬，如Mg,Se,Hf,V,Nb,Ru,W,Mn,Re,Fe,Co,Rh,Ir,Zn,Cd,Ga,In,Si,Ge,Te,Pb,Po,Sn和Bi。而且，包括Au作為主要成分的材料是適宜的，因?yàn)樵摬牧鲜沟糜锌赡苋菀撰@得具有高反射度的反射層。這里，主要成分指該成分的含量大于50％。也可使用不為上面金屬的材料，例如，也可使用通過(guò)相間地層壓具有低折射率的薄膜和具有高折射率的薄膜而形成的多層膜作為反射層。
形成反射層方法的例子包括噴鍍法，離子鍍敷法，化學(xué)蒸汽淀積法和真空蒸汽淀積法。此外，在底物上或在反射層下，由于反射度，記錄特性和粘附性質(zhì)的改善的緣故，已知的無(wú)機(jī)或有機(jī)中間層或粘附層可被沉積下來(lái)。
而且，在反射層上形成一保護(hù)層，只要其可以保護(hù)反射層免于外力，對(duì)保護(hù)層材料沒(méi)有特別的限制。用于保護(hù)層的有機(jī)材料的例子包括熱塑性樹(shù)脂，熱固性樹(shù)脂，電子束可固化樹(shù)脂和紫外光可固化樹(shù)脂。而且，用于保護(hù)層的無(wú)機(jī)材料的例子包括SiO2,Si3N4,MgF2和SnO2。將熱塑性樹(shù)脂或熱固性樹(shù)脂溶解在適宜溶劑中，施用產(chǎn)生的涂布溶液，接著讓其干燥形成保護(hù)層?？芍苯舆\(yùn)用紫外光可固化樹(shù)脂，或可將它溶解在適宜溶劑中以制備涂布溶液，接著可施用該涂布溶液，然后用紫外光照射使其固化，從而形成保護(hù)層。紫外光可固化樹(shù)脂的例子包括丙烯酸樹(shù)脂，如聚氨酯丙烯酸，環(huán)氧丙烯酸和聚酯丙烯酸。這些材料可單獨(dú)使用或以其混合物形成使用，或它們可以單層或多層膜的形式使用。
形成保護(hù)層方法的實(shí)例包括通過(guò)自旋涂布和澆鑄的涂布方法，噴鍍法，化學(xué)蒸汽淀積法，但在為記錄層的情況下，尤其是自旋涂布法是優(yōu)選。
保護(hù)層的厚度通常在0.1μm-100μm范圍內(nèi)，但在本發(fā)明中，它優(yōu)選在3μm-30μm范圍內(nèi)，較優(yōu)選5μm-20μm。
在保護(hù)層上，可進(jìn)一步進(jìn)行印刷，如標(biāo)記。
另一方面，保護(hù)片或底物可被壓制在反射層上，或可使用一種方法，其中將反射層放置成互相面對(duì)，然后兩個(gè)光學(xué)記錄介質(zhì)可粘接在一起。
此外，在底物的鏡面上，可形成紫外光可固化樹(shù)脂，無(wú)機(jī)薄膜等以保護(hù)表面和防止灰塵沉積。
對(duì)本發(fā)明涉及的具有520nm-690nm波長(zhǎng)的激光沒(méi)有特別限制，但該激光的例子包括在寬的可見(jiàn)光范圍內(nèi)，允許波長(zhǎng)選擇的染料激光，具有633nm波長(zhǎng)的氦氖激光，具有約680nm和最近開(kāi)發(fā)的650和635nm波長(zhǎng)的高輸出半導(dǎo)體激光，和具有532nm波長(zhǎng)的諧振轉(zhuǎn)化YAG激光。在本發(fā)明中，在為選自這些激光的一種或多種波長(zhǎng)時(shí)，可實(shí)現(xiàn)高密度記錄和重現(xiàn)。
接下來(lái)將根據(jù)一些實(shí)施例描述本發(fā)明，但本發(fā)明的范圍絕不應(yīng)受這些實(shí)施例的限制。
實(shí)施例1將0.2g二吡咯甲烷金屬螯合物(1-4)溶解在10ml二甲基環(huán)己烷中以制備染料溶液。其中所用的底物由聚碳酸酯樹(shù)脂制成，具有連續(xù)的導(dǎo)槽(徑跡間距0.8μm),120mm的直徑，0.6mm的厚度，并為圓盤形。
以1500rpm的旋轉(zhuǎn)速度將該底物用染粒溶液自旋涂布，然后在70℃下干燥3小時(shí)以形成記錄層。關(guān)于該記錄層的光學(xué)常數(shù)，635nm下的n和K分別為2.3和0.11。
在該記錄層上，通過(guò)使用由Bulzars Co.,Ltd.制備的噴鍍?cè)O(shè)備(CDI-900)來(lái)噴鍍Au，從而形成具有100nm厚度的反射層。作為噴鍍氣體，可使用氬氣。關(guān)于噴鍍條件，噴鍍功率為2.5KW，噴鍍氣體壓力為1.0×10-2托。
此外，紫外光可固化粘合劑SD-301(由Dainippon Ink & Chemicals,Inc生產(chǎn))被自旋涂布在反射層上，在該粘合劑膜上，旋轉(zhuǎn)了一個(gè)由聚碳酸酯樹(shù)脂制成的，具有120mm直徑和0.6mm厚度的盤狀底物。此后，用紫外光照射以獲得粘著的光學(xué)記錄介質(zhì)。
在因此獲得的光學(xué)記錄介質(zhì)上，以3.8m/s的線速度和10mw的激光功率進(jìn)行記錄，這樣通過(guò)使用由PulstecIndustrial Co.,Ltd.生產(chǎn)的帶有半導(dǎo)體激光頭的光學(xué)盤評(píng)價(jià)設(shè)備(DDU-1000)，其中在635nm波長(zhǎng)下，透鏡的數(shù)字孔隙為0.6和由KENWOOD Co.,Ltd生產(chǎn)的EFM編碼器，最短的紋孔長(zhǎng)度可能為0.40μm。記錄后，通過(guò)帶有650nm和635nm紅色半導(dǎo)體激光頭(透鏡的數(shù)字孔隙為0.6)的評(píng)價(jià)設(shè)備重現(xiàn)信號(hào)，接著測(cè)定反射度，振動(dòng)和調(diào)制振幅。結(jié)果，這些值均優(yōu)良，在650nm重現(xiàn)的情況下，反射度為56％，振動(dòng)為8.5％，調(diào)制振幅為0.63。此外，甚至在用碳弧進(jìn)行耐光性試驗(yàn)100小時(shí)和80℃,85％RH時(shí)進(jìn)行的耐濕熱性試驗(yàn)后，沒(méi)有觀察到任何變化。而且，甚至當(dāng)在0.7mw重現(xiàn)光下，將重現(xiàn)過(guò)程重復(fù)上百萬(wàn)次時(shí)，振動(dòng)的變化為1％或更小。
實(shí)施例2通過(guò)如實(shí)施例1相同的方法制備的光學(xué)記錄介質(zhì)，除開(kāi)使用一個(gè)由聚碳酸酯樹(shù)脂制成的，具有連續(xù)導(dǎo)槽(徑跡間距0.74μm)，120nm直徑和0.6mm厚度的盤狀底物。
在由此獲得的光學(xué)記錄介質(zhì)上，用與實(shí)施例1相同的方法，通過(guò)使用由Pulstec Industrial Co.,Ltd.生產(chǎn)的光學(xué)盤評(píng)價(jià)設(shè)備(DDU-1000和KENWOODCo.,Ltd.生產(chǎn)的EFM編碼器進(jìn)行記錄。記錄后，用帶有650nm紅色半導(dǎo)體激光頭的評(píng)價(jià)設(shè)備重現(xiàn)信號(hào)，接著測(cè)定反射度，振動(dòng)和調(diào)制振幅。結(jié)果，這些值均為優(yōu)良，在650nm下重現(xiàn)的情況時(shí)，反射度為56％，振幅為8.6％，調(diào)制振幅為0.62。此外，甚至在用碳弧進(jìn)行耐光性試驗(yàn)100小時(shí)和80℃，85％RH時(shí)進(jìn)行的耐濕熱性試驗(yàn)后，沒(méi)有觀察到任何變化。而且，甚至當(dāng)在0.7mw重現(xiàn)光下，將重現(xiàn)過(guò)程重復(fù)上百萬(wàn)次時(shí)，振動(dòng)的變化為1％或更小。
實(shí)施例3-87通過(guò)如實(shí)施例1相同的方法制備光學(xué)記錄介質(zhì)，除開(kāi)使用如表1和2所示的各種二吡咯甲烷金屬螯合物，接著進(jìn)行記錄。記錄后，通過(guò)帶有650nm紅色半導(dǎo)體激光頭的評(píng)價(jià)設(shè)備重現(xiàn)信號(hào)，接著測(cè)定反射度，振動(dòng)和調(diào)制振幅。結(jié)果，這些值均為良好。此外，甚至在用碳弧進(jìn)行耐光性試驗(yàn)100小時(shí)和80℃,85％RH時(shí)進(jìn)行的耐濕熱性試驗(yàn)后，沒(méi)有觀察到任何變化。而且甚至當(dāng)在0.7mw重現(xiàn)光下，將重現(xiàn)過(guò)程重復(fù)上百萬(wàn)次時(shí)，振動(dòng)的變化為1％或更小。
在上面描述的實(shí)施例1-87中，在635nm下記錄各個(gè)光學(xué)記錄介質(zhì)并在650nm下重現(xiàn)的情況下，記錄層的光學(xué)常數(shù)以及反射度，振動(dòng)和調(diào)制振幅一起顯示在表4中。
表4
表4(續(xù))
表4(續(xù))
實(shí)施例88-106通過(guò)如實(shí)施例2相同的方法制備光學(xué)記錄介質(zhì)，除開(kāi)適當(dāng)混合并使用表1-3所示的二吡咯甲烷螯合物，接著進(jìn)行記錄。記錄后，通過(guò)帶有650nm紅色半導(dǎo)體激光頭的評(píng)價(jià)設(shè)備重現(xiàn)信號(hào)，然后測(cè)定反射度，振動(dòng)和調(diào)制振幅。結(jié)果，這些值均為優(yōu)良。此外，甚至在用碳弧進(jìn)行耐光性試驗(yàn)100小時(shí)和80℃,85％RH時(shí)進(jìn)行濕熱性試驗(yàn)后，沒(méi)有觀察到任何變化。而且，甚至當(dāng)在0.7mw重現(xiàn)光下，將重現(xiàn)過(guò)程上百萬(wàn)次時(shí)，振動(dòng)的變化為1％或更小。
比較實(shí)施例1通過(guò)如實(shí)施例1相同的方法制備光學(xué)記錄介質(zhì)，除開(kāi)將0.2g二吡咯甲烷金屬螯合物(2-43)溶解在10ml二甲基環(huán)己烷中，接著進(jìn)行自旋涂布。在由此獲得的光學(xué)記錄介質(zhì)上，以如實(shí)施1相同的方法，以3.8m/s線速度和10mw激光功率，通過(guò)使用由Pulstec Industrial Co.,Ltd.生產(chǎn)的帶有635nm半導(dǎo)體激光頭的光學(xué)盤評(píng)價(jià)設(shè)備(DDU-1000)和和由KENWOOD Co.,Ltd生產(chǎn)的EFM編碼器進(jìn)行記錄。記錄后，通過(guò)帶有650nm紅色半導(dǎo)體激光頭的評(píng)價(jià)設(shè)備來(lái)重現(xiàn)信號(hào)，然后測(cè)定反射度，振動(dòng)和調(diào)制振幅。結(jié)果，或650nm下的重現(xiàn)情況時(shí)，反射度為61％，振動(dòng)為20％或更大，調(diào)制振幅為0.64。因此振動(dòng)特性不佳。
比較實(shí)施例2用如實(shí)施例1相同的方法制備光學(xué)記錄介質(zhì)。除開(kāi)將0.2g二吡咯甲烷金屬螯合物(2-23)溶解在10ml二甲基環(huán)己烷中，接著進(jìn)行自旋涂布。在由此獲得的光學(xué)記錄介質(zhì)上，用如實(shí)施例1相同方法，以3.8m/s線速度和10mw激光功率，通過(guò)使用由Pulstec Industrial Co.,Ltd生產(chǎn)的帶有635nm半導(dǎo)體激光頭的光學(xué)盤評(píng)價(jià)設(shè)備(DDU-1000)和由KENWOOD Co.,Ltd生產(chǎn)的EFM編碼器進(jìn)行記錄。記錄后，通過(guò)帶有650nm和635nm紅色半導(dǎo)體激光頭的評(píng)價(jià)設(shè)備重現(xiàn)信號(hào)，然后測(cè)定反射度，振動(dòng)和調(diào)制振幅。結(jié)果，在650nm下的重現(xiàn)情況時(shí)，反射度為60％，振動(dòng)為20％或更大，調(diào)制振幅為0.65，在635nm下的重現(xiàn)情況時(shí)，反射度為61％，振動(dòng)為20％或更大，調(diào)制振幅為0.66。因此，振動(dòng)性質(zhì)不佳。此外，在用碳弧將耐光性試驗(yàn)進(jìn)行100小時(shí)后，信號(hào)衰變，這樣重現(xiàn)是不可能的。
比較實(shí)施例3用如實(shí)施例1相同的方法制備光學(xué)記錄介質(zhì)，除開(kāi)將1g由Nippon KankouShikiso Laboratory Co.,Ltd生產(chǎn)的五甲炔花青染料“NK-2929”[1,3,3,1’,3’,3’-六甲基-2’,2’-(4,5,4’,5’-二苯并)靛二羰花青高氯酸鹽溶解在10ml四氟丙醇中，接著進(jìn)行自旋涂布。在由此獲得的光學(xué)記錄介質(zhì)上，用如實(shí)施例1相同的方式，以3.8m/s線速度和10nw激光功率，通過(guò)使用由Pulstec Industrial Co.,Ltd.生產(chǎn)的帶有635nm半導(dǎo)體激光頭的光學(xué)盤評(píng)價(jià)設(shè)備(DDU-1000)和由KENWOOD Co.,Ltd.生產(chǎn)的EFM編碼器進(jìn)行記錄。記錄后，通過(guò)帶有650nm紅色半導(dǎo)體激光頭的評(píng)價(jià)設(shè)備重現(xiàn)信號(hào)，然后測(cè)定反射度，振動(dòng)和調(diào)制振幅。結(jié)果，在650nm下的重現(xiàn)情況時(shí)，反射度為9％，振動(dòng)為20％或更大，調(diào)制振幅為0.13。因此，這些值不佳。此外，在用碳弧將耐光性試驗(yàn)進(jìn)行100小時(shí)后，信號(hào)衰變，這樣重現(xiàn)是不可能的。
在上面描述的實(shí)施例88-106和比較實(shí)施例1-3中，在635nm下記錄各個(gè)光學(xué)記錄介質(zhì)在650nm下重現(xiàn)的情況時(shí)，記錄層的光學(xué)常數(shù)以及反射度，振動(dòng)和調(diào)制振幅均一起顯示在表5(實(shí)施例)和表6(比較實(shí)施例)中。在表5中，各混合比率指二吡咯甲烷金屬化合物的濃度相對(duì)于二甲基環(huán)己烷為20g/l的二吡咯甲烷金屬化合物的重量比。
表5
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表6
實(shí)施例107二吡咯甲烷金屬螯合物的合成(1-4)將1.35g2-甲?；?5-[(E)-苯基乙烯-1-基]吡咯和1.9g 1-甲酰基-3-(2,4-二異丙基苯基)異吲哚溶解在100ml乙醇中，接著滴加1.18g 47％氫溴酸，然后在室溫下攪拌3小時(shí)，在減壓濃縮后，用300ml氯仿進(jìn)行萃取，用水洗滌和分離后，將溶劑蒸餾出以獲得3.0g由下面結(jié)構(gòu)式(9-a)代表的化合物
接著，將1.4g化合物(9-a)溶解在200ml乙醇中，加入0.56g乙酸銅，在回流溫度下攪拌2小時(shí)。減壓濃縮后，過(guò)濾收集產(chǎn)生的沉淀，然后用甲醇和水洗滌，獲得1.2g由結(jié)構(gòu)式(1-4)代表的化合物
根據(jù)下面的分析結(jié)果證實(shí)由此獲得的化合物為所需化合物。
元素分析(C66H62N4Cu)CH N計(jì)算值(％) 81.326.415.75實(shí)測(cè)值(％) 81.826.615.69MS(m/e):975(M+)由此獲得的化合物在589nm，在甲苯溶液中顯示最大吸收，具有1.30×105ml/g.cm的Gram吸光系數(shù)。
實(shí)施例108二吡咯甲烷金屬螯合物的合成(1-58)將1.74g 2-甲酰-5-[(E)-4-叔丁基苯基乙烯-1-基]吡咯和1.9g 1-甲?；?3-(2,4-二異丙基苯基)-異吲哚溶解在100ml醇中，接著滴加1.18g 47％氫溴酸，隨后在室溫下攪拌3小時(shí)。減壓濃縮后，用300ml氯仿進(jìn)行萃取，用水洗滌和分離后，將溶劑蒸餾出來(lái)，獲得3.1g由下面結(jié)構(gòu)式(9-b)代表的化合物
接著，將1.57g化合物(9-b)溶解在200ml乙醇中，加入0.56g乙酸銅，在回流溫度下攪拌2小時(shí)。減壓濃縮后，通過(guò)過(guò)濾收集產(chǎn)生的沉淀，然后用甲醇和水洗滌，獲得1.5g由結(jié)構(gòu)式(1-58)代表的化合物
根據(jù)下面的分析結(jié)果證實(shí)由此獲得的化合物為所需化合物。
元素分析(C74H78N4Cu)CHN計(jì)算值(％)81.777.235.15實(shí)測(cè)值(％)81.487.465.22MS(m/e):1087(M+)由此獲得的化合物在588nm，在甲苯溶液中顯示最大吸收，具有1.15×105ml/g.cm的Gram吸光系數(shù)。
實(shí)施例109二吡咯甲烷金屬螯合物的合成(1-63)將1.74g 2-甲?；?3,4-二乙基-5-[(E)-苯基乙烯-1-基]吡咯和1.9g 1-甲酰基-3-(2,4-二異丙基苯基)-異吲哚溶解在100ml乙醇中，然后滴加1.18g 47％氫溴酸，室溫?cái)嚢?小時(shí)。減壓濃縮后，用300ml氯仿進(jìn)行萃取，用水洗滌并分離后，將溶劑蒸餾出來(lái)，獲得3.1克由下面結(jié)構(gòu)式(9-C)代表的化合物
接著，將1.57g化合物(9-C)溶解在200ml乙醇中，加入0.56g乙酸銅，回流溫度下攪拌2小時(shí)。減壓濃縮后，過(guò)濾收集產(chǎn)生的沉淀，接著用甲醇和水洗滌，獲得1.6克由結(jié)構(gòu)式(1-63)代表的化合物
根據(jù)下面的分析結(jié)果證實(shí)由此獲得的化合物為所需化合物。
元素分析(C74H78N4Cu)CH N計(jì)算值(％)81.777.235.15實(shí)測(cè)值(％)81.527.525.33MS(m/e):1087(M+)由此獲得的化合物在595nm下，在甲苯溶液中顯示最大吸收，具有1.05×105ml/g.cm的Gram吸光系數(shù)。
實(shí)施例110二吡咯甲烷金屬螯合物的合成(1-65)將1.4g式(9-a)代表的化合物溶解在100ml乙醇中，接著加入0.76g乙酸鈷四水合物，回流溫度下攪拌4小時(shí)。減壓濃縮后，過(guò)濾收集產(chǎn)生的沉淀，用甲醇和水洗滌，獲得1.3g由結(jié)構(gòu)式(1-65)代表的化合物
根據(jù)下面的分析結(jié)果證實(shí)由此獲得的化合物為所需化合物。
元素分析(C66H62N4Co)C H N計(jì)算值(％) 81.716.445.77實(shí)測(cè)值(％) 81.656.515.87MS(m/e):970(M+)由此獲得的化合物在575m下，在甲苯中顯示最大吸收，具有1.50×105ml/g.cm的Gram吸光系數(shù)。
實(shí)施例111二吡咯甲烷金屬螯合物的合成(1-69)
將1.39g 2-甲酰基-5-(2-噻吩基乙烯-1-基)吡咯和1.32g 1-甲?；?3-苯基異吲哚溶解在100ml乙醇中，接著滴加1.18g47％氫溴酸，室溫下攪拌3小時(shí)。減壓濃縮后，用300ml氯份進(jìn)行萃取，用水洗滌和分離后，將溶劑蒸餾出來(lái)，獲得2.6g由結(jié)構(gòu)式(9-d)代表的化合物
接著，將1.2g化合物(9-d)溶解在200ml乙醇中，加入0.56g乙酸酮，回流溫度下攪拌2小時(shí)。減壓濃縮后，過(guò)濾收集產(chǎn)生的沉淀，接著用甲醇和水洗滌，獲得1.1g由結(jié)構(gòu)式(1-69)代表的化合物
根據(jù)下面的分析結(jié)果證實(shí)由此獲得的化合物為所需化合物。
元素分析(C50H34N4S2Cu)C H N S計(jì)算值(％) 73.37 4.196.847.83實(shí)測(cè)值(％) 73.56 4.336.758.00MS(m/e):819(M+)由此獲得的化合物在602nm下，在甲苯中顯示最大吸收，具有1.57×105ml/g.cm的Gram吸光系數(shù)。
實(shí)施例112二吡咯甲烷金屬螯合物的合成(1-72)
將1.2g式(9-d)代表的化合物溶解在200ml乙醇中，加入0.56g乙酸鋅，回流溫度下攪拌5小時(shí)。減壓濃縮后，過(guò)濾收集產(chǎn)生的沉淀，接著用甲醇和水洗滌，獲得1.2g結(jié)構(gòu)式(1-72)代表的化合物
根據(jù)下面的分析結(jié)果證實(shí)由此獲得的化合物為所需化合物。
元素分析(C50H34N4S2Zn)C H N S計(jì)算值(％)73.21 4.186.837.82實(shí)測(cè)值(％)73.36 4.226.777.95MS(m/e):820(M+)由此獲得的化合物在597nm下，在甲苯溶液中顯示最大吸收，具有1.72×105ml/g.cm的Gram吸光系數(shù)。
權(quán)利要求
1．在底物上具有至少一記錄層和一反射層的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中在該記錄層中包含至少一種式(Ⅰ)代表的二吡咯甲烷金屬螯合物
其中R1和R9各自獨(dú)立地為鏈烯基、芳基或雜芳基；R2-R8各自獨(dú)立地為氫原子、鹵原子，具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、鏈烯基、?；⑼檠趸驶?、芳烷基、芳基或雜芳基；和M為過(guò)渡金屬。
2．根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中式(1)的R1為-CH=CH-R10，其中R10為氫原子，鹵原子，或具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、鏈烯基、酰基、烷氧基羰基、芳烷基、芳基或雜芳基。
3．根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中式(1)的R1為具有20或更少碳原子的取代或未取代的芳基或雜芳基，M為銅或鈷。
4．根據(jù)權(quán)利要求3的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中式(1)中的R1和R3為具有20或更少碳原子的同時(shí)取代或未取代的芳基或雜芳基。
5．根據(jù)權(quán)利要求4的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中式(1)中的R1,R3和R9為具有20或更少碳原子的取代或未取代的芳基，并且至少一個(gè)芳基被鹵素取代，或R2,R4-R8中至少一個(gè)為鹵原子。
6．根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中記錄層進(jìn)一步包含至少一種式(2)代表的另外的二吡咯甲烷金屬螯合物。
其中R11-R17各自獨(dú)立地為氫原子、鹵原子、硝基、氰基、羥基、氨基、羧基、磺酸基，或具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、烷硫基、芳氧基、芳硫基、鏈烯基、?；?、烷氧基羰基、氨基甲?；Ⅴ；被?、芳烷基、芳基或雜芳基，R15和R16可相互結(jié)合形成可具有一個(gè)取代基的芳環(huán)；和M’為過(guò)渡元素。
7．根據(jù)權(quán)利要求6的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中另外的二吡咯甲烷金屬螯合物選自由式(3)代表的化合物
其中R19-R25各自獨(dú)立地為氫原子、鹵原子、硝基、氰基、羥基、氨基、羧基、磺酸基，或具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、烷硫基、芳氧基、芳硫基、鏈烯基、?；⑼檠趸驶?、氨基甲?；?、酰基氨基或芳烷基；R18和R26各自獨(dú)立地為鏈烯基或芳基；和M”為銅或鈷。
8．根據(jù)權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中在520-690nm的激光波長(zhǎng)下，記錄層的折射率和消光系數(shù)分別為1.8或更大以及0.04-0.40。
9．根據(jù)權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)的光學(xué)記錄介質(zhì)，它可被在520-690nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)選擇的激光束記錄和重現(xiàn)。
10．式(4)代表的二吡咯甲烷金屬螯合物
其中R27-R35各自獨(dú)立地為氫原子，鹵原子，或具有20或更少碳原子的取代或未取代的烷基、烷氧基、鏈烯基、酰基、烷氧基羰基、芳烷基、芳基或雜芳基；和M為過(guò)渡元素。
全文摘要
本文公開(kāi)了在底物上具有至少一記錄層和反射層的新的光學(xué)記錄介質(zhì),其中在記錄層中包含至少一種式(1)代表的二吡咯甲烷金屬螯合物。其中R
文檔編號(hào)G11B7/258GK1218257SQ9812465
公開(kāi)日1999年6月2日 申請(qǐng)日期1998年9月17日 優(yōu)先權(quán)日1997年9月17日
發(fā)明者三澤伝美, 小木曾章, 西本泰三, 杉本賢一, 塚原宇, 溝上健二, 詫摩啟輔, 加藤健一, 政岡俊裕, 熊谷洋二郎 申請(qǐng)人:三井化學(xué)株式會(huì)社, 山本化成株式會(huì)社