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磁記錄頭的制造方法與流程

文檔序號:12274087閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種磁記錄頭的制造方法,該磁記錄頭具備:主磁極,其施加記錄磁場;寫入屏蔽件,其與所述主磁極夾著寫入間隙而相對;側(cè)屏蔽件,其在所述主磁極的寬度方向的橫側(cè)隔著側(cè)間隙而配置;以及微波振蕩器,其在所述寫入間隙內(nèi)設(shè)置于所述主磁極與寫入屏蔽件之間,該磁記錄頭的制造方法中,

以被覆于所述主磁極和側(cè)屏蔽件上且橫截所述側(cè)間隙的至少一部分的方式,形成微波振蕩器,

一邊監(jiān)測所述主磁極與側(cè)屏蔽件之間的電阻,一邊對所述主磁極、側(cè)屏蔽件及微波振蕩器在高度方向上進(jìn)行摩擦。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁記錄頭的制造方法,其中,

在所述電阻超過預(yù)定值的時間點或所述電阻超過預(yù)定值后經(jīng)過預(yù)定時間后,停止所述摩擦。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的磁記錄頭的制造方法,其中,

沿與所述主磁極的高度方向平行的方向形成所述微波振蕩器。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的磁記錄頭的制造方法,其中,

沿相對于所述主磁極的高度方向傾斜的方向形成所述微波振蕩器。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的磁記錄頭的制造方法,其中,

所述主磁極具有相對于該主磁極的高度方向傾斜延伸的側(cè)面,所述側(cè)屏蔽件具有隔著側(cè)間隙與所述側(cè)面相對的傾斜的側(cè)面,

以橫截傾斜的所述側(cè)間隙且被覆于所述主磁極和側(cè)屏蔽件上的方式,形成所述微波振蕩器。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的磁記錄頭的制造方法,其中,

所述微波振蕩器相對于所述主磁極的中心軸線向所述主磁極的寬度方向端側(cè)偏移而形成。

7.一種磁記錄頭的制造方法,該磁記錄頭具備:主磁極,其施加記錄磁場;寫入屏蔽件,其與所述主磁極夾著寫入間隙而相對;側(cè)屏蔽件,其 在所述主磁極的寬度方向的橫側(cè)隔著側(cè)間隙而配置;以及微波振蕩器,其在所述寫入間隙內(nèi)設(shè)置于所述主磁極與寫入屏蔽件之間,該磁記錄頭的制造方法中,

形成所述主磁極及側(cè)屏蔽件,

以被覆于所述主磁極和側(cè)屏蔽件上且橫截所述側(cè)間隙的至少一部分的方式,形成微波振蕩器,

與所述主磁極、側(cè)屏蔽件及微波振蕩器分別同時地形成監(jiān)測用的主磁極圖形、側(cè)屏蔽件圖形及微波振蕩器圖形,

一邊監(jiān)測所述主磁極圖形與側(cè)屏蔽件圖形之間的電阻,一邊對所述主磁極、側(cè)屏蔽件及微波振蕩器在高度方向上進(jìn)行摩擦。

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