專利名稱：用于光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的蓋子和具有所述蓋子的光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
下面的描述涉及ー種抑制殼體內(nèi)以高速旋轉(zhuǎn)的盤(pán)的顫動(dòng)的蓋子和包括所述蓋子的光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器。
背景技術(shù)：
在光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中，在高速旋轉(zhuǎn)的盤(pán)與遮蓋盤(pán)的頂蓋之間的小空間內(nèi)會(huì)產(chǎn)生強(qiáng)氣流。所述強(qiáng)氣流導(dǎo)致盤(pán)振動(dòng)，并且所述強(qiáng)氣流是基于盤(pán)的旋轉(zhuǎn)以復(fù)雜的方式產(chǎn)生的。換句話說(shuō)，空氣由于盤(pán)的表面上的科里奧利效應(yīng)以及邊界層處的粘性流動(dòng)效應(yīng)而以螺旋形狀流動(dòng)，并且空氣沿著頂蓋的內(nèi)表面向著盤(pán)的壓力降低的中部流動(dòng)?！?dǎo)致這種復(fù)雜氣流的盤(pán)旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生了盤(pán)與空氣之間的相互作用。例如,盤(pán)的運(yùn)動(dòng)改變空氣的流動(dòng)，被改變的空氣的流動(dòng)導(dǎo)致盤(pán)變形。這種相互作用隨著盤(pán)的速度的增加而增カロ。盤(pán)與空氣之間的相互作用導(dǎo)致盤(pán)顫動(dòng)。盤(pán)的顫動(dòng)使得盤(pán)的穩(wěn)定性惡化。嚴(yán)重的盤(pán)顫動(dòng)會(huì)使得不能訪問(wèn)盤(pán)(即，不能讀寫(xiě)數(shù)據(jù))。形成在頂蓋上的壓カ結(jié)構(gòu)增加了頂蓋的剛性，從而抑制了由于氣流導(dǎo)致的頂蓋的振動(dòng)。然而，所述壓カ結(jié)構(gòu)影響盤(pán)與頂蓋之間的小空間內(nèi)的氣流，因此需要對(duì)壓カ結(jié)構(gòu)進(jìn)行適當(dāng)設(shè)計(jì)。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)ー個(gè)總的方面，提供了一種用于光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的蓋子，所述蓋子包括蓋體，具有頂部，所述頂部被構(gòu)造為用于在盤(pán)被插入光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中的情況下遮蓋光盤(pán)；壓カ結(jié)構(gòu)，所述壓カ結(jié)構(gòu)形成在所述蓋體上并且具有非対稱形狀。所述蓋體可包括盤(pán)夾，所述盤(pán)夾與在盤(pán)被插入光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中時(shí)盤(pán)安裝于其上的主軸對(duì)應(yīng)。所述蓋體可包括與光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的主框架對(duì)應(yīng)的至少ー個(gè)側(cè)部，其中，所述壓カ結(jié)構(gòu)形成在所述蓋體的頂部上。所述壓カ結(jié)構(gòu)可在下面的至少ー個(gè)方向上具有對(duì)稱形狀(i)在盤(pán)被插入光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中的情況下，與盤(pán)平行的第一方向；(ii)與所述第一方向垂直的第二方向。所述壓カ結(jié)構(gòu)可在下面的至少ー個(gè)方向上具有對(duì)稱形狀(i)在盤(pán)被插入光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中的情況下，與盤(pán)平行的第一方向；(ii)與所述第一方向垂直的第二方向。所述壓カ結(jié)構(gòu)相對(duì)于另外的方向可具有非対稱形狀。所述壓カ結(jié)構(gòu)在所述蓋體的平面上可為四邊形。所述壓カ結(jié)構(gòu)可具有在盤(pán)被插入光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中的情況下向著盤(pán)凹陷的底表面，并且所述底表面在盤(pán)被插入光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中的情況下可向著盤(pán)的頂表面傾斜。所述底表面可以是平坦的。所述壓カ結(jié)構(gòu)可包括圍繞所述底表面形成的至少ー個(gè)側(cè)壁，所述至少一個(gè)側(cè)壁具有非対稱高度。所述底表面可以是平坦的。所述壓カ結(jié)構(gòu)可具有圍繞盤(pán)的中心部的非対稱形狀。根據(jù)另一方面，提供了一種用于光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的蓋子。所述蓋子包括蓋體，遮蓋安裝到光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的主軸上的盤(pán)，所述蓋體包括(i)頂部，包括與所述主軸對(duì)應(yīng)的盤(pán)夾，以及(ii)與光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的主框架對(duì)應(yīng)的側(cè)部，形成在所述頂部上的壓カ結(jié)構(gòu)，所述壓カ結(jié)構(gòu)相對(duì)于盤(pán)的中心部具有非対稱形狀，并且關(guān)于與盤(pán)平行的第一方向以及與所述第一方向垂直的第二方向中的至少ー個(gè)方向?yàn)閷?duì)稱形狀。
·
在所述蓋體的俯視圖中，所述壓カ結(jié)構(gòu)可為四邊形。所述壓カ結(jié)構(gòu)可具有向著盤(pán)凹陷的底表面，其中，所述底表面向著盤(pán)的頂表面傾斜。根據(jù)另一方面，提供了ー種光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器。所述光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器包括主框架，具有安裝到主框架上的(i)其上安裝盤(pán)的主軸電機(jī)以及(ii)光學(xué)拾取器；蓋子，與所述主框架可操作地結(jié)合。所述蓋子可包括遮蓋盤(pán)的所述蓋體以及形成在所述蓋體上并且具有非対稱形狀的壓カ結(jié)構(gòu)。所述蓋體可包括與所述主軸對(duì)應(yīng)的盤(pán)夾。所述蓋體可包括壓カ結(jié)構(gòu)形成在其上的頂部，以及與所述主框架的側(cè)面對(duì)應(yīng)的側(cè)部。所述壓カ結(jié)構(gòu)可包括關(guān)于與盤(pán)平行的第一方向以及與所述第一方向垂直的第二方向中的至少ー個(gè)方向的對(duì)稱形狀。所述壓カ結(jié)構(gòu)可包括向著盤(pán)凹陷的底表面，所述底表面向著盤(pán)的頂表面傾斜。所述壓カ結(jié)構(gòu)可包括圍繞所述底表面形成的至少ー個(gè)側(cè)壁，所述至少一個(gè)側(cè)壁具有非対稱高度。所述底表面可以是平坦的。所述壓カ結(jié)構(gòu)可包括向著盤(pán)凹陷的底表面，所述底表面可向著盤(pán)的頂表面傾斜。所述壓カ結(jié)構(gòu)可包括圍繞所述底表面形成的至少ー個(gè)側(cè)壁，所述至少一個(gè)側(cè)壁具有非対稱高度。所述底表面可以是平坦的。根據(jù)另一方面，提供了一種用于光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的蓋子，所述蓋子包括蓋體，具有頂部，所述頂部被構(gòu)造為在盤(pán)被插入光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中的情況下遮蓋盤(pán)；壓カ結(jié)構(gòu)，形成在所述蓋體上。所述壓カ結(jié)構(gòu)被構(gòu)造為使得盤(pán)的頂表面與蓋子的底表面之間的距離在盤(pán)的頂表面的相對(duì)的側(cè)部中的至少ー對(duì)相對(duì)的側(cè)部之間不同。通過(guò)下面的詳細(xì)描述、附圖以及權(quán)利要求，其他特征和多個(gè)方面可顯而易見(jiàn)。


圖I是示出減小包括所述蓋子的光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中的盤(pán)的顫動(dòng)的蓋子的示例的示圖。圖2是示出用于光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的蓋子的示例的示圖。圖3是沿圖2的A-A線截取的截面圖的示例的示圖。圖4是示出減小光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中的盤(pán)的顫動(dòng)的蓋子的示例的示圖。
圖5是示出用于光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的蓋子的示例的示圖。圖6、圖7、圖8是示出分別由兩種傳統(tǒng)蓋子和例如圖I中示出的蓋子引起的盤(pán)的頂表面上的壓カ分布的示例的示圖。圖9是示出分別在兩種傳統(tǒng)蓋子和根據(jù)本發(fā)明的一方面(例如圖I中示出)的蓋子的頂表面與底表面之間的壓力差的曲線圖。在整個(gè)附圖和詳細(xì)描述中，除非另有描述，否則相同的附圖標(biāo)記應(yīng)該被理解為指示相同的元件、特征和結(jié)構(gòu)。為了清楚、圖示和方便，可能夸大這些元件的相對(duì)尺寸和繪示。
具體實(shí)施例方式提供下面的詳細(xì)描述，以幫助讀者獲得對(duì)這里描述的方法、設(shè)備和/或系統(tǒng)的全面的理解。因此，對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，本發(fā)明給出了對(duì)這里描述的所述系統(tǒng)、裝置·和/或方法可以做出各種改變、變形和等同替換的教導(dǎo)。此外，為了更加清楚和簡(jiǎn)明，可省略對(duì)公知功能和構(gòu)造的詳細(xì)描述。圖I是蓋子20的示例的分解透視圖，所述蓋子20被構(gòu)造為用于減小包括蓋子20的光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器內(nèi)裝載的盤(pán)的顫動(dòng)。參照?qǐng)DI，光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器包括蓋體10和遮蓋蓋體10的蓋子20。蓋體10包括支撐光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的整個(gè)結(jié)構(gòu)的主框架11。例如，主框架11支撐托盤(pán)12和主軸14，所述托盤(pán)12被構(gòu)造為用于容納盤(pán)I (例如，⑶、DVD、BD等)，以將盤(pán)I傳送到主框架11中以及從主框架11中傳送出來(lái)，如果盤(pán)I被傳送到主框架11中，則盤(pán)I安裝在主軸14上。主框架11還支撐光學(xué)拾取器13以及光學(xué)拾取器13的傳送單元15。光學(xué)拾取器13相對(duì)于安裝到主軸14上的盤(pán)I的記錄表面定位。傳送單元15用于傳送光學(xué)拾取器13。例如，傳送單元15可隨著光學(xué)拾取器從盤(pán)I的記錄表面讀取數(shù)據(jù)/將數(shù)據(jù)寫(xiě)到盤(pán)I的記錄表面而傳送光學(xué)拾取器13。同時(shí)，遮蓋所述蓋體10的蓋子20的蓋體包括頂部21和至少兩個(gè)側(cè)部22，頂部21與主框架11的頂部或盤(pán)I的頂表面對(duì)應(yīng)，所述至少兩個(gè)側(cè)部22分別與主框架11的至少兩側(cè)對(duì)應(yīng)。頂部21具有形成在其上的壓カ結(jié)構(gòu)23。所述壓カ結(jié)構(gòu)23可被構(gòu)造為用于減小高速運(yùn)行期間盤(pán)的顫動(dòng)。作為例子，壓カ結(jié)構(gòu)23可被形成為包括形成在頂部21中的至少ー個(gè)突起。換句話說(shuō)，壓カ結(jié)構(gòu)23可包括相對(duì)于頂部21的其他區(qū)域向著主框架11以近似四邊形的形狀凹陷的部分。壓カ結(jié)構(gòu)23的向著主框架11凹陷的部分可近似為四邊形。壓カ結(jié)構(gòu)23被制備在頂部21上。作為例子，壓カ結(jié)構(gòu)23可包括其中安裝盤(pán)夾30的卡槽24。盤(pán)夾30可被可旋轉(zhuǎn)地安裝在卡槽24中。作為例子，卡槽24可形成在壓カ結(jié)構(gòu)23的中部。壓カ結(jié)構(gòu)23具有底表面231，所述底表面231為從所述壓カ結(jié)構(gòu)23向著盤(pán)的頂表面突出的部分。作為例子，壓カ結(jié)構(gòu)23的底表面231可被形成為不與盤(pán)I的頂表面平行。換句話說(shuō)，底表面231可向著盤(pán)I的頂表面傾斜。底表面231的邊緣可為四邊形。例如，壓カ結(jié)構(gòu)23的底表面231從頂部21向下凹陷并且是平坦的。壓カ結(jié)構(gòu)23包括側(cè)壁232。側(cè)壁232可限定壓カ結(jié)構(gòu)。例如，側(cè)壁232可限定底表面231的邊界。側(cè)壁232的底部邊緣可在側(cè)壁232與傾斜的底表面231的邊相接合的部分傾斜。壓カ結(jié)構(gòu)23還可包括從底表面231突出出來(lái)的凸起單元233。凸起單元233可在其中部為圓環(huán)形。作為示例，底表面231整體是平坦的。底表面231可具有變化的高度，與盤(pán)I的頂表面的高度不同。例如，底表面231可基于傾斜的底表面231相對(duì)于盤(pán)I的頂表面具有變化的高度。因此，如圖2中所示，圍繞底表面231的側(cè)壁232包括第一側(cè)壁232a、第二側(cè)壁232b、第三側(cè)壁232c、第四側(cè)壁232d。作為示例，第一側(cè)壁232a和第三側(cè)壁232c的高度總體上互不相同，第二側(cè)壁232b和第四側(cè)壁232d的高度以斜坡方式從第一側(cè)壁232a向著第三側(cè)壁232c逐漸增加。圖3是示出沿著圖2的A-A線截取的截面圖的示例的示圖。例如，圖3示出了盤(pán)I和蓋子20的底表面231之間的關(guān)系。如圖3中所示，在附圖的左側(cè)，距離盤(pán)I的頂表面最遠(yuǎn)的底表面231與盤(pán)I之間的間隙是t2，在附圖的右側(cè)，底表面231與盤(pán)I之間的間隙是tl。在本示例中，t2大于tl。這種高度差導(dǎo)致盤(pán)I的頂表面上的局部壓カ差。例如，當(dāng)通過(guò)盤(pán)夾30被安裝到心軸14中的盤(pán)I高速旋轉(zhuǎn)吋，隨著盤(pán)I旋轉(zhuǎn)，所述高度差導(dǎo)致盤(pán)I的頂表面上的局部壓カ差。盤(pán)I的頂表面上的壓カ至少部分地基于壓カ結(jié)構(gòu)23的底表面231的深度或高度而不同。在壓カ結(jié)構(gòu)的俯視圖中，壓カ結(jié)構(gòu)可在ー個(gè)方向或兩個(gè)方向上為對(duì)稱形狀。圖4是示出了蓋子20的示例的示圖。參照?qǐng)D4,作為示例,在圖4中示出的整個(gè)俯視圖內(nèi)當(dāng)壓カ結(jié)構(gòu)23關(guān)于左和右(X-X')方向以及頂部和底部(デ-y)方向)具有近似對(duì)稱形狀吋，·會(huì)施加局部壓カ差。作為另ー個(gè)不例，壓カ結(jié)構(gòu)23可僅關(guān)于左右方向或頂部與底部方向?yàn)榻茖?duì)稱形狀。圖5示出了基于頂部和底部(デ-y)方向的邊界線關(guān)于左右方向近似對(duì)稱的壓カ結(jié)構(gòu)23'。參照?qǐng)D5，壓カ結(jié)構(gòu)23'具有第一至第四側(cè)壁232a'、232b'、232ど和232d/。這里，第一側(cè)壁232a'、第三側(cè)壁232c'和第四側(cè)壁232d'分別對(duì)應(yīng)于第一側(cè)壁232a、第三側(cè)壁232c和第四側(cè)壁232d。第二側(cè)壁232b'可為彎曲弧形(或弧形)。參照?qǐng)D4和圖5，第二側(cè)壁232b'對(duì)應(yīng)于上面描述的側(cè)壁232b。因此，圖5示出了可僅在ー個(gè)方向上具有近似對(duì)稱形狀的壓カ結(jié)構(gòu)23'。作為示例，壓カ結(jié)構(gòu)23的底表面231可具有足以覆蓋盤(pán)I的頂表面的尺寸。在另ー示例中，圖4中的側(cè)壁232a、232b、232c和232d以及圖5中的側(cè)壁232a'、232b'、232ど和232(1'可不相對(duì)于底表面231傾斜，而是垂直于底表面231。在這種情況下，在壓カ結(jié)構(gòu)的平面圖中，側(cè)壁232的投影可以為關(guān)于x-x'和/或
1-1'的對(duì)稱形狀，并且底表面231可關(guān)于盤(pán)的中心對(duì)稱。如上所述，壓カ結(jié)構(gòu)23或23'的底表面231相對(duì)于盤(pán)I的頂表面傾斜，從而使盤(pán)I的頂表面上的壓カ局部地出現(xiàn)差別。在傳統(tǒng)技術(shù)中，壓カ結(jié)構(gòu)(例如，蓋子)的底表面和盤(pán)之間的間隙在盤(pán)I的整個(gè)頂表面上是不變的。然而，盤(pán)會(huì)由于這種不變的間隙而顫動(dòng)或振動(dòng)。光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器通過(guò)以頻率為從30Hz到230Hz的各種旋轉(zhuǎn)速度中的至少ー種旋轉(zhuǎn)速度來(lái)使盤(pán)旋轉(zhuǎn)，以將數(shù)據(jù)記錄或?qū)懭氲奖P(pán)。然而，這種大范圍內(nèi)的運(yùn)行在記錄或再現(xiàn)數(shù)據(jù)時(shí)導(dǎo)致盤(pán)共振現(xiàn)象。更具體地，在特定旋轉(zhuǎn)速度會(huì)產(chǎn)生異常的盤(pán)共振現(xiàn)象。這種異常的盤(pán)共振使得難以記錄或再現(xiàn)數(shù)據(jù)。這種異常的盤(pán)共振現(xiàn)象通常在半高(HH)型高速光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中產(chǎn)生。引入壓カ結(jié)構(gòu)以抑制在盤(pán)高速旋轉(zhuǎn)的運(yùn)行過(guò)程中的盤(pán)顫抖。然而，如果壓カ結(jié)構(gòu)或蓋子的底表面與盤(pán)的頂表面之間的間隙總體上保持不變，則盤(pán)和蓋子之間的間隙整體上窄了壓力結(jié)構(gòu)的高度或深度那么多。如果壓カ結(jié)構(gòu)的底表面與盤(pán)的頂表面之間的間隙總體上不變，則沿著蓋子的內(nèi)表面引入到盤(pán)的中部的空氣受到限制，從盤(pán)的中部流向盤(pán)的外圍部分的空氣的流動(dòng)速率増加。因此，盤(pán)的頂表面上的壓強(qiáng)低于蓋子的內(nèi)表面上的壓強(qiáng)。這種壓強(qiáng)減小使得被高速驅(qū)動(dòng)的盤(pán)的顫動(dòng)減小，但是，因?yàn)楸P(pán)與蓋子之間的較窄的空間，與在使用沒(méi)有壓カ結(jié)構(gòu)的蓋子的情形相比，會(huì)使得被低速驅(qū)動(dòng)的盤(pán)的顫動(dòng)增加。然而，利用包括傾斜底表面的壓カ結(jié)構(gòu)(例如，具有非対稱形狀的壓カ結(jié)構(gòu))來(lái)在盤(pán)的頂表面上產(chǎn)生壓強(qiáng)差，可抑制在高速運(yùn)行過(guò)程中產(chǎn)生的盤(pán)的顫動(dòng)。此外，這種壓カ結(jié)構(gòu)可抑制在盤(pán)的低速運(yùn)行過(guò)程中隨著盤(pán)的旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的盤(pán)振動(dòng)。例如，參照?qǐng)D3，形成在蓋子20的頂部21上的壓カ結(jié)構(gòu)23的底表面231使得氣流在盤(pán)I的頂表面的左側(cè)和右側(cè)產(chǎn)生不同的作用。這種由氣流產(chǎn)生的在盤(pán)的頂表面上的左側(cè)區(qū)域和右側(cè)區(qū)域上的不同作用減小了盤(pán)I在低速運(yùn)行和高速運(yùn)行時(shí)產(chǎn)生的共振以及顫動(dòng)。壓カ結(jié)構(gòu)23 (尤其是壓カ結(jié)構(gòu)23的底表面231)阻礙了底表面231的內(nèi)側(cè)和外側(cè)之間的氣體流動(dòng)，并擠壓盤(pán)I。例如，底表面231的深度可以是左側(cè)2mm以及右側(cè)4mm。換句話說(shuō)，第ー側(cè)壁232a的深度可以是2mm，第三側(cè)壁232c的深度可以是4mm。如上所述，空氣由于盤(pán)在光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中旋轉(zhuǎn)時(shí)盤(pán)的旋轉(zhuǎn)而流動(dòng)?；诒P(pán)的旋轉(zhuǎn)，空氣從盤(pán)的內(nèi)周界(中部)向著外周界(外周部分)以螺旋形狀旋轉(zhuǎn)。因此，空氣在穿過(guò)盤(pán)·的不同部分時(shí)對(duì)盤(pán)施加不同的壓力。換句話說(shuō)，蓋子20與盤(pán)的頂表面之間的氣壓在盤(pán)的整個(gè)表面上是變化的。為了理解這種氣流，基于正態(tài)的壓カ分布來(lái)分析所述氣流。圖6至圖8是示出盤(pán)的頂表面上的壓カ分布的曲線圖。圖6示出了在具有如下所述的傳統(tǒng)蓋子(傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)I)的光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中的盤(pán)的頂表面上的壓カ分布，所述傳統(tǒng)蓋子包括無(wú)壓カ結(jié)構(gòu)的平坦頂部。圖7示出了在具有傳統(tǒng)蓋子(傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)2)的光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中的盤(pán)的頂表面上的壓力分布，所述傳統(tǒng)蓋子包括具有相同深度或高度的壓カ結(jié)構(gòu)。圖8示出了在具有包括具有不同或變化的深度或高度的壓カ結(jié)構(gòu)的蓋子的光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中的盤(pán)的頂表面上的壓カ分布。參照?qǐng)D6至圖8中的盤(pán)的中心部的壓カ分布，表示低壓的黑色區(qū)域在圖6的傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)I中是最小的，因此在圖6中的傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)I中,在盤(pán)的中心部和外圍部分之間的中間部分的壓強(qiáng)比使用壓カ結(jié)構(gòu)的圖7中示出的傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)2和使用壓カ結(jié)構(gòu)的圖8的一方面中的壓強(qiáng)高。同時(shí)，在使用具有相同高度的壓カ結(jié)構(gòu)的圖7的傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)2中，中心部的壓強(qiáng)是最低的。與圖6的傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)I和圖7的傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)2的壓カ分布相比，圖8中示出的本發(fā)明的一方面(具有壓カ結(jié)構(gòu)，所述壓カ結(jié)構(gòu)具有不同高度)的壓カ分布是居中的壓カ分布。換句話說(shuō)，根據(jù)本發(fā)明的一方面的壓カ分布在盤(pán)的頂表面的中心部的壓強(qiáng)大于傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)2中的盤(pán)的中心部的壓強(qiáng)，低于傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)I中的盤(pán)的中心部的壓強(qiáng)。從盤(pán)的內(nèi)周界向著外周界或者從盤(pán)的外周界向著內(nèi)周界流動(dòng)的空氣受到所述壓カ結(jié)構(gòu)的限制，因此，氣流在內(nèi)周界使壓強(qiáng)降低并在外周界上使壓強(qiáng)升高。因此，所述壓カ結(jié)構(gòu)抑制了由于在盤(pán)高速旋轉(zhuǎn)時(shí)在盤(pán)和空氣之間的相互作用而產(chǎn)生的盤(pán)的顫動(dòng)。基于圖9中的曲線圖清楚說(shuō)明了圖6至圖8的壓カ分布。例如，圖9示出了根據(jù)蓋子或壓カ結(jié)構(gòu)的形狀且根據(jù)盤(pán)的位置的盤(pán)的頂表面和底表面之間的壓力差。在圖9中，#1表示具有傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)I (所述傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)I不具有壓カ結(jié)構(gòu))的蓋子的光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器，#2表示具有傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)2 (所述傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)2包括具有相同高度的四邊形壓カ結(jié)構(gòu))的蓋子的光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器，#3表示包括根據(jù)本發(fā)明的一方面的蓋子的光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器。如果盤(pán)的中心部上的頂表面和底表面之間的壓力差越高，則盤(pán)的顫動(dòng)越小。因?yàn)轭潉?dòng)是由于盤(pán)與空氣之間的相互作用而產(chǎn)生的，因此，通過(guò)減小這種相互作用來(lái)減小顫動(dòng)。由于頂表面上的壓カ低，因此在盤(pán)的中心部的頂表面和底表面之間產(chǎn)生高壓カ差。因此，頂表面上的空氣密度使得由于盤(pán)和空氣之間的相互作用而產(chǎn)生的顫動(dòng)減小。然而，為了減小盤(pán)的共振，施加到盤(pán)的頂表面和底表面的壓カ整體上可以是不變的，因?yàn)楣舱駮?huì)導(dǎo)致盤(pán)變形。因此，可使用在盤(pán)的整個(gè)區(qū)域上產(chǎn)生小的壓カ差的根據(jù)本發(fā)明的一方面(例如，示出為圖9中的#3)的光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的蓋子。這種蓋子可用作減小盤(pán)變形的空氣阻尼器。因此，為了適當(dāng)?shù)靥幚肀P(pán)的顫動(dòng)和諧振，盤(pán)需要具有穩(wěn)定的壓力分布。由于根據(jù)本發(fā)明一方面的光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的蓋子限制了在盤(pán)的ー側(cè)的空氣流動(dòng)，并有助于盤(pán)的另ー側(cè)的空氣流動(dòng)，因此所述蓋子對(duì)于高速運(yùn)行和低速運(yùn)行均優(yōu)化了盤(pán)的壓力分布。下面的表I示出了根據(jù)傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)I和傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)2以及根據(jù)這里描述的ー個(gè)示例的實(shí)施例結(jié)構(gòu)的蓋子(例如，圖2中示出的蓋子)的盤(pán)的變形大小。表I·
權(quán)利要求
1.一種用于光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的蓋子，所述蓋子包括 蓋體，具有頂部，所述頂部被構(gòu)造為用于在盤(pán)被插入光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中的情況下遮蓋光盤(pán)； 壓力結(jié)構(gòu)，所述壓力結(jié)構(gòu)形成在所述蓋體上并且相對(duì)于盤(pán)的中心為非對(duì)稱形狀。
2.如權(quán)利要求I所述的蓋子，其中，所述蓋體包括盤(pán)夾，所述盤(pán)夾與在盤(pán)被插入光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中時(shí)其上安裝盤(pán)的主軸對(duì)應(yīng)。
3.如權(quán)利要求I所述的蓋子，其中，所述蓋體包括與光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的主框架對(duì)應(yīng)的至少一個(gè)側(cè)部，其中，所述壓力結(jié)構(gòu)形成在所述蓋體的頂部上。
4.如權(quán)利要求I所述的蓋子，其中，所述壓力結(jié)構(gòu)關(guān)于下面的至少一個(gè)方向?yàn)閷?duì)稱形狀 (i)在盤(pán)插入光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中的情況下與盤(pán)平行的第一方向； ( )與所述第一方向垂直且與盤(pán)平行的第二方向。
5.如權(quán)利要求I所述的蓋子，其中，所述壓力結(jié)構(gòu)關(guān)于下面的至少一個(gè)方向?yàn)閷?duì)稱形狀 (i)在盤(pán)被插入光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中的情況下與盤(pán)平行的第一方向； ( )與所述第一方向垂直且與盤(pán)平行的第二方向， 所述壓力結(jié)構(gòu)相對(duì)于第一方向和第二方向中的其他方向具有非對(duì)稱形狀。
6.如權(quán)利要求I所述的蓋子，其中，在所述蓋體的俯視圖中，所述壓力結(jié)構(gòu)為四邊形。
7.如權(quán)利要求I所述的蓋子，其中，所述壓力結(jié)構(gòu)具有在盤(pán)被插入光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中的情況下向著盤(pán)凹陷的底表面，并且所述底表面在盤(pán)被插入光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中的情況下向著盤(pán)的頂表面傾斜。
8.如權(quán)利要求7所述的蓋子，其中，所述底表面是平坦的。
9.如權(quán)利要求7所述的蓋子，其中，所述壓力結(jié)構(gòu)包括圍繞所述底表面形成的至少一個(gè)側(cè)壁，所述至少一個(gè)側(cè)壁具有非對(duì)稱高度， 其中，所述底表面是平坦的。
10.如權(quán)利要求I所述的蓋子，其中，相對(duì)于盤(pán)的頂表面所述壓力結(jié)構(gòu)的底部具有變化的高度。
11.一種用于光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的蓋子，所述蓋子包括 蓋體，遮蓋安裝到光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的主軸上的盤(pán)，所述蓋體包括頂部，包括與所述主軸對(duì)應(yīng)的盤(pán)夾，以及與光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的主框架對(duì)應(yīng)的側(cè)部， 形成在所述頂部上的壓力結(jié)構(gòu)，所述壓力結(jié)構(gòu)相對(duì)于盤(pán)的中心部為非對(duì)稱形狀，并且關(guān)于與盤(pán)平行的第一方向以及與所述第一方向垂直且與盤(pán)平行的第二方向中的至少一個(gè)方向?yàn)閷?duì)稱形狀。
12.如權(quán)利要求11所述的蓋子，其中，在所述蓋體的俯視圖中，所述壓力結(jié)構(gòu)為四邊形。
13.如權(quán)利要求11所述的蓋子，其中，所述壓力結(jié)構(gòu)具有向著盤(pán)凹陷的底表面，其中，所述底表面向著盤(pán)的頂表面傾斜。
14.如權(quán)利要求11所述的蓋子，其中，相對(duì)于盤(pán)的頂表面所述壓力結(jié)構(gòu)的底部具有變化的高度。
15.—種光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器,包括 主框架，具有安裝在主框架上的主軸電機(jī)以及光學(xué)拾取器，其中，盤(pán)安裝在所述主軸電機(jī)上； 蓋子，與所述主框架可操作地結(jié)合， 其中，所述蓋子包括遮蓋盤(pán)的所述蓋體以及形成在所述蓋體上并且相對(duì)于盤(pán)的中心為非對(duì)稱形狀的壓力結(jié)構(gòu)。
16.如權(quán)利要求15所述的光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器，其中，所述蓋體包括與所述主軸對(duì)應(yīng)的盤(pán)夾。
17.如權(quán)利要求15所述的光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器，其中，所述蓋體包括頂部，以及與所述主框架的側(cè)面對(duì)應(yīng)的側(cè)部，壓力結(jié)構(gòu)形成在所述頂部上。
18.如權(quán)利要求15所述的光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器，其中，所述壓力結(jié)構(gòu)關(guān)于與盤(pán)平行的第一方向以及與所述第一方向垂直且與盤(pán)平行的第二方向中的至少一個(gè)方向?yàn)閷?duì)稱形狀。
19.如權(quán)利要求15所述的光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器，其中，所述壓力結(jié)構(gòu)具有向著盤(pán)凹陷的底表面，所述底表面向著盤(pán)的頂表面傾斜。
20.如權(quán)利要求16所述的光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器，其中，所述壓力結(jié)構(gòu)具有向著盤(pán)凹陷的底表面，所述底表面向著盤(pán)的頂表面傾斜。
21.如權(quán)利要求19或20所述的光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器，其中，所述壓力結(jié)構(gòu)包括圍繞所述底表面形成的至少一個(gè)側(cè)壁，所述至少一個(gè)側(cè)壁具有非對(duì)稱高度， 其中，所述底表面是平坦的。
22.如權(quán)利要求15所述的光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器，其中，所述壓力結(jié)構(gòu)關(guān)于盤(pán)的中心部為非對(duì)稱形狀。
23.一種用于光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的蓋子，所述蓋子包括 蓋體，具有頂部，所述頂部被構(gòu)造為在盤(pán)被插入光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中的情況下遮蓋盤(pán)； 壓力結(jié)構(gòu)，形成在所述蓋體上， 其中，所述壓力結(jié)構(gòu)被構(gòu)造為使得盤(pán)的頂表面與蓋子的底表面之間的距離在盤(pán)的頂表面的至少一對(duì)相對(duì)的側(cè)部之間不同。
全文摘要
一種用于光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的蓋子。所述蓋子包括蓋體，具有頂部，所述頂部被構(gòu)造為用于在盤(pán)被插入光盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中的情況下遮蓋光盤(pán)；壓力結(jié)構(gòu)，所述壓力結(jié)構(gòu)形成在所述蓋體上并且具有非對(duì)稱形狀。
文檔編號(hào)G11B17/04GK102789793SQ201210142569
公開(kāi)日2012年11月21日 申請(qǐng)日期2012年5月9日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月20日
發(fā)明者盧珉植, 樸柄燁, 河旼奭, 鄭東河, 鄭智元, 金世潤(rùn), 黃普源 申請(qǐng)人:東芝三星存儲(chǔ)技術(shù)韓國(guó)株式會(huì)社