專利名稱：光學(xué)記錄介質(zhì)及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光學(xué)記錄介質(zhì)及其制造方法，尤其適合于應(yīng)用到可記錄的光學(xué)記錄介質(zhì)。
背景技術(shù)：
在使用紅色激光的傳統(tǒng)的可記錄的光盤中，有機(jī)染色材料被用作記錄層。然而，沒有能夠在使用藍(lán)色激光的可記錄光盤中接收藍(lán)色激光的合適的有機(jī)染色材料，因此研究了使用無機(jī)材料。在使用無機(jī)材料的情況下，提出了通過多層膜形成記錄層，以獲得足夠的反射率并且釋放由激光輻射所產(chǎn)生的熱量(例如參考專利文獻(xiàn)1)。文獻(xiàn)列表專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1 日本未審查專利申請(qǐng)公報(bào)No. 2007-157314

發(fā)明內(nèi)容
然而，在通過多層膜形成記錄層時(shí)，形成多層膜是耗時(shí)的，并需要具有若干個(gè)膜形成室的昂貴的模形成設(shè)備。因此，光盤的制造成本增加。為了解決上述問題，本發(fā)明提供了一種實(shí)現(xiàn)了制造成本減小的光學(xué)記錄介質(zhì)及其制造方法。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光學(xué)記錄介質(zhì)包括襯底；形成在襯底上的記錄層，記錄層含有^uSruPd和氧并且含有比h和Sn被完全氧化的情況的理想配比成分更多的氧原子；形成在記錄層上的光透射層。本發(fā)明的實(shí)施例涉及一種制造光學(xué)記錄介質(zhì)的方法，在光學(xué)記錄介質(zhì)中，記錄層形成在襯底上并且光透射層形成在記錄層上。該方法包括以下步驟通過在通入氧氣的同時(shí)使用h203靶、SnO2靶和Pd靶進(jìn)行濺射，形成含有In、Sn、Pd和氧的記錄層。在光學(xué)記錄介質(zhì)的構(gòu)造中，含有h、Sn、Pd和氧的記錄層中的氧的含量大于h和 Sn被完全氧化的情況的理想配比成分。因此，氧原子被結(jié)合到Pd原子的至少一部分，并且可以通過控制氧的含量等控制Pd與氧之間的結(jié)合狀態(tài)，使得可以將記錄層的透射率和反射率被控制到期望的值。含有^uSru Pd和氧的記錄層可以被構(gòu)造為單層?？梢韵啾扔跓o機(jī)材料的多層膜被用作記錄層的情況減小構(gòu)成記錄層的層的數(shù)目。根據(jù)制造光學(xué)記錄介質(zhì)的方法，在通過濺射形成記錄層的步驟中，通過通入氧氣， 可以控制在含有In、Sn和Pd的記錄層中的Pd與氧之間的結(jié)合狀態(tài)。因此，可以將記錄層的透射率和反射率控制到期望的值。在根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光學(xué)記錄介質(zhì)中，可以通過氧的含量等控制Pd與氧之間的結(jié)合狀態(tài)，使得將記錄層的透射率和反射率控制到期望的值。在根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光學(xué)記錄介質(zhì)的制造方法中，可以將記錄層的透射率和反射率控制到期望的值。因此，通過根據(jù)本發(fā)明來優(yōu)化記錄層的透射率和反射率，可以實(shí)現(xiàn)具有優(yōu)秀記錄特性的光學(xué)記錄介質(zhì)。在本發(fā)明中，因?yàn)樾纬闪撕衈uSru Pd和氧的記錄層，所以可以僅由單層構(gòu)造記錄層。因此，減小了構(gòu)造記錄層的層的數(shù)目，并且可以減小光學(xué)記錄介質(zhì)的制造成本。


圖1是根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)的第一實(shí)施例的概略構(gòu)造圖(截面圖)。圖2是根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)的第二實(shí)施例的概略構(gòu)造圖(截面圖)。圖3是根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)的第二實(shí)施例的修改例的概略構(gòu)造圖(截面圖)。圖4是示出了寫入功率與每個(gè)樣品的抖動(dòng)之間的關(guān)系的圖。圖5是示出了寫入功率與每個(gè)樣品的調(diào)制之間的關(guān)系的圖。圖6是示出了在記錄層的反射率R和透射率T相對(duì)于氧氣的流量的改變的圖。
具體實(shí)施例方式下文中將會(huì)描述用于實(shí)施本發(fā)明的最佳模式(下文中稱作為實(shí)施例)。將會(huì)按照以下順序進(jìn)行描述。1.本發(fā)明的概述2.第一實(shí)施例3.第二實(shí)施例4.修改例5.實(shí)驗(yàn)示例1.本發(fā)明的概述本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)包括襯底、形成在襯底上的記錄層以及形成在記錄層上的光透射層。記錄層含有h、Sn、Pd和氧，并且氧的含量比h和Sn被完全氧化的情況下的理想配比成分(stoichiometric composition)更大。制造本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)的方法的特征在于在制造包括形成于襯底上的記錄層和形成在記錄層上光透射層的光學(xué)記錄介質(zhì)時(shí)，形成記錄層的步驟。在形成記錄層的步驟中，通過在通入氧氣的同時(shí)使用^i2O3靶、SnO2靶和Pd靶進(jìn)行濺射，形成含有In、SruPd 和氧的記錄層。在本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)中，例如，通常用于光學(xué)記錄介質(zhì)(諸如光盤)的襯底材料被用作襯底的材料。一種具體示例是聚碳酸酯樹脂。在本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)中，光透射層是所謂的覆蓋層。在記錄/讀取信息時(shí)，激光束被從光透射層(覆蓋層)那一側(cè)發(fā)射到記錄層。作為光透射層的材料，例如，可以使用通過利用紫外線照射來使得UV樹脂(紫外硬化樹脂)硬化而獲得的材料。
光透射層可以通過施加UV樹脂(紫外硬化樹脂)并且通過照射紫外線來時(shí)的UV 樹脂硬化來形成。在本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)中，記錄層含有^uSru Pd和氧。h、Sn、Pd和氧中每種成分的含量沒有特別地限制并且可以被設(shè)置為任意含量?？梢酝ㄟ^改變材料以及形成記錄層的方法中的參數(shù)來控制記錄層的每個(gè)成分的含量。在通過濺射形成記錄層的情況下，可以通過改變參數(shù)(諸如所使用的靶的成分、施加到每個(gè)靶的功率的量等)以及在形成時(shí)通入的氣體的種類和流量來控制含量。因?yàn)楸景l(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)中的記錄層含有In、Sn、Pd和氧，所以通過利用激光束等照射記錄層，改變了所照射的部分的反射率。因此，反射率改變并且變得與周圍不同的部分形成為記錄掩膜，使得信息被記錄在記錄層中。在本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)的記錄層中，氧的含量大于化和Sn被完全氧化的情況的理想配比成分。因此，氧原子被結(jié)合到包含在記錄層中的Pd原子的至少一部分。因?yàn)镻d 與氧之間的結(jié)合狀態(tài)可以通過氧的含量等控制，所以通過控制Pd與氧之間的結(jié)合狀態(tài)，可以將記錄層的透射率和反射率控制到期望的值。此時(shí)，記錄層中的Pd原子處于三種狀態(tài)(Pd)狀態(tài)，其中Pd原子自身存在并且不會(huì)結(jié)合到氧原子；(PdO)狀態(tài)，其中Pd原子接合到單個(gè)氧原子；以及(PdO2)狀態(tài)，其中Pd原子接合到兩個(gè)氧原子。根據(jù)氧的含量，存在一種狀態(tài)、兩種狀態(tài)或者全部三種狀態(tài)。當(dāng)處于沒有結(jié)合到氧原子的狀態(tài)下的Pd原子的比率較高時(shí)，金屬特性較強(qiáng)，使得記錄層的透射率較低并且記錄層的反射率較高。另一方面，當(dāng)處于結(jié)合到氧原子的狀態(tài)下的Pd原子的比率較高時(shí)，氧化物的特性較強(qiáng)，使得記錄層的透射率較高，并且記錄層的反射率較低。當(dāng)在通過濺射形成含有In、Sn、Pd和氧的記錄層時(shí)通入氧氣時(shí)，可以通過氧氣的流量控制所形成的記錄層中的氧的含量。因此，可以控制在記錄層中的Pd與氧之間的結(jié)合狀態(tài)。雖然可以將氧氣的流量設(shè)置到任何流量，但是優(yōu)選地，氧氣的流量被設(shè)置為從 IOsccm到lOOsccm的范圍(包括這兩個(gè)端點(diǎn))。在考慮光學(xué)記錄介質(zhì)的容量增加的情況下，通過使得記錄層為雙層，容量自然地加倍。在當(dāng)前的光盤中，記錄容量在單層結(jié)構(gòu)的情況下是25GB并且在雙層結(jié)構(gòu)的情況下是 50GB。為了實(shí)現(xiàn)具有兩個(gè)以上記錄層的多層光學(xué)記錄介質(zhì)，控制最靠近光入射側(cè)上 (即，在最靠近光透射層側(cè))的記錄層的反射率和透射率是很重要的。通過控制記錄層的反射率和透射率，可以在襯底側(cè)的另一個(gè)記錄層上良好地記錄數(shù)據(jù)。在制造本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)的方法中，在形成兩個(gè)或更多個(gè)記錄層的情況下， 在形成至少一個(gè)記錄層時(shí)，在通入氧氣的同時(shí)進(jìn)行濺射來形成含有In、Sn、Pd和氧的記錄層。以這種方式，可以將記錄層的透射率和反射率控制到期望的值。在提供兩個(gè)以上的記錄層的情況下，至少一個(gè)記錄層具有根據(jù)本發(fā)明的記錄層的構(gòu)造，即，記錄層含有In、Sn、Pd和氧并且氧的含量比h和Sn被完全氧化的情況下的理想配比成分更大。其他層的構(gòu)造和形成方法沒有具體限制。
作為另一個(gè)記錄層，可以使用類似地含有In、Sn、Pd和氧的記錄層或者由不同材料及具有不同記錄方法的記錄層。在使用兩個(gè)或更多個(gè)含有In、Sn、Pd和氧的記錄層(包括其他(一個(gè)或多個(gè))記錄層)的情況下，可以增加可記錄型的記錄容量。在這種情況下，通過改變對(duì)于每個(gè)記錄層的氧氣的流量，透射率和反射率也可以改變。在本發(fā)明中含有In、SruPd和氧的記錄層適合于用作僅寫入一次的可記錄型的記錄層。含有In、Sn、Pd和氧的記錄層可以由單個(gè)層構(gòu)造，使得可以相比于無機(jī)材料的多層膜被用作記錄層的情況減少構(gòu)成記錄層的層的數(shù)目。因此，通過減小光學(xué)記錄介質(zhì)的材料成本和制造成本，可以以低成本構(gòu)造光學(xué)記錄介質(zhì)。本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)形成為通常用作光學(xué)記錄介質(zhì)的盤狀，或者諸如卡片型的其他形狀。2.第一實(shí)施例圖1是本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)的第一實(shí)施例的概略構(gòu)造圖(截面圖)。通過在襯底1上形成用于記錄信息的記錄層2并且在記錄層2上形成光透射層3， 來構(gòu)造光學(xué)記錄介質(zhì)10。光學(xué)記錄介質(zhì)10可以形成為與已有的光盤類似的盤形。諸如卡片型的另一個(gè)形狀可以被用于光學(xué)記錄介質(zhì)10。作為襯底1的材料，例如，可以使用聚碳酸酯樹脂。作為光透射層(所謂的覆蓋層)3的材料，例如，可以使用通過利用紫外照射使得 UV樹脂(紫外硬化樹脂)硬化而獲得的材料。在本實(shí)施例的光學(xué)記錄介質(zhì)10中，特別地，記錄層2含有^uSru Pd和氧，并且氧的含量大于h和Sn被完全氧化的情況下的理想配比成分。例如可以通過使用In2O3靶、SnA靶和Pd靶進(jìn)行濺射同時(shí)通入氧氣來形成這種記錄層2。因?yàn)橛涗泴?中的氧的含量大于h和Sn被完全地氧化的情況的理想配比成分， 所以氧原子被結(jié)合到包含在記錄層2中的Pd原子的至少一部分。因?yàn)榭梢酝ㄟ^氧的含量等控制Pd和氧結(jié)合的狀態(tài)，所以通過控制Pd與氧之間的結(jié)合狀態(tài)，可以將記錄層2的透射率和反射率控制到期望的值。例如，可以如下所述地制造本實(shí)施例的光學(xué)記錄介質(zhì)10。首先，例如，制備了由聚碳酸酯樹脂制造的襯底1。例如在將光學(xué)記錄介質(zhì)10形成為盤狀的情況下，制造了襯底1，該襯底1具有形成了用于尋軌的凹槽的表面。之后，通過在通入氧氣的同時(shí)使用In2O3靶、SnA靶和Pd靶進(jìn)行濺射，將含有In、 Sn、Pd和氧的記錄層2形成在襯底1上。隨后，UV樹脂(紫外硬化樹脂)被涂布到記錄層2上。之后，利用紫外照射將UV 樹脂硬化，由此形成光透射層3。以此方式，可以制造圖1中示出的光學(xué)記錄介質(zhì)10。在前述實(shí)施例的光學(xué)記錄介質(zhì)10中，記錄層2中的氧的含量大于化和Sn被完全氧化的情況下的理想配比成分更大。因此，氧原子被結(jié)合到包含在記錄層2中的Pd原子的至少一部分。因?yàn)榭梢酝ㄟ^氧的含量等控制Pd與氧之間的結(jié)合狀態(tài)，所以通過控制Pd與氧之間的結(jié)合狀態(tài)，可以將記錄層2的透射率和反射率控制到期望的值。含有^uSruPd和氧的記錄層2可以被構(gòu)造為單層，使得可以相比于無機(jī)材料的多層膜被用作記錄層的情況減小構(gòu)成記錄層2的層的數(shù)目。因此，通過減小光學(xué)記錄介質(zhì)10 的材料成本和制造成本，可以以低成本制造光學(xué)記錄介質(zhì)10。根據(jù)本實(shí)施例的制造光學(xué)記錄介質(zhì)10的上述方法，通過在通入氧氣的同時(shí)進(jìn)行濺射來形成含有In、Sn、Pd和氧的記錄層2。通過如上所述地通入氧氣，可以控制記錄層2中的Pd與氧之間的結(jié)合狀態(tài)。因此， 可以將記錄層2的透射率和反射率控制到期望的值。因此，根據(jù)實(shí)施例，通過優(yōu)化記錄層2的透射率和反射率，可以實(shí)現(xiàn)具有優(yōu)秀記錄特性的光學(xué)記錄介質(zhì)10。前述實(shí)施例的光學(xué)記錄介質(zhì)10由襯底1、記錄層2和光透射層3構(gòu)成。然而，在本發(fā)明中，光學(xué)記錄介質(zhì)10可以具有其它層(例如，保護(hù)層)，只要光學(xué)記錄介質(zhì)的成本沒有過多增加。3.第二實(shí)施例圖2是根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)的第二實(shí)施例的概略構(gòu)造圖(截面圖)。通過在襯底1與光透射層3之間形成兩個(gè)記錄層2和5來構(gòu)造光學(xué)記錄介質(zhì)20。 中間層4形成在兩個(gè)記錄層2與5之間。其他構(gòu)造類似于圖1中示出的第一實(shí)施例的光學(xué)記錄介質(zhì)10。在最靠近光入射側(cè)上(即，在最靠近光透射層3的那一側(cè)上)的記錄層5作為Ll 層，并且下層記錄層2作為LO層。作為襯底1和光透射層3的材料，可以使用與第一實(shí)施例的光學(xué)記錄介質(zhì)10相似的材料。作為中間層4的材料，使用對(duì)于用于將數(shù)據(jù)記錄到記錄層2和5的激光束具有高透射率的材料。例如，可以使用通過利用紫外照射將UV樹脂(紫外硬化樹脂)硬化而獲得的材料。在實(shí)施例的光學(xué)記錄介質(zhì)20中，特別地，在最接近光透射層3的那一側(cè)上的記錄層(Li層)5含有In、Sn、Pd和氧，并且氧的含量比h和Sn被完全氧化的情況的理想配比成分更大。可以例如通過使用L2O3靶、SnO2靶和Pd靶并且同時(shí)通入氧氣來進(jìn)行濺射，形成記錄層(Li層)5。因?yàn)榭梢酝ㄟ^記錄層(Li層)5的氧的含量來控制Pd與氧之間的結(jié)合狀態(tài)，所以可以通過控制Pd與氧之間的結(jié)合狀態(tài)來將記錄層(Li層)5的透射率和反射率被控制到期望的值。下層記錄層(L0層)2的構(gòu)造沒有特殊地限制。下層記錄層(L0層)2可以是如上層記錄層(Li層)5那樣的含有^uSruPd和氧的記錄層或者含有不同材料或具有不同記錄方法的記錄層。在將像上層記錄層(Li層)5那樣的含有In、Sn、Pd和氧的記錄層用作下記錄層 (L0層)2的情況下，可記錄型的容量可以被加倍。
在將具有與上記錄層(Li層)5不同的記錄方法(例如，只讀記錄層或可擦寫記錄層)的記錄層用作下記錄層(L0層)2的情況下，兩個(gè)記錄層2和5可以實(shí)現(xiàn)不同的功能。例如，可以如下所述地制造本實(shí)施例的光學(xué)記錄介質(zhì)20。首先，例如，制備了由聚碳酸酯樹脂制造的襯底1。例如在將光學(xué)記錄介質(zhì)10形成為盤狀的情況下，制造了襯底1，該襯底1具有形成了用于尋軌的凹槽的表面。之后，在襯底1上通過濺射形成下層記錄層(L0層)2。隨后，UV樹脂(紫外硬化樹脂)被涂布到記錄層(L0層)2上。之后，利用紫外照射將UV樹脂硬化，由此形成中間層4。在中間層4上，在使用^i2O3靶、SnO2靶和Pd靶的同時(shí)通入氧氣，形成含有^uSru Pd和氧的上層記錄層(Li層)5。隨后，UV樹脂(紫外硬化樹脂)被涂布到上層記錄層(Li層)5上。之后，利用紫外照射將UV樹脂硬化，由此形成光透射層3。以此方式，可以制造圖2中示出的光學(xué)記錄介質(zhì)20。在將含有In、Sn、Pd和氧的記錄層用作下層記錄層(L0層)2的情況下，通過使得 LO層2中的氣體的流量與Ll層5中的氣體的流量不同，可以使得記錄層2和記錄層5的透射率和反射率彼此不同。在本實(shí)施例的光學(xué)記錄介質(zhì)20中，記錄層(Li層)5中的氧的含量大于h和Sn 被完全氧化的情況下的理想配比成分。因此，氧原子被結(jié)合到包含在記錄層(Li層)5中的 Pd原子的至少一部分。因?yàn)榭梢酝ㄟ^氧的含量等控制Pd與氧之間的結(jié)合狀態(tài)，所以可以通過控制Pd與氧之間的結(jié)合狀態(tài)將記錄層(Li層)5的透射率和反射率控制到期望的值。含有^uSru Pd和氧的記錄層(Li層)5可以被構(gòu)造為單層，因此相比于將無機(jī)材料的多層膜用作記錄層的情況可以減小構(gòu)造記錄層5的層的數(shù)目。因此，通過減小光學(xué)記錄介質(zhì)20的材料成本和制造成本，可以以低成本制造光學(xué)記錄介質(zhì)20。在下層記錄層(L0層)2也具有含有h、Sn、Pd和氧的構(gòu)造的情況下，可以減小構(gòu)造兩個(gè)記錄層2和5的層的數(shù)目。因此，可以進(jìn)一步減小光學(xué)記錄介質(zhì)20的材料成本和制造成本。根據(jù)本實(shí)施例的上述制造光學(xué)記錄介質(zhì)20的方法，通過在通入氧氣的同時(shí)進(jìn)行濺射形成含有In、Sn、Pd和氧的記錄層(Li層)5。通過如上所述地通入氧氣，可以控制記錄層(Li層)5中的Pd與氧之間的結(jié)合狀態(tài)。因此，可以將記錄層(Li層)5的透射率和反射率控制到期望的值。因此，根據(jù)實(shí)施例，特別地，可以優(yōu)化作為Ll層的記錄層5的透射率和反射率，并且可以實(shí)現(xiàn)具有兩個(gè)記錄層2和5并且具有優(yōu)秀記錄特性的光學(xué)記錄介質(zhì)20。前述實(shí)施例的光學(xué)記錄介質(zhì)20由襯底1、記錄層2、中間層4、記錄層5和光透射層 3的五個(gè)層構(gòu)成。然而，在本發(fā)明中，光學(xué)記錄介質(zhì)20可以具有其它層(例如，保護(hù)層)，只要光學(xué)記錄介質(zhì)的成本沒有過多增加。在以上描述中，本實(shí)施例的光學(xué)記錄介質(zhì)20具有作為含有^uSruPd和氧的記錄層的上層記錄層(Li層)5以及作為具有任意構(gòu)造的記錄層的下層記錄層(L0層)2?；蛘?，下層記錄層(L0層)2可以是含有^uSruPd和氧的記錄層，并且上層記錄層 (Li層)5可以是具有任意構(gòu)造的記錄層。本發(fā)明也包括這種構(gòu)造。
4.修改示例在第二實(shí)施例中，記錄層具有兩層結(jié)構(gòu)。在本發(fā)明中，記錄層可以具有三層以上的結(jié)構(gòu)。圖3是作為第二實(shí)施例的修改例的、具有三個(gè)記錄層的結(jié)構(gòu)的光學(xué)記錄介質(zhì)的截面圖。如圖3所示，通過在襯底1與光透射層3之間形成三個(gè)記錄層2、5和6來構(gòu)造光學(xué)記錄介質(zhì)30。在三個(gè)記錄層2、5和6中相鄰的層之間，形成中間層4。作為最靠近光透射層3的最上層的記錄層6是L2層，在中間的記錄層5作為Ll層，并且最下層記錄層2作為LO層。在該修改例中，將上文中關(guān)于第二實(shí)施例的記錄層(Li層)5描述的本發(fā)明的構(gòu)造和制造方法應(yīng)用到三個(gè)記錄層2、5和6中的至少一者，就足夠了。5.實(shí)驗(yàn)示例實(shí)驗(yàn)1根據(jù)氧氣的流量改變光學(xué)記錄介質(zhì)的特性特別地，制造了光學(xué)記錄介質(zhì)，并且研究了記錄層的反射率和透射率。樣品1如下所述地制造了圖1的光學(xué)記錄介質(zhì)10。作為襯底1，制備了具有1. Imm厚度的盤狀的聚碳酸酯樹脂。之后，在襯底1上，通過濺射形成了具有40nm厚度的In-Sn-Pd-O膜來作為記錄層 2。作為靶，使用了 h203、Sn02*Pd的三個(gè)靶。氬氣的流量被設(shè)置為SOsccm，并且氧氣的流量被設(shè)置為20sCCm。通過在通入氣體的同時(shí)控制每個(gè)靶的濺射功率來調(diào)整成分，執(zhí)行濺射。成分被調(diào)整為使得滿足M2O3 SnO2 = 9 1并且(In203+Sn02) Pd = 8 2。以此方式，形成了作為In-Sn-Pd-O膜的單層的記錄層2。此外，紫外硬化樹脂被涂布到記錄層2上并且利用紫外照射硬化，以形成具有 IOOym厚度的光透射層3，由此制造具有盤形狀并且具有圖1中示出的截面結(jié)構(gòu)的光學(xué)記錄介質(zhì)10。結(jié)果被設(shè)置為光學(xué)記錄介質(zhì)10的樣品1。樣品2除了氬氣的流量被設(shè)置為70sCCm并且氧氣的流量被設(shè)置為30sCCm之外，以與樣品1中類似的方式制造具有圖1中示出的結(jié)構(gòu)的光學(xué)記錄介質(zhì)10。結(jié)果被設(shè)置為光學(xué)記錄介質(zhì)10的樣品2。樣品3除了氬氣的流量被設(shè)置為eOsccm并且氧氣的流量被設(shè)置為40sCCm之外，以與樣品1中類似的方式制造具有圖1中示出的結(jié)構(gòu)的光學(xué)記錄介質(zhì)10。結(jié)果被設(shè)置為光學(xué)記錄介質(zhì)10的樣品3。記錄特性的評(píng)估利用激光束照射所制造的樣品1到3的光學(xué)記錄介質(zhì)以將信息記錄到記錄層2。具體地，以IX記錄(IX 4. 92m/s)將信息記錄到光學(xué)記錄介質(zhì)10中的連續(xù)五個(gè)軌道中。評(píng)估了中央軌道(第三軌道)中的抖動(dòng)(jitter)。寫入功率被改變并測(cè)量在改變的寫入功率下的抖動(dòng)。
作為測(cè)量結(jié)果，圖4中示出了樣品的寫入功率和抖動(dòng)之間的關(guān)系。如圖4所示，可以理解在通入氧氣的同時(shí)通過增加氧氣的流量并且在形成記錄層時(shí)充分地供應(yīng)氧，可以極大地減小抖動(dòng)。也可以理解當(dāng)流量從20sCCm增加到30sCCm時(shí)，曲線橫向展開，并且寫入功率邊界(margin)被極大地放大。測(cè)量了每個(gè)樣品的調(diào)制度。作為測(cè)量結(jié)果，在圖5中示出了樣品的寫入功率與調(diào)制度之間的關(guān)系。如圖5所示，可以理解氧氣的流量較小的樣品在約55%的低調(diào)制度下就飽和了。 另一方面，氧的流量較大的樣品表現(xiàn)出約為70%到80%的非常高的調(diào)制度?？梢酝ㄟ^上述內(nèi)容理解通過將氧的流量設(shè)置為較高并且提供大量的氧，可以極大地改善記錄特性。在中央軌道(第三軌道)中，測(cè)量記錄之后的記錄層2的反射率和透射率。通過記錄/再現(xiàn)設(shè)備測(cè)量反射率，并且通過橢率計(jì)測(cè)量襯底的凹槽表面中的透射率。作為測(cè)量結(jié)果，圖6示出了記錄層2的反射率R和透射率T根據(jù)在形成記錄層2 時(shí)氧氣的流量(20到40SCCm)的改變。通過圖6可以理解隨著氧氣(O2)的流量增加，雖然透射率沒有改變太多，但是反射率增加。因此可以認(rèn)為記錄層2的吸收率隨著氧氣的量增加而減小，并且因此，減小了抖動(dòng)并且增加了寫入功率邊界。當(dāng)通過XPS實(shí)際分析所制造的光學(xué)記錄介質(zhì)的記錄層時(shí)，發(fā)現(xiàn)h以完全氧化的 In2O3的形式存在，并且Sn也以完全氧化的SnA的形式存在。也知道Pd以Pd自身、PdO和PcW2的三種狀態(tài)存在，并且膜中的氧的量等于或大于將h和Sn完全氧化的量。通過對(duì)于光學(xué)記錄介質(zhì)的樣品1和2中的每一者使用XPS，對(duì)于在記錄層2的表面附近的Pd原子的狀態(tài)測(cè)量了三個(gè)狀態(tài)Pd、PdO和PcW2的比率。表1示出了測(cè)量結(jié)果。表權(quán)利要求
1.一種光學(xué)記錄介質(zhì)，包括襯底；形成在所述襯底上的記錄層，所述記錄層含有h、Sn、Pd和氧并且含有比h和Sn被完全氧化的情況的理想配比成分更多的氧原子；以及形成在所述記錄層上的光透射層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)記錄介質(zhì)，其中，所述記錄層包括兩個(gè)或更多個(gè)層，這些層之間設(shè)置有中間層。
3.—種制造光學(xué)記錄介質(zhì)的方法，在所述光學(xué)記錄介質(zhì)中，記錄層形成在襯底上并且光透射層形成在所述記錄層上，所述方法包括以下步驟通過在通入氧氣的同時(shí)，使用 In2O3靶、SnO2靶和Pd靶進(jìn)行濺射，在所述襯底上形成含有In、Sn、Pd和氧的所述記錄層。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制造光學(xué)記錄介質(zhì)的方法，其中，所述氧氣的流量被設(shè)置在 IOsccm到IOOsccm的范圍內(nèi)，包含這兩個(gè)端點(diǎn)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制造光學(xué)記錄介質(zhì)的方法，其中，所述襯底上形成有兩個(gè)或更多個(gè)記錄層，這些記錄層之間夾置有中間層；通過在通入氧氣的同時(shí)使用M2O3靶、SnO2 靶和Pd靶進(jìn)行濺射，形成含有In、Sn、Pd和氧的記錄層作為所述兩個(gè)或更多個(gè)記錄層中的至少一者。
全文摘要
本申請(qǐng)公開了光學(xué)記錄介質(zhì)及其制造方法，能夠以低成本來制造。具體地公開了一種光學(xué)記錄介質(zhì)(10)，其包括基板(1)；記錄層(2)，其形成在基板(1)上并且含有In、Sn、Pd和氧，其中，所含有的氧原子的量比在In和Sn被完全氧化時(shí)獲得的理想配比成分更大；形成在記錄層(2)上的光透射層(3)。
文檔編號(hào)G11B7/26GK102349106SQ201080011889
公開日2012年2月8日 申請(qǐng)日期2010年3月10日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月17日
發(fā)明者三木剛 申請(qǐng)人:索尼公司