專利名稱：：碟片原版制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種碟片原版制作方法，特別是關(guān)于一種用以制備碟片模版的碟片原版制作方法。
背景技術(shù)：
：隨著資訊與多媒體世代的來臨，電子產(chǎn)品對于儲存媒體的儲存密度及容量的需求也不斷地增加。傳統(tǒng)的儲存媒體，大致上可分為兩大類，分別是磁記錄媒體與光記錄媒體。目前市場上是以光記錄媒體占優(yōu)勢，其是包含唯讀型光碟(CD-ROM)、可寫一次型光碟(CD-R)、可重復(fù)讀寫型光碟(CD-RW)、唯讀型數(shù)位影音光碟(DVD-ROM)、可寫一次型數(shù)位影音光碟(DVD-R)、可重復(fù)讀寫式數(shù)位影音光碟(DVD-RW，DVD+RW)、以及動態(tài)隨機記憶數(shù)位影音光碟(DVD-RAM)等等。光記錄媒體的生產(chǎn)過程中，一般都是利用具有溝槽或凹洞的碟片模版(DiscStamper)，配合射出成形的方法，以制成與碟片模版具有相對應(yīng)圖案的基板后，再利用此具有預(yù)溝槽的基板(Pre-groovedSubstrate)來進(jìn)行后續(xù)制程以生產(chǎn)大量的光記錄媒體。為了要獲得碟片模版，則需先制作一碟片原版(DiscMaster)。請參閱圖1所示，現(xiàn)有習(xí)知的碟片原版制作過程是包含下列步驟(1)涂布一光阻層13于基板11上為了加強光阻層13與基板11的結(jié)合力，可先涂布一接著劑(Primer)12于基板11上再涂布光阻層13，而接著劑12可為一界面活性劑(Surfactant)或是一粘著促進(jìn)劑(AdhesionPromoter)；(2)鐳射刻版(LaserBeamRecording，LBR)光阻層13并進(jìn)行顯影步驟將數(shù)位資料經(jīng)訊號源介面系統(tǒng)(MIS)轉(zhuǎn)換成高頻訊號送至刻版機，并驅(qū)動鐳射光刻版在基板11的光阻層13上。然后藉由顯影把刻版的訊號顯像出來。(3)濺鍍一金屬層于光阻層在顯影完成的光阻層13上鍍上一層薄金屬層14，其中，濺鍍常用的材料為鎳/釩合金。至此，即完成碟片原版的制程。然后，即可利用上述的金屬層14作為后續(xù)電鑄(Electroforming)步驟的導(dǎo)電層。電鑄步驟進(jìn)行時，是將金屬層加厚再將金屬層與碟片原版分離，則此金屬層即形成一父模版(FatherStamper)。獲得父模版之后，只要再重復(fù)電鑄及分離步驟，即可獲得復(fù)數(shù)個母模版(MotherStamper)，而每一個母模版可繼續(xù)進(jìn)行電鑄步驟，以獲得復(fù)數(shù)個子模版(SonStamper)。要大量生產(chǎn)光記錄媒體時，可利用父模版或子模版，來射出成形具有預(yù)溝槽的碟片基板。如此一來，便可以省去再次進(jìn)行鐳射刻版、顯影、濺鍍及電鑄等碟片模版制作步驟，故能縮短制程時間并且降低成本。然而，現(xiàn)有習(xí)知技術(shù)的碟片原版是利用光阻層來形成溝槽的形狀，由于結(jié)構(gòu)強度不夠，因此并無法進(jìn)行多次父模版的電鑄分離制程。另外，為了符合可錄式數(shù)位影音光碟(DVD-R)的規(guī)格，以增進(jìn)碟片與光碟機的相容性，碟片原版的可覆寫資料區(qū)(RewritableArea)及預(yù)錄資料區(qū)(EmbossedArea)的溝槽需具有不同深度，其中，預(yù)錄資料區(qū)的溝槽深度是需大于可覆寫資料區(qū)的溝槽深度。為了于碟片原版上制作出不同深度的溝槽，請參閱圖2所示，另一現(xiàn)有習(xí)知技術(shù)是利用光阻層13’作為遮罩層，以制作不同深度的溝槽。在經(jīng)過鐳射刻版時，預(yù)錄資料區(qū)A上的光阻層是完全被蝕刻以形成溝槽，以利后續(xù)基板11蝕刻的進(jìn)行；但在另一方面，光阻層13’溝槽深度較淺的可覆寫資料區(qū)B，由于光阻層13’受鐳射光照射的能量擴散不易控制，故使得可覆寫資料區(qū)B的光阻層13’溝槽形狀成為V字形，進(jìn)而無法精確控制后續(xù)蝕刻制程中可覆寫資料區(qū)B的溝槽尺寸，影響產(chǎn)品的良率。有鑒于上述課題，本案發(fā)明人亟思一種可以解決碟片原版無法重復(fù)使用、以及可覆寫資料區(qū)的光阻層形成V字形，而使得溝槽尺寸不易精確控制的問題的“碟片原版制作方法”。由此可見，上述現(xiàn)有的碟片原版制作方法在結(jié)構(gòu)與使用上，顯然仍存在有不便與缺陷，而亟待加以進(jìn)一步改進(jìn)。為了解決碟片原版制作方法存在的問題，相關(guān)廠商莫不費盡心思來謀求解決之道，但長久以來一直未見適用的設(shè)計被發(fā)展完成，而一般產(chǎn)品又沒有適切的結(jié)構(gòu)能夠解決上述問題，此顯然是相關(guān)業(yè)者急欲解決的問題。有鑒于上述現(xiàn)有的碟片原版制作方法存在的缺陷，本發(fā)明人基于從事此類產(chǎn)品設(shè)計制造多年豐富的實務(wù)經(jīng)驗及專業(yè)知識，并配合學(xué)理的運用，積極加以研究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設(shè)一種新的碟片原版制作方法，能夠改進(jìn)一般現(xiàn)有的碟片原版制作方法，使其更具有實用性。經(jīng)過不斷的研究、設(shè)計，并經(jīng)反復(fù)試作樣品及改進(jìn)后，終于創(chuàng)設(shè)出確具實用價值的本發(fā)明。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于，克服現(xiàn)有的碟片原版制作方法存在的缺陷，而提供一種新的碟片原版制作方法，所要解決的技術(shù)問題是使其可以重復(fù)使用且的碟片原版，且能精確控制溝槽尺寸，從而更加適于實用，且具有產(chǎn)業(yè)上的利用價值。本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題是采用以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的。依據(jù)本發(fā)明提出的一種碟片原版制作方法，其包含在一具有一預(yù)錄資料區(qū)及一可覆寫資料區(qū)的基板之上涂布一光阻層；鐳射刻版并顯影該光阻層；第一反應(yīng)性離子蝕刻該基板的該預(yù)錄資料區(qū)；第二反應(yīng)性離子蝕刻該光阻層；第三反應(yīng)性離子蝕刻該基板的該預(yù)錄資料區(qū)及該可覆寫資料區(qū)；以及移除該光阻層。本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題還可采用以下技術(shù)措施進(jìn)一步實現(xiàn)。前述的碟片原版制作方法，其中所述的基板的材質(zhì)是為一玻璃、或一石英、或是為一陶瓷材料。前述的碟片原版制作方法，其中所述的陶瓷材料是為一氧化物、氮化物、或一碳化物。前述的碟片原版制作方法，其中所述的更包含涂布一接著劑于該基板。前述的碟片原版制作方法，其中所述的接著劑是為一界面活性劑、或是為一粘合促進(jìn)劑。前述的碟片原版制作方法，其中所述的第一反應(yīng)性離子蝕刻的反應(yīng)氣體是具有一含氟氣體。前述的碟片原版制作方法，其中所述的含氟氣體是為三氟甲烷、氟化碳、C5F10、C3F8、或C2F6。前述的碟片原版制作方法，其中所述的含氟氣體是搭配氬氣或氧氧。前述的碟片原版制作方法，其中所述的第二反應(yīng)性離子蝕刻的反應(yīng)氣體為一含氧氣體。前述的碟片原版制作方法，其中所述的的第三反應(yīng)性離子蝕刻的反應(yīng)氣體是具有一含氟氣體。前述的碟片原版制作方法，其中所述的的該含氟氣體是為三氟甲烷、氟化碳、C5F10、C3F8、或C2F6。前述的碟片原版制作方法，其中所述的含氟氣體是搭配氬氣或氧氧。前述的碟片原版制作方法，移除其中所述的光阻層是利用一反應(yīng)性離子清洗或一濕式清洗。前述的碟片原版制作方法，其中所述的反應(yīng)性離子清洗的反應(yīng)氣體是為氬氣、氧氣、氮氣、氫氣、氨氣或其混合氣體。前述的碟片原版制作方法，其中所述的濕式清洗的反應(yīng)溶液是為硝酸、鹽酸、氨水、硫酸、磷酸、或含羥基的溶液。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點和有益效果。由以上技術(shù)方案可知，為了達(dá)到前述發(fā)明目的，本發(fā)明的主要技術(shù)內(nèi)容如下依本發(fā)明的碟片原版制作方法，其是包含在一具有一預(yù)錄資料區(qū)及一可覆寫資料區(qū)的基板之上涂布一光阻層，鐳射刻版并顯影光阻層，第一反應(yīng)性離子蝕刻基板的預(yù)錄資料區(qū)，第二反應(yīng)性離子蝕刻光阻層，第三反應(yīng)性離子蝕刻基板的預(yù)錄資料區(qū)及可覆寫資料區(qū)，以及移除光阻層。承上所述，因依本發(fā)明的碟片原版制作方法，是具有復(fù)數(shù)次的反應(yīng)性離子蝕刻步驟。與現(xiàn)有習(xí)知技術(shù)相比，本發(fā)明的碟片原版制作方法是直接蝕刻基板以形成溝槽，因此可重復(fù)進(jìn)行電鑄制程，以生產(chǎn)父模板。另外，本發(fā)明的碟片原版制作方法利用復(fù)數(shù)次反應(yīng)性離子蝕刻并搭配不同反應(yīng)氣體，將現(xiàn)有習(xí)知技術(shù)中因為光阻層經(jīng)鐳射刻版后，形成V字形溝槽造成溝槽尺寸無法精確的缺點，經(jīng)過復(fù)數(shù)次反應(yīng)性離子蝕刻后，得以改善光阻層的溝槽形狀成為U字形，并能進(jìn)一步精確定義碟片原版的溝槽尺寸，也確保了碟片原版的良率。如此一來，則可有利于后續(xù)碟片模版及光資訊儲存媒體的制程進(jìn)行。再者，利用復(fù)數(shù)次反應(yīng)性離子蝕刻，更能使完成后的碟片原版符合DVD-R規(guī)格，也就是預(yù)錄資料區(qū)的溝槽深度是大于可覆寫資料區(qū)的溝槽深度。借由上述技術(shù)方案，本發(fā)明碟片原版制作方法至少具有下列優(yōu)點綜上所述，本發(fā)明的碟片原版制作方法，是具有復(fù)數(shù)次的反應(yīng)性離子蝕刻步驟。與現(xiàn)有習(xí)知技術(shù)相比，本發(fā)明的碟片原版制作方法是直接蝕刻基板以形成溝槽，因此可重復(fù)進(jìn)行電鑄制程，以生產(chǎn)父模板。另外，本發(fā)明的碟片原版制作方法利用復(fù)數(shù)次反應(yīng)性離子蝕刻并搭配不同反應(yīng)氣體，將現(xiàn)有習(xí)知技術(shù)中因為光阻層經(jīng)鐳射刻版后，形成V字形溝槽造成溝槽尺寸無法精確的缺點，經(jīng)過復(fù)數(shù)次反應(yīng)性離子蝕刻后，得以改善光阻層的溝槽形狀成為U字形，并能進(jìn)一步精確定義碟片原版的溝槽尺寸，也確保了碟片原版的良率。如此一來，則可有利于后續(xù)碟片模版及光資訊儲存媒體的制程進(jìn)行。再者，利用復(fù)數(shù)次反應(yīng)性離子蝕刻，更能使完成后的碟片原版符合DVD-R規(guī)格，也就是預(yù)錄資料區(qū)的溝槽深度是大于可覆寫資料區(qū)的溝槽深度。綜上所述，本發(fā)明特殊結(jié)構(gòu)的碟片原版制作方法，可以重復(fù)使用且的碟片原版，且能精確控制溝槽尺寸。其具有上述諸多的優(yōu)點及實用價值，并在同類產(chǎn)品中未見有類似的結(jié)構(gòu)設(shè)計公開發(fā)表或使用而確屬創(chuàng)新，其不論在產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)或功能上皆有較大的改進(jìn)，在技術(shù)上有較大的進(jìn)步，并產(chǎn)生了好用及實用的效果，且較現(xiàn)有的碟片原版制作方法具有增進(jìn)的多項功效，從而更加適于實用，而具有產(chǎn)業(yè)的廣泛利用價值，誠為一新穎、進(jìn)步、實用的新設(shè)計。上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實施，并為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點能更明顯易懂，以下特舉出多個較佳實施例，并配合附圖，詳細(xì)說明如下。圖1是為現(xiàn)有習(xí)知碟片原版制作方法的一示意圖；圖2是為另一現(xiàn)有習(xí)知碟片原版制作方法的一示意圖；圖3是為本發(fā)明的碟片原版制作方法的一流程圖；圖4是為本發(fā)明碟片原版制作方法的一示意圖；圖5是為本發(fā)明的碟片原版制作方法的另一流程圖；以及圖6是為本發(fā)明的碟片原版制作方法中，基板與光阻層之間是具有一接著劑的一示意圖。11基板12接著劑13光阻層13’光阻層14金屬層21基板22接著劑23光阻層S10涂布一接著劑于基板S20在一具有一預(yù)錄資料區(qū)及一可覆寫資料區(qū)的基板之上涂布一光阻層S30鐳射刻版并顯影光阻層S40第一反應(yīng)性離子蝕刻基板的預(yù)錄資料區(qū)S50第二反應(yīng)性離子蝕刻光阻層S60第三反應(yīng)性離子蝕刻基板的預(yù)錄資料區(qū)及可覆寫資料區(qū)S70移除光阻層A預(yù)錄資料區(qū)B可覆寫資料區(qū)具體實施方式為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效，以下結(jié)合附圖及較佳實施例，對依據(jù)本發(fā)明提出的碟片原版制作方法其具體實施方式、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細(xì)說明如后。如圖3所示，碟片原版制作方法是包含下列步驟在一具有一預(yù)錄資料區(qū)及一可覆寫資料區(qū)的基板之上涂布一光阻層S20、鐳射刻版并顯影光阻層S30、第一反應(yīng)性離子蝕刻基板的預(yù)錄資料區(qū)S40、第二反應(yīng)性離子蝕刻光阻層S50、第三反應(yīng)性離子蝕刻基板的預(yù)錄資料區(qū)及可覆寫資料區(qū)S60、以及移除光阻層S70。本實施例中，碟片原版是用于光記錄媒體的一碟片模版(DiscStamper)的制作。請同時參照圖4及圖6，本實施例中，碟片原版制作方法更可包含涂布一接著劑于基板S10)。在步驟S10中，接著劑(Primer)22是被涂布于基板21上。本實施例中，基板21的材質(zhì)是為一玻璃、一石英、或選用一陶瓷材料。其中，陶瓷材料可為一氧化物、一氮化物、或一碳化物。另外，接著劑22可為一界面活性劑(Surfactant)或是一粘合促進(jìn)劑(AdhesionPromoter)。本實施例中，是以六甲基二硅氮烷(Hexamethyldisilazane，HMDS)作為接著劑為例，用以加強光阻層23與基板21之間的結(jié)合力。請同時參照圖4及圖5，在步驟S20中，是涂布一光阻層22在一具有一預(yù)錄資料區(qū)A及一可覆寫資料區(qū)B的基板21之上，例如可利用旋轉(zhuǎn)涂布(Spin-Coating)的方式，將光阻層22形成于基板21上。其中，，若基板21上已涂布有接著劑22，則光阻層23則形成于接著劑22上。本實施例中，基板21與光阻層23之間，是以沒有涂布接著劑22為例。基板21的預(yù)錄資料區(qū)A及可覆寫資料區(qū)B是用以形成不同深度的溝槽，其中，預(yù)錄資料區(qū)A的溝槽深度是大于可覆寫資料區(qū)B的溝槽深度，以使日后形成的光記錄媒體能符合可錄式數(shù)位影音光碟DVD-R的規(guī)格要求。通常，預(yù)錄資料區(qū)A中是包含功率校正區(qū)(PowerCalibrationArea，PGA)及錄寫管理區(qū)(RecordingManagementArea，RMA)。其中，功率校正區(qū)是于寫入時用以校正鐳射功率，錄寫管理區(qū)則具有碟片的識別碼、序號、碟片目前狀態(tài)、寫入方式、資料位址與結(jié)構(gòu)等等資料。另外，可覆寫資料區(qū)B則具有導(dǎo)入?yún)^(qū)(Lead-inArea)、導(dǎo)出區(qū)(Lead-outArea)、以及可記錄區(qū)等等。在步驟S30中，是鐳射刻版(LaserBeamRecording，LBR)光阻層23然后進(jìn)行顯影，此是將數(shù)位資料轉(zhuǎn)換成高頻訊號送至刻版機臺，并驅(qū)動鐳射光刻版在光阻層23上。然后藉由顯影液把刻版的訊號顯像出來，利用顯像后光阻層23產(chǎn)生之間隔來定義基板21的溝槽尺寸。由圖5可知，經(jīng)過鐳射刻錄及顯影后，已露出基板21的預(yù)錄資料區(qū)A；而可覆寫資料區(qū)B上的光阻層23則呈V字形，此V字形光阻層23是不利日后溝槽尺寸的定義。在步驟S40中，是進(jìn)行第一反應(yīng)性離子蝕刻(FirstReactiveIonEtching，F(xiàn)irstRIE)，以蝕刻基板21的預(yù)錄資料區(qū)A。本實施例中，第一反應(yīng)性離子蝕刻的反應(yīng)氣體是具有一含氟氣體，例如為三氟甲烷、氟化碳、C5F10、C3F8、或C2F6。另外，含氟氣體是可搭配氬氣(Ar)或氧氧(O2)來作為反應(yīng)氣體，以增加蝕刻能量。利用含氟氣體來作為第一反應(yīng)性離子蝕刻的反應(yīng)氣體以蝕刻基板21時，雖然含氟氣體也對光阻層23有反應(yīng)，但于制程中可控制光阻層23被蝕刻的厚度，而只會于基板21形成溝槽。在步驟S50中，是進(jìn)行第二反應(yīng)性離子蝕刻(SecondReactiveIonEtching，SecondRIE)，以蝕刻光阻層23。本實施例中，第二反應(yīng)性離子蝕刻的反應(yīng)氣體是一含氧氣體，例如為氧氣、或一氧化碳。進(jìn)行第二反應(yīng)性離子蝕刻時，其反應(yīng)氣體只對光阻層23有反應(yīng)，因此，隨著光阻層23的變薄，可覆寫資料區(qū)B上光阻層23的溝槽形狀，可由V字形逐漸變成U字形，最后則可露出基板21的可覆寫資料區(qū)B，而形成容易定義基板21溝槽尺寸的光阻層23。在步驟S60中，是進(jìn)行第三反應(yīng)性離子蝕刻(ThirdReactiveIonEtching，ThirdRIE)，以蝕刻基板21的預(yù)錄資料區(qū)A及可覆寫資料區(qū)B。本實施例中，第三反應(yīng)性離子蝕刻的反應(yīng)氣體是具有一含氟氣體，例如為三氟甲烷、氟化碳、C5F10、C3F8、或C2F6。另外，含氟氣體是可搭配氬氣(Ar)或氧氧(O2)來作為反應(yīng)氣體，以增加蝕刻能量。由于利用含氟氣體來作為第三反應(yīng)性離子蝕刻的反應(yīng)氣體時，對光阻層23雖有反應(yīng)但可控制殘留光阻層23的厚度，故能以殘留的光阻層23作為遮罩而于基板21上的可覆寫資料區(qū)B形成溝槽并同時加深預(yù)錄資料區(qū)A的溝槽。如此一來，預(yù)錄資料區(qū)A的溝槽因經(jīng)過二次蝕刻，故其溝槽深度會大于可覆寫資料區(qū)B的溝槽深度。在步驟S70中，是移除基板21上的光阻層23。本實施例中，可利用一反應(yīng)性離子清洗或一濕式清洗，以清除來自光阻層23或基板21的蝕刻殘余物。其中，反應(yīng)性離子清洗所使用的反應(yīng)氣體是可為氬氣、氧氣、氮氣、氫氣、氨氣或其混合氣體例如氬氣/氧氣、氮氣/氫氣等等。而濕式清洗的反應(yīng)溶液則為硝酸、鹽酸、氨水、硫酸、磷酸、或含羥基(-OH)的溶液。綜上所述，本發(fā)明的碟片原版制作方法，是具有復(fù)數(shù)次的反應(yīng)性離子蝕刻步驟。與現(xiàn)有習(xí)知技術(shù)相比，本發(fā)明的碟片原版制作方法是直接蝕刻基板以形成溝槽，因此可重復(fù)進(jìn)行電鑄制程，以生產(chǎn)父模板。另外，本發(fā)明的碟片原版制作方法利用復(fù)數(shù)次反應(yīng)性離子蝕刻并搭配不同反應(yīng)氣體，將現(xiàn)有習(xí)知技術(shù)中因為光阻層經(jīng)鐳射刻版后，形成V字形溝槽造成溝槽尺寸無法精確的缺點，經(jīng)過復(fù)數(shù)次反應(yīng)性離子蝕刻后，得以改善光阻層的溝槽形狀成為U字形，并能進(jìn)一步精確定義碟片原版的溝槽尺寸，也確保了碟片原版的良率。如此一來，則可有利于后續(xù)碟片模版及光資訊儲存媒體的制程進(jìn)行。再者，利用復(fù)數(shù)次反應(yīng)性離子蝕刻，更能使完成后的碟片原版符合DVD-R規(guī)格，也就是預(yù)錄資料區(qū)的溝槽深度是大于可覆寫資料區(qū)的溝槽深度。以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實施例而已，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制，雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。權(quán)利要求1.一種碟片原版制作方法，其特征在于其包含在一具有一預(yù)錄資料區(qū)及一可覆寫資料區(qū)的基板之上涂布一光阻層；鐳射刻版并顯影該光阻層；第一反應(yīng)性離子蝕刻該基板的該預(yù)錄資料區(qū)；第二反應(yīng)性離子蝕刻該光阻層；第三反應(yīng)性離子蝕刻該基板的該預(yù)錄資料區(qū)及該可覆寫資料區(qū)；以及移除該光阻層。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的碟片原版制作方法，其特征在于其中所述的基板的材質(zhì)是為一玻璃、或一石英、或是為一陶瓷材料。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的碟片原版制作方法，其特征在于其中所述的陶瓷材料是為一氧化物、氮化物、或一碳化物。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的碟片原版制作方法，其特征在于其更包含涂布一接著劑于該基板。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的碟片原版制作方法，其特征在于其中所述的接著劑是為一界面活性劑、或是為一粘合促進(jìn)劑。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的碟片原版制作方法，其特征在于其中所述的第一反應(yīng)性離子蝕刻的反應(yīng)氣體是具有一含氟氣體。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的碟片原版制作方法，其特征在于其中所述的含氟氣體是為三氟甲烷、氟化碳、C5F10、C3F8、或C2F6。8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的碟片原版制作方法，其特征在于其中所述的含氟氣體是搭配氬氣或氧氧。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的碟片原版制作方法，其特征在于其中所述的第二反應(yīng)性離子蝕刻的反應(yīng)氣體為一含氧氣體。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的碟片原版制作方法，其特征在于其中所述的第三反應(yīng)性離子蝕刻的反應(yīng)氣體是具有一含氟氣體。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的碟片原版制作方法，其特征在于其中所述的該含氟氣體是為三氟甲烷、氟化碳、C5F10、C3F8、或C2F6。12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的碟片原版制作方法，其特征在于其中所述的含氟氣體是搭配氬氣或氧氧。13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的碟片原版制作方法，其特征在于移除其中所述的光阻層是利用一反應(yīng)性離子清洗或一濕式清洗。14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的碟片原版制作方法，其特征在于其中所述的反應(yīng)性離子清洗的反應(yīng)氣體是為氬氣、氧氣、氮氣、氫氣、氨氣或其混合氣體。15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的碟片原版制作方法，其特征在于其中所述的濕式清洗的反應(yīng)溶液是為硝酸、鹽酸、氨水、硫酸、磷酸、或含羥基的溶液。全文摘要本發(fā)明是關(guān)于一種碟片原版制作方法，其是包含在一具有一預(yù)錄資料區(qū)及一可覆寫資料區(qū)的基板之上涂布一光阻層，鐳射刻版并顯影光阻層，第一反應(yīng)性離子蝕刻基板的預(yù)錄資料區(qū)，第二反應(yīng)性離子蝕刻光阻層，第三反應(yīng)性離子蝕刻基板的預(yù)錄資料區(qū)及可覆寫資料區(qū)，以及移除光阻層。本發(fā)明的碟片原版制作方法，是具有復(fù)數(shù)次的反應(yīng)性離子蝕刻步驟，其可以重復(fù)使用碟片原版，且能精確控制溝槽尺寸。文檔編號G11B7/26GK1841538SQ20051006301公開日2006年10月4日申請日期2005年4月1日優(yōu)先權(quán)日2005年4月1日發(fā)明者謝忠勤,蔡正原,林彥儒申請人:精碟科技股份有限公司