專利名稱：光盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于光盤，特別是關(guān)于利用硅高分子中的一種-PDMS，在表面涂上保護(hù)層的光盤。
背景技術(shù)：
最近，在對(duì)高密度、大容量信息儲(chǔ)存設(shè)備的需求急劇增加的趨勢下，對(duì)價(jià)格便宜、使用方便的光盤的研究也在廣泛地進(jìn)行。
其中，對(duì)采用以近場刻錄NFR(Near-Field Recording)或者SIL(Solid-Immersion Lens)進(jìn)行表面刻錄方式的研究也廣泛開展著。特別是對(duì)可以在筆記本、數(shù)碼相機(jī)、凸輪編碼器及移動(dòng)電話中使用的小型光盤的研究同樣也在一些公司中進(jìn)行，在此也致力于采用表面刻錄方式以增加刻錄密度。
在這種光盤中，大體存在兩種方式，一種是光磁盤，另一種是相變型光盤。
就這兩種方式而言，為進(jìn)行高密度刻錄而增加數(shù)值孔徑(NunericalApertureNA)的值是一種趨勢。
圖1是展示在依據(jù)現(xiàn)有技術(shù)設(shè)計(jì)的光盤進(jìn)行刻錄時(shí)，光盤和激光的施加位置的示意圖。如圖1所示，由光拾取器透鏡10集束的激光，從光盤100的基盤側(cè)入射以刻錄數(shù)據(jù)。
此時(shí)，上述光拾取器透鏡10的數(shù)值孔徑(NA)具有0.5至0.6的值，而對(duì)于最近正在開發(fā)中的藍(lán)光光盤情況，是將數(shù)值孔徑(NA)的值再擴(kuò)大設(shè)置為0.85。并且，在下一代研究的光學(xué)系統(tǒng)中，應(yīng)用更大的數(shù)值孔徑值正在成為現(xiàn)實(shí)。
在如此使用大數(shù)值孔徑的情況下，光盤100和光拾取器透鏡10之間距離變得非常狹窄，所以為保護(hù)刻錄膜免受外部沖擊或污染，必須在其上面設(shè)置保護(hù)層。
通常這種保護(hù)層傾向于選用高強(qiáng)度材料，以使表面不被污染，并且也不會(huì)因機(jī)械性沖擊使光盤的表面產(chǎn)生擦痕般的缺陷。
圖2是展示當(dāng)前正在開發(fā)的藍(lán)光光盤的普通構(gòu)造的截面的示意圖，其結(jié)構(gòu)是由聚碳酸酯之類的透明基盤110上的反射層，第1帶電層130，記錄層140，第2帶電層150及保護(hù)層160構(gòu)成的。
這樣，為了保護(hù)刻有信息的光盤表面，要在光盤的最上面形成100μm厚度的保護(hù)層160。此時(shí)，一般來說，使用紫外線硬化樹脂或者聚碳酸酯薄膜作為上述保護(hù)層160的材質(zhì)。
上述紫外線樹脂是由旋轉(zhuǎn)涂膜在光盤表面薄膜涂抹后，通過紫外線硬化的制作工藝形成，上述聚碳酸酯薄膜是由粘著劑在光盤表面粘貼方式的制作工藝形成的。
此時(shí)，在利用上述紫外線硬化樹脂制作表面保護(hù)層的情況下，很難維持厚度的均勻度，在涂抹只有數(shù)十μm的保護(hù)層時(shí)很有難度；因而，在近來為進(jìn)行高密度刻錄而制作只有數(shù)十μm厚度的簿保護(hù)層上，具有不適合的特性。另外，利用上述聚碳酸酯薄膜制作保護(hù)層，雖然可以制作既維持厚度的均勻度又使厚度只有數(shù)十μm的薄膜的保護(hù)層，但是其強(qiáng)度較低，具有增大表面產(chǎn)生劃痕的可能性的缺點(diǎn)。
因此，對(duì)于應(yīng)用近來所開發(fā)的具有0.85的大數(shù)值孔徑(NA)的光學(xué)系統(tǒng)的藍(lán)光光盤，光盤與光拾取器之間的距離非常小，同時(shí)使用聚碳酸酯薄膜的保護(hù)層，因此在刻錄時(shí)，因光盤的表面上產(chǎn)生的污染或者劃痕，使得光盤轉(zhuǎn)動(dòng)的變化余地較大。
據(jù)此，在現(xiàn)在正上市的索尼公司和TDK公司的藍(lán)光光盤中，為了制作0.1mm厚度保護(hù)層的覆蓋層(coverlayer)正利用0.08mm厚度的聚碳酸酯覆蓋薄膜。為此，為防止因上述聚碳酸酯覆蓋薄膜引起的藍(lán)光媒質(zhì)的表面污染或者表面劃痕，正在同時(shí)采用另外的光盤盒300。
采用了光盤盒的現(xiàn)在正上市的索尼公司的藍(lán)光光盤如圖3所示。
但是，在如上所述同時(shí)采用光盤盒300的情況下，則很難保證有助于磁頭在光盤上順利移動(dòng)的潤滑層的形成空間，這不僅妨害了潤滑的特性，而且通過光盤盒使得光盤的體積變大，在當(dāng)前開發(fā)超小型化光盤的事實(shí)下，帶來了應(yīng)用方面的局限性。
如上所述，目前為止所開發(fā)的保護(hù)層，如果達(dá)到一定程度的沖擊強(qiáng)度以上，基盤表面就會(huì)出現(xiàn)劃痕般的缺陷，結(jié)果給光盤的刻錄/播放帶來了影響。此外，當(dāng)有大量的材料的情況下，也存在著在表面產(chǎn)生灰塵等污染很嚴(yán)重的可能性。

發(fā)明內(nèi)容因而，本發(fā)明是為解決上述問題面設(shè)計(jì)的，其目的在于提供如下光盤能夠在根據(jù)為進(jìn)行高密度刻錄而增加的數(shù)值孔徑使光拾取器和光盤之間的距離變小的表面刻錄方式的光盤中，同時(shí)解決污染及機(jī)械沖擊問題。
本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提供即便是不使用光盤盒也能夠防止因表面污染或機(jī)械性沖擊而產(chǎn)生的劃痕的小型化的光盤。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，依據(jù)本發(fā)明的光盤的特征是，為了保護(hù)記錄層上刻錄的信息，在具備在光盤表面上設(shè)置保護(hù)層的高密度光盤中，上述保護(hù)層是由作為具有高彈性性質(zhì)的硅高分子中的一種-PDMS(polydimethylsiloxane)物質(zhì)構(gòu)成的。
此時(shí)，上述PDMS保護(hù)層是由spin coating構(gòu)成的，由1～200μm的厚度構(gòu)成是較為理想的。
而且，在上述PDMS保護(hù)層上，再包含提高磁頭潤滑特性的潤滑層是較為理想的。
并且，在上述PDMS保護(hù)層中，再包括由提高基盤硬度的DLC(Diamond-Like Carbon)構(gòu)成的強(qiáng)度補(bǔ)充層是較為理想的。
依據(jù)如上所述的本發(fā)明設(shè)計(jì)的光盤具有如下效果。
第一，在制作適合高密度刻錄的大數(shù)值孔徑的表面刻錄型光盤時(shí)，可通過表面保護(hù)層減少所產(chǎn)生的污染或劃痕，從而能夠制作除卻光盤盒的形式的光盤。
第二，由于以除卻光盤盒形式進(jìn)行制作，所以也可以涂布潤滑層確保潤滑特性。
第三，根據(jù)PDMS的變形特性，可以緩和光拾取器或高速磁頭上所產(chǎn)生的機(jī)械沖擊的一大部分，確保光盤系統(tǒng)的穩(wěn)定性。
第四，在具備用于進(jìn)行高密度刻錄的大數(shù)值孔徑的光學(xué)系統(tǒng)所適用的驅(qū)動(dòng)器用光盤以及可作為移動(dòng)存儲(chǔ)媒質(zhì)使用的小型光盤中，遏制了表面染污或劃痕產(chǎn)生的可能性，從而可以制作除即光盤盒形態(tài)的光盤。

圖1是展示在依據(jù)現(xiàn)有技術(shù)設(shè)計(jì)的光盤進(jìn)行刻錄時(shí)，光盤和激光的施加位置的示意圖。
圖2是展示當(dāng)前正在開發(fā)的藍(lán)光光盤的普通構(gòu)造的截面的示意圖。
圖3是展示采用了光盤盒的現(xiàn)在正上市的索尼公司的藍(lán)光光盤的示意圖。
圖4a，4b，4c是展示依據(jù)本發(fā)明設(shè)計(jì)的光盤的截面構(gòu)造的實(shí)施例的示意圖。
具體實(shí)施方式本說明的另一個(gè)目的、特性及優(yōu)點(diǎn)，可通過參照附圖對(duì)實(shí)施例所做的詳細(xì)說明得到了解。
對(duì)于利用依據(jù)本發(fā)明設(shè)計(jì)的PDMS的光盤及其的涂層方法的理想實(shí)例圖，參照附圖做如下說明。
圖4a，4b，4c是展示依據(jù)本發(fā)明設(shè)計(jì)的光盤的截面構(gòu)造的實(shí)施例的示意圖。
如圖4a所示，構(gòu)成由以下所構(gòu)成的光盤在由聚碳酸酯(polycarbonate)構(gòu)成的透明基盤210上設(shè)有反射層220，在上述反射層上設(shè)有由ZnS-SiO2(硫化鋅-二氧化硅)構(gòu)成的第1帶電層230，由PtOx物質(zhì)構(gòu)成的記錄層240，由ZnS-SiO2(硫化鋅-二氧化硅)構(gòu)成的第2帶電層250。
而且，在上述第2帶電層250上設(shè)有用于保護(hù)記錄層240中刻錄信息的PDMS(polydimethylsiloxane)保護(hù)層。
此時(shí)，上述PDMS(polydimethylsiloxane)保護(hù)層260因?yàn)榫哂锌箼C(jī)械沖擊的極好的彈性，所以與現(xiàn)有使用的聚碳酸酯或者紫外線硬化樹脂相比，具有很強(qiáng)的抗表面污染或劃痕產(chǎn)生的特征。
并且，上述PDMS(polydimethylsiloxane)保護(hù)層260通過spin coating方法的制作，因此可以根據(jù)PDMS的光學(xué)特性自由調(diào)節(jié)PDMS的厚度，從而形成1～200μm的厚度。
同時(shí)，如圖4c所示，在上述PDMS(polydimethylsiloxane)保護(hù)層260中，涂布潤滑層280以提高磁頭的潤滑特性，通過順利的移動(dòng)以使磁頭與媒質(zhì)表面的沖突最小化。
在上述PDMS(polydimethylsiloxane)保護(hù)層260上涂布潤滑層280時(shí)，射出成形的高分子基盤的硬度低、光盤很容易彎曲，無法徹底解決光盤表面受損傷的問題。
因此，如圖4b所示，為了解決射出成形的高分子基盤的硬度低、光盤很容易彎曲，從而使光盤表面受損傷的問題，在上述PDMS(polydimethylsiloxane)保護(hù)層260和涂布潤滑層280之間再增設(shè)由DLC(Diamond-Like Carbon)構(gòu)成的強(qiáng)度補(bǔ)充層，以提高光盤的硬度，使刻錄媒質(zhì)播放時(shí)光盤的彎曲現(xiàn)象減少。
通過以上所述的內(nèi)容，該領(lǐng)域的人員可以明白可在不脫離本發(fā)明的技術(shù)思想的范圍內(nèi)，進(jìn)行多樣的變化和修改。
因此，本發(fā)明的技術(shù)范圍并不限定于實(shí)施例中所記載的內(nèi)容，而應(yīng)由專利申請(qǐng)范圍來決定。
權(quán)利要求
1.光盤，包括所述光盤具有為保護(hù)記錄層上刻錄的信息，所述光盤表面上設(shè)置保護(hù)層，上述保護(hù)層由具有高彈性的硅高分子物質(zhì)構(gòu)成。
2.如權(quán)利要求1所述的光盤，其特征在于，上述硅高分子是PDMS(polydimethylsiloxame)物質(zhì)。
3.如權(quán)利要求1所述的光盤，其特征在于，上述PDMS保護(hù)層通過旋涂法(spin coating)構(gòu)成。
4.如權(quán)利要求3所述的光盤，其特征在于，上述PDMS保護(hù)層由1～200μm的厚度構(gòu)成。
5.如權(quán)利要求1所述的光盤，其特征在于，在上述PDMS保護(hù)層上再包含提高磁頭的潤滑特性的潤滑層構(gòu)成。
6.如權(quán)利要求1所述的光盤，其特征在于，在上述PDMS保護(hù)層上再包含由提高基盤硬度的由象鉆石的碳(Diamond-Like Carbon)構(gòu)成的強(qiáng)度補(bǔ)充層。
全文摘要
本發(fā)明是用于提供以下光盤的設(shè)置不受流污染并對(duì)機(jī)械沖擊也有很強(qiáng)保護(hù)能力的保護(hù)層，能夠在根據(jù)為進(jìn)行高密度刻錄而增加的數(shù)值孔徑使光拾取器和光盤之間的距離變小的表面刻錄方式的光盤中，同時(shí)解決污染及機(jī)械沖擊問題。就具有為保護(hù)記錄層上所刻錄的數(shù)據(jù)而在光盤的表面設(shè)置保護(hù)層的高密度光盤而言，上述保護(hù)層由具有高彈性的硅高分子中的一種－PDMS(polydimethylsiloxame)物質(zhì)構(gòu)成。
文檔編號(hào)G11B7/24GK1750148SQ200410066470
公開日2006年3月22日 申請(qǐng)日期2004年9月17日 優(yōu)先權(quán)日2004年9月17日
發(fā)明者徐勛, 金鐘煥 申請(qǐng)人:上海樂金廣電電子有限公司