專利名稱：光盤媒體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及對應(yīng)高密度的光盤媒體。
背景技術(shù)：
近年來，光盤在AV(音頻·視頻)上的應(yīng)用十分活躍。例如，主要用于電影內(nèi)容的DVD(Digital Versatile Disc)中，開發(fā)了DVD-R、DVD-RAM、DVD-RW等之類的只可寫入一次和可以反復(fù)擦寫的格式，并作為下一代的錄像機(jī)逐漸普及。隨著電臺數(shù)字播出和寬帶通信的普及，盼望著出現(xiàn)一種可以存儲更高畫質(zhì)的壓縮影像和在相同容量下體積更小的便于隨身攜帶并與網(wǎng)絡(luò)親和性高的光盤格式。
這些下一代的光盤必須是高密度化的。然而現(xiàn)在所提出的DVD，直徑為120mm的盤內(nèi)容量為4.7GB，但與數(shù)字廣播相同畫質(zhì)的ROM等，為了對進(jìn)行記錄再生，其容量必須要在20GB以上。這時(shí)，必須要5倍以上的密度。
通常，光盤的密度，取決于記錄和再生的光束的光斑直徑，光束的光斑直徑由λ/NA(λ波長，NA物鏡的數(shù)值孔徑)決定。因此，為了實(shí)現(xiàn)高密度化，必須縮短波長，提高NA。在波長一定的情況下，提高NA的話，會造成由于光盤傾斜引起的彗形象差的問題，所以采取將光束透過層薄化的辦法。使用此方法的光盤媒體，在特開平10-326435號公報(bào)提出。
圖12所示為現(xiàn)有的光盤300的剖面圖。現(xiàn)有的光盤300包含透光層301、接收通過透光層301的光束光斑304的記錄層302和基板303?；?03通常由聚碳酸酯形成。透光層301由聚碳酸酯的薄膜和作為粘合劑的UV樹脂或者壓敏性粘合劑等構(gòu)成，厚度約為0.003～0.177mm的范圍。使用這樣構(gòu)成的光盤300，通過使軌道間距比現(xiàn)有的窄化、記錄再生光束使用400nm～450nm的波長、并使用NA0.85的物鏡，能夠確保DVD的5倍以上的密度。
但是，為了實(shí)現(xiàn)較窄的軌道間距，對高精密和高精確度的光盤基板的開發(fā)不可欠缺。其中，成型工藝對高精確度地復(fù)制狹窄的軌道間距和細(xì)小的預(yù)置凹坑十分重要。像這樣在信號記錄面的內(nèi)周到外周進(jìn)行形狀復(fù)制均勻的成型是非常困難的。通常，通過使成型機(jī)的模具溫度上升可以使內(nèi)外周的復(fù)制做到某種程度的相同。但是，若使模具溫度上升，則基板自身的翹曲會變大，因而該系統(tǒng)不能成立。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明鑒于上述問題，其目的在于，提供一種在基板成型和信號品質(zhì)上穩(wěn)定、適于裝置的薄型化的高密度的光盤媒體。
為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明的光盤媒體，包括具有從中心孔延半徑方向向外方延伸到到信號起始邊界的內(nèi)周區(qū)域及從所述信號起始邊界延半徑方向向外方延伸的信號區(qū)域的記錄層；和所述記錄層上配置的透光層。所述記錄層的所述透光層一側(cè)的面的所述信號區(qū)域占據(jù)激光入射面，從而介有所述透光層地通過所述記錄層進(jìn)行信息的再生或者記錄和再生。平坦地形成所述記錄層的所述透光層一側(cè)的所述面的所述內(nèi)周區(qū)域，并且，所述光盤媒體的與所述透光層相反側(cè)的面上，與所述記錄層的所述內(nèi)周區(qū)域相對應(yīng)的區(qū)域內(nèi)，設(shè)有凹部。


圖1為用于形成本發(fā)明的光盤的基板的盤成型模具的剖面圖。
圖2為本發(fā)明第1種實(shí)施方式中涉及的光盤的剖面圖。
圖3為表示圖2的光盤基板成型時(shí)的半徑和復(fù)制率的關(guān)系的曲線圖。
圖4為表示光盤的凹坑大小和復(fù)制率關(guān)系的表。
圖5為表示光盤的軌道間距和復(fù)制率關(guān)系的曲線圖。
圖6為本發(fā)明第2種實(shí)施方式中涉及的光盤的剖面圖。
圖7(a)和圖7(b)為作為圖6光盤的第1種變形例光盤的剖面圖。
圖8為作為圖6光盤的第2種變形例光盤的剖面圖。
圖9為安裝圖6光盤的電機(jī)驅(qū)動器的剖面圖。
圖10為本發(fā)明第3種實(shí)施方式中涉及的光盤的剖面圖。
圖11為作為圖10光盤的變形例光盤的剖面圖。
圖12為現(xiàn)有的光盤的剖面圖。
具體實(shí)施例方式
下面，參照附圖對本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說明。圖1所示為用于形成本發(fā)明的光盤基板的盤成型模具200。通過將此盤成型模具200安裝在成型機(jī)上來制光盤基板。在固定側(cè)模具202和可動側(cè)模具203之間被稱作模槽209的間隙中，通過從導(dǎo)入口208充填構(gòu)成基板材料的樹脂，來形成基板。形成成為信號的記錄再生區(qū)域的溝槽或凹坑的壓模201，通過壓模止動部204被固定并在基板上復(fù)制溝槽或凹坑。另外，固定側(cè)模具202和可動側(cè)模具203各自具有分離模具氣體導(dǎo)入通道205和206。
下面對成型時(shí)的動作進(jìn)行說明。首先，在可動側(cè)模具203與固定側(cè)模具202接合之前，通過樹脂導(dǎo)入口208向模槽209中導(dǎo)入高溫熔解的樹脂?？蓜觽?cè)模具203和固定側(cè)模具202接合后，通過施加壓力，在模槽209的間隙中形成盤。此時(shí)設(shè)定導(dǎo)入的樹脂的溫度為380℃左右，固定側(cè)模具202和可動側(cè)模具203的溫度設(shè)定為120℃左右。模具中的溫度比樹脂溫度低，是為了在模具中，使盤可以冷卻并凝固。
本發(fā)明的光盤基板，使用此盤成型模具200來制作，基板的凹部的形狀通過環(huán)狀凸出部207制作成各種大小。
(實(shí)施方式1)圖2所示為本發(fā)明的實(shí)施方式1中所涉及的光盤30的剖面圖。光盤30包含通過盤成型模具200成型的基板33、記錄層32和透光層31。通過盤成型模具200而設(shè)有凹部34的基板33通常由聚碳酸酯形成。透光層31由聚碳酸酯的薄膜和作為粘合劑的UV樹脂或者壓敏性粘合劑等構(gòu)成。圖2中，記錄層32的上面的外周側(cè)的信號區(qū)域107(圖8)成為激光射入面，而記錄層32的上面的內(nèi)周側(cè)的盤夾區(qū)域108被平坦地形成。圖8的外周側(cè)信號區(qū)域107和內(nèi)周側(cè)盤夾區(qū)域108通過信號開始邊界相互分離。同時(shí)，凹部34設(shè)在基板上與記錄層32的盤夾區(qū)域108相對應(yīng)的區(qū)域內(nèi)。這里，為了令透光層31具有的厚度為100微米，設(shè)定聚碳酸酯層的厚度為70微米，UV樹脂的厚度為30微米。本實(shí)施方式中，通過旋涂UV樹脂，使聚碳酸酯層與記錄層32結(jié)合。同時(shí)，記錄再生用的引導(dǎo)溝構(gòu)成為設(shè)置在基板33上，引導(dǎo)溝的深度為140nm。并且，光盤30具有中心孔35。
圖3所示為光盤30的基板33形成時(shí)的半徑和復(fù)制率的關(guān)系。為進(jìn)行比較將所述現(xiàn)有的光盤300(圖12)的基板303的值也在圖3中表示出來。圖3中，橫坐標(biāo)表示基板33的半徑(mm)，縱坐標(biāo)表示溝槽深度(nm)的復(fù)制率。與現(xiàn)有的光盤基板隨著往外周去，復(fù)制的惡化相對，本發(fā)明的光盤30的基板33，雖然模具溫度相同但從外周到內(nèi)周，獲得相同的溝槽深度。
這是由于光盤30的基板33上設(shè)有凹部34的緣故。基板33在成型時(shí)，樹脂在高溫下被導(dǎo)入模具內(nèi)。但是，由于模具溫度是為了樹脂凝固的溫度，所以樹脂在導(dǎo)入的同時(shí)便開始冷卻。這里，像現(xiàn)有的光盤300的基板303那樣光入射面及其相反面上沒有凹凸時(shí)，由于樹脂邊冷卻邊到達(dá)外周部，所以在壓模上所形成的高密度溝槽，也就是細(xì)的溝槽中，不能很好地進(jìn)入樹脂，結(jié)果，復(fù)制性惡化。
而在本發(fā)明光盤30的基板33，進(jìn)入模具內(nèi)的樹脂，先被限制在凹部中。這時(shí)，通過被限制使得樹脂的壓力增高，使溫度進(jìn)入再加熱的狀態(tài)。從而，通過凹部34之后的樹脂就以高溫到達(dá)基板33的外周部，結(jié)果，高密度構(gòu)成的溝槽也能被樹脂完全地復(fù)制。另外，因?yàn)樵诒３值蜏貭顟B(tài)下使基板33成型，所以模具溫度變高時(shí)的基板33的彎曲度也會不增大。
(表1)所示為設(shè)定基板33的厚度為1.1mm，外徑為80mm，令凹部34的大小為距基板內(nèi)徑2mm，深度0.3mm時(shí)，中心孔35的直徑，即盤內(nèi)徑w(mm)在盤半徑方向位置r(mm)上的復(fù)制率。用軌道間距0.3微米、溝槽寬0.2微米、溝槽深30nm的壓模成型后的基板33的溝槽深除以壓模的溝槽深來計(jì)算復(fù)制率。成型時(shí)的樹脂溫度為380℃、模具溫度為125℃。形成的溝槽直徑為22～79mm。
(表1)

從(表1)可以看出，即使盤內(nèi)徑w為6mm這種非常小的盤中也能得到復(fù)制率97％這樣非常好的值。在盤內(nèi)徑小的情況下，使得對由樹脂冷卻形成的信號外周部的復(fù)制變得較難，若利用本發(fā)明，在比盤內(nèi)徑w為20mm還要小的情況下也能獲得很好的復(fù)制率，并且，能夠制作盤內(nèi)徑w不大于6mm的可使用的盤。
圖4所示為設(shè)基板33的厚度為1.1mm，外徑為80mm，使凹部34的大小變化時(shí)，凹部大小與復(fù)制率的關(guān)系。凹部34的深度為0.3微米。用軌道間距0.3微米、溝槽寬0.2微米、溝槽深30nm的壓模成型后基板33的溝槽深度除以壓模的溝槽深度來計(jì)算復(fù)制率。設(shè)w(mm)為盤內(nèi)徑，w1表為凹部34的直徑(mm)時(shí)，用(w/w1)表示比率W。這時(shí)，凹部34的寬度b(mm)可以用式{b＝(w1-w)/2}來表示。
通過圖4可以看到，不受內(nèi)徑w影響，在比率W為0.89下，復(fù)制率有略微的下降，但因?yàn)槭窃?5％的程度，所以可以認(rèn)為是對記錄再生基本沒有影響的水平。此外，為了在符合要求的水平下進(jìn)行記錄再生，復(fù)制率最好超過90％。通過使用本發(fā)明的光盤基板33的實(shí)施方式，在內(nèi)徑w為8～15mm，W為0.44～0.89的范圍內(nèi)，能夠獲得足夠的復(fù)制率。
另外，通過圖4可以看出，內(nèi)徑w為15mm或16mm，W＝1時(shí)，與現(xiàn)有的盤形狀相同，在內(nèi)徑w為16mm的情況下，本發(fā)明幾乎沒有起到什么效果。這是由于內(nèi)徑w變大，樹脂的導(dǎo)入通道也變大，使得復(fù)制率上升。本實(shí)施方式中，內(nèi)徑w為15mm處，與W＝1的差異可以確認(rèn)，所以在內(nèi)徑w不大于15mm的盤中，可以獲得本發(fā)明的效果。
(表2)

(表2)所示為設(shè)定基板厚度為1.2mm，外徑為80mm，凹部34的深度的大小變化時(shí)，凹部34的深度和復(fù)制率的關(guān)系。令盤內(nèi)徑w和凹部34的直徑之比W為0.7。與之前同樣，用軌道間距0.3微米、溝槽寬0.2微米、溝槽深30nm的壓模成型后的基板33的溝槽深度除以壓模的溝槽深度來計(jì)算復(fù)制率。如圖2所示，凹部34的深度可以用(d1-d)來表示，其中d表示凹部34的區(qū)域的深度、d1表示盤體自身，即，盤體部分31～33合計(jì)的厚度。凹部34的深度(d1-d)表示凹部34的底面到透光層31的表面的距離。這里，使凹部34的深度(d1-d)在1.2(即，沒有凹部34的狀態(tài))到0.1之間變化。
可以看出凹部34的深度(d1-d)只從1.2變?yōu)?.1便令復(fù)制率顯著地改善。相反的，凹部34的深度(d1-d)為0.1時(shí)，由于盤體自身只剩下0.1mm的厚度，使樹脂的充填不夠充分而導(dǎo)致復(fù)制率下降。此外，此時(shí)由于在從成型工序向制膜工序轉(zhuǎn)移時(shí)的對基板33的處理中，盤內(nèi)徑已經(jīng)發(fā)生變形，禁受不住實(shí)際的使用。但是，凹部34的深度(d1-d)變?yōu)?.2mm時(shí)，復(fù)制率和處理同時(shí)得到改善。由于盤體自身的剛性基本上和厚度的3倍成正比，所以可以認(rèn)為處理時(shí)盤體沒有發(fā)生變形。因此可以確認(rèn)，凹部34的深度(d1-d)在小于0.12mm并且大于0.1mm的厚度范圍內(nèi)，本發(fā)明成立。同時(shí)，考慮到凹部34的剛性，凹部34的深度(d1-d)最好在0.3～0.8的范圍內(nèi)。
圖5所示為光盤30的基板33的軌道間距和復(fù)制率的關(guān)系。這里使用的本發(fā)明的光盤30為，W＝0.8、d1-d＝0.6mm的光盤。成型時(shí)使用的壓模為，溝槽深度30nm、溝槽的凹部(groove)和凸起(land)的寬度比為1∶1，軌道間距隨每一環(huán)狀帶變化。圖5中，一旦軌道間距窄于0.4μm，則現(xiàn)有的光盤對溝槽的復(fù)制便會惡化。而另一方面，使用本發(fā)明中的光盤，軌道間距即使為0.2μm，也能良好地復(fù)制。
同時(shí)，本實(shí)施方式中，雖將外形設(shè)定為80mm進(jìn)行試驗(yàn)，但是并沒有限定于此外形，例如在外形約為50mm和120mm的光盤中，可以獲得同樣的效果。
(實(shí)施方式2)圖6所示為本發(fā)明的實(shí)施方式2所涉及的光盤50的剖面圖。光盤50包含通過盤成型模具200成型的基板51、記錄層52和透光層53的同時(shí)，還具有凹部54。通過盤成型模具200形成的設(shè)有凹部的基板51通常由聚碳酸酯構(gòu)成。透光層53由聚碳酸酯的薄膜和作為粘合劑的UV樹脂或者壓敏性粘合劑等構(gòu)成。這里，為了使透光層53具有100微米的厚度，設(shè)定聚碳酸酯層的厚度為70微米，UV樹脂的厚度為30微米。另外，在基板51上設(shè)置記錄再生用的引導(dǎo)溝，令引導(dǎo)溝的深度為140nm。同時(shí)，基板51的凹部54上安裝著由磁性體構(gòu)成的盤芯55。盤芯55用粘合劑被固定在凹部54上，或者通過將基板的一部分進(jìn)行超聲波焊接來進(jìn)行固定。
通常，光盤50在轉(zhuǎn)盤上固定的方法為通過位于盤上面的盤芯來機(jī)械地進(jìn)行固定；通過在轉(zhuǎn)盤上設(shè)置的固定爪，將盤從下用撞塊撞擊來進(jìn)行固定；以及，通過由磁性體來構(gòu)成盤芯并在電動機(jī)上配置磁鐵的辦法來進(jìn)行固定。若在盤的上面配置盤芯，就必須一定的盤芯高度，不利于盤驅(qū)動器的薄型化。本發(fā)明中，如圖6所示由磁性體構(gòu)成的盤芯55安裝于本發(fā)明的光盤50的凹部上。
磁性板芯55，可以用壓扁凹部54的外周面來進(jìn)行固定，也能夠通過使凹部54的形狀變化來進(jìn)行簡單的制作。
圖6的光盤50中由于在基板51上確實(shí)安裝著磁性板芯55，圖7(a)和圖7(b)所示為作為圖6光盤50的第1變形例的光盤90。除了基板91、記錄層92、透光層93、凹部94和磁性板芯95，光盤90還包括焊接有磁性板芯95的凸起部96。光盤90的磁性板芯95與圖6的磁性板芯55相當(dāng)。圖7(b)所示為，通過進(jìn)行超聲波焊接或者加熱，將凸起部96沿光盤90的半徑方向，向內(nèi)壓扁后形成的焊接部97的形狀。通過在凹部94的周面上設(shè)置凸起部96，可以簡單地將磁性板芯安裝在基板91上。這時(shí)，超聲波焊接所必要的凸起部96的高度，在超聲波焊接之后，磁性板芯不從基板91上分離也可。本發(fā)明的光盤90，由于具有凹部94，分離很少一點(diǎn)即可。設(shè)包含凸起部96的光盤90的整體高度為d2，整個(gè)盤體的厚度，即，盤構(gòu)成部91～93的合計(jì)厚度為d2，凸起部96的高度(d2-d1)為，與基板91的光入射面相反側(cè)上1mm的程度就足夠，但在實(shí)驗(yàn)時(shí)最好為1mm到5mm。
另外，通過令凸起部96的寬度在基板91上形成0.1mm以上，便能夠構(gòu)成焊接部97。實(shí)驗(yàn)的結(jié)果為，凸起部96的寬度最好不小于0.2mm，0.2～10mm更好。
但是，例如，注射塑膜寬度0.1mm，高度5mm的凸起部96時(shí)，對凸起部96的樹脂復(fù)制變得不穩(wěn)定的。另外，由于存在凸起部96，通過凹部94的樹脂，樹脂的流動被擾亂，凸起部96的下面，即，用于夾盤的區(qū)域也可能變得不穩(wěn)定。
這里，為了穩(wěn)定地形成凸起部96，圖8所示的為作為圖6光盤50的第2變形例的光盤100。光盤100備有基板101、記錄層102、透光層103、凹部104、磁性板芯105和凸起部106的同時(shí)，在記錄層102的外周側(cè)和內(nèi)周側(cè)上，分別配置有信號區(qū)域107和盤夾區(qū)域108。信號區(qū)域107和盤夾區(qū)域108通過信號起始邊界相分離。圖8中，記錄層102的下面的信號區(qū)域107占據(jù)了激光入射面的同時(shí)，平坦地形成記錄層102的下面的盤夾區(qū)域108。另外，凹部104設(shè)置在與記錄層102的盤夾區(qū)域108對應(yīng)區(qū)域內(nèi)的基板101上。光盤100中，凸起部106，具有2個(gè)臺階部t1和t2。凸起部106通過具有2個(gè)臺階部t1和t2，樹脂在光盤100中可以比在圖7的光盤90更圓滑地流動。這樣，即使不犧牲盤夾區(qū)域108，焊接也能做成。凸起部106的內(nèi)周面f1和外周面f2，雖然也可構(gòu)成為與光入射面垂直，但為了樹脂流動性更好，最好使其傾斜于與光入射面的相垂直的面。圖8的凸起部106中，內(nèi)周面f1與光入射面相垂直，只有外周面f2相對于與光入射面相垂直的面傾斜。
另外，通過將凸起部106的外周面f2配置在光盤100的半徑方向中與記錄層102的信號起始邊界相對應(yīng)位置的內(nèi)側(cè)，由于注射塑膜時(shí)的壓力在信號區(qū)域里再次變高，起到有利于復(fù)制的作用同時(shí)，還獲得使盤夾區(qū)域108的強(qiáng)度上升這2個(gè)優(yōu)點(diǎn)。通過實(shí)驗(yàn)，包含傾斜的區(qū)域f2凸起部106的寬度，1mm以上便可，2～8mm更佳。
圖9所示為裝有圖6的光盤50的電機(jī)驅(qū)動器的剖面圖。裝有磁性板芯55的光盤50，被送入盤倉113內(nèi)。光盤50通過驅(qū)動器114內(nèi)配置的磁鐵111被保持。如圖9所示，在使用本發(fā)明的光盤50的情況中，通過使用磁性板芯55，與機(jī)械地固定盤的情況相比，可以使電機(jī)驅(qū)動器設(shè)計(jì)得更薄并且，與沒有凹部的光盤形狀相比，盤倉113自身的厚度也可以更薄。
(實(shí)施方式3)圖10所示為本發(fā)明實(shí)施方式3中涉及的光盤120的剖面圖。光盤120包含透光層121、第1記錄層122、由UV樹脂形成的中間層123、第2記錄層124和用盤成型摸具200成型的基板125的同時(shí)，還具有凹部126。通過盤成型模具200成型的設(shè)有凹部126的基板125，通常由聚碳酸酯形成。透光層121由聚碳酸酯的薄膜和作為粘合劑的UV樹脂或者壓敏性粘合劑等構(gòu)成。
下面，對本發(fā)明的光盤120的中間層123及第一記錄層122的制作方法進(jìn)行說明。首先在基板125成型之后，進(jìn)行信號的記錄再生的第二記錄層12通過濺射進(jìn)行制膜。制膜后，將UV樹脂通過旋涂形成中間層123。第一記錄層122用的壓模緊貼在中間層123上，在中間曾123中制作溝槽。將第一記錄層122用的壓模取下之后，調(diào)整第一記錄層122的厚度使得光可以透過到第二記錄層124，并且通過濺射進(jìn)行制制膜，同時(shí)，與實(shí)施方式1中同樣，通過將聚碳酸脂層結(jié)合在第一記錄層122上，形成透光層121。這里，為了讓從第二記錄層到透光層121的表面的厚度為100微米，設(shè)定中間層的厚度為25微米，聚碳酸酯層的厚度為50微米，UV樹脂的厚度為25微米。
光盤120的記錄再生為，通過在記錄層122和124各自上結(jié)合對焦和尋道來進(jìn)行。因此，通過透過第一記錄層122的光及反射光，進(jìn)行第二記錄層124的記錄再生。通過第一記錄層122到達(dá)第二記錄層124的反射光，與只有一層記錄層的時(shí)候相比，因?yàn)楣鈴?qiáng)變低所以需要非常高的精度。本實(shí)施方式中，透光層121的相反側(cè)的面上構(gòu)成有凹部126，因?yàn)槟苁箿喜鄣膹?fù)制率增加，可以制作與現(xiàn)有的光盤相比更高精度的溝槽。
圖11所示為作為圖10的光盤120的變形例130。光盤130中，在凹部126上裝有與圖6的磁性板芯相當(dāng)?shù)慕饘俦P芯135。因此，光盤130中，可以獲得在圖10光盤120的效果上加以圖6光盤50的效果的效果。
本發(fā)明的實(shí)施方式中，在透光層上雖然用的聚碳酸酯層，但并不限定于此，例如也可以用烯烴樹脂層和丙烯酸類樹脂層，或者僅UV樹脂和UV樹脂與聚碳酸酯層來代替。
另外，透光層的厚度雖然設(shè)為0.1mm，但是并不限定于此，例如令聚碳酸酯層的厚度為0.25mm、UV樹脂的厚度設(shè)為50μm并制作0.3mm的透光層也可獲得同樣的效果。
通過以上說明可以清楚知道，使用利用本發(fā)明的光盤媒體，可以在維持盤彎曲度為很小值得情況下使基板成型時(shí)的復(fù)制性大幅上升，并且實(shí)現(xiàn)薄型化，能夠提供一種將盤彎曲度控制在很小值的同時(shí)具有大容量、高密度、薄型化的合適的光盤。
權(quán)利要求
1.一種光盤媒體，包括具有從中心孔沿半徑方向向外延伸到信號起始邊界的內(nèi)周區(qū)域及從所述信號起始邊界沿半徑方向向外延伸的信號區(qū)域的記錄層；和配置在所述記錄層上的透光層，所述記錄層的所述透光層一側(cè)的面的所述信號區(qū)域占據(jù)激光入射面，以便介有所述透光層地通過記錄層來進(jìn)行信息的再生或者記錄和再生，其特征在于平坦地形成所述記錄層的所述透光層一側(cè)的所述面的所述內(nèi)周區(qū)域，并且，在所述光盤媒體的與所述透光層相反側(cè)的一面上，在與所述記錄層的所述內(nèi)周區(qū)域相對應(yīng)的區(qū)域內(nèi)設(shè)有凹部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤媒體，其特征在于所述凹部的區(qū)域的直徑不小于11mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤媒體，其特征在于設(shè)所述中心孔的直徑為w，所述凹部的直徑為w1時(shí)，則用W＝w/w1所示的比率為0.4～0.9。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤媒體，其特征為設(shè)所述凹部的區(qū)域的深度為d、所述光盤媒體的盤體自身的厚度為d1時(shí)，則d1-d滿足0.1＜d1-d＜1.2，其中，d、d1的單位為mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤媒體，其特征在于軌道間距不大于0.4微米。
6.一種光盤媒體，包括具有從中心孔沿半徑方向向外延伸到信號起始邊界的內(nèi)周區(qū)域及從所述信號起始邊界沿半徑方向向外延伸的信號區(qū)域的記錄層；和配置在所述記錄層上的透光層，所述記錄層的所述透光層一側(cè)的面的所述信號區(qū)域占據(jù)激光入射面，以便介有所述透光層地通過記錄層來進(jìn)行信息的再生或者記錄和再生，其特征在于平坦地形成所述記錄層的所述透光層一側(cè)的所述面的所述內(nèi)周區(qū)域，并且，在所述光盤媒體的與所述透光層相反側(cè)的一面上，在與所述記錄層的所述內(nèi)周區(qū)域相對應(yīng)的區(qū)域內(nèi)設(shè)有凹部的同時(shí)，所述凹部上安裝著磁性板。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光盤媒體，其特征在于所述凹部的區(qū)域的直徑不小于11mm。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光盤媒體，其特征在于設(shè)所述中心孔的直徑為w，所述凹部的直徑為w1時(shí)，則用W＝w/w1所示的比率為0.4～0.9。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光盤媒體，其特征為設(shè)所述凹部的區(qū)域的深度為d、所述光盤媒體的盤體自身的厚度為d1時(shí)，則d1-d滿足0.1＜d1-d＜1.2，其中，d、d1的單位為mm。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光盤媒體，其特征在于軌道間距不大于0.4微米。
11.一種光盤媒體，包括具有從中心孔沿半徑方向向外延伸到信號起始邊界的內(nèi)周區(qū)域及從所述信號起始邊界沿半徑方向向外延伸的信號區(qū)域，且至少由2層組成的記錄層；和配置在所述記錄層上的透光層，所述記錄層的所述透光層一側(cè)的面的所述信號區(qū)域占據(jù)激光入射面，以便介有所述透光層地通過記錄層來進(jìn)行信息的再生或者記錄和再生，其特征在于平坦地形成所述記錄層的所述透光層一側(cè)的所述面的所述內(nèi)周區(qū)域，并且，在所述光盤媒體的與所述透光層相反側(cè)的一面上，在與所述記錄層的所述內(nèi)周區(qū)域相對應(yīng)的區(qū)域內(nèi)設(shè)有凹部。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光盤媒體，其特征在于所述中心孔的直徑不大于15mm。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光盤媒體，其特征在于設(shè)所述中心孔的直徑為w，所述凹部的直徑為w1時(shí)，則用W＝w/w1所示的比率為0.4～0.9。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光盤媒體，其特征為設(shè)所述凹部的區(qū)域的深度為d、所述光盤媒體的盤體自身的厚度為d1時(shí)，則d1-d滿足0.1＜d1-d＜1.2，其中，d、d1的單位為mm。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光盤媒體，其特征在于軌道間距不大于0.4微米。
16.一種光盤媒體，包括具有從中心孔沿半徑方向向外延伸到信號起始邊界的內(nèi)周區(qū)域及從所述信號起始邊界沿半徑方向向外延伸的信號區(qū)域，且至少由2層組成的記錄層；和配置在所述記錄層上的透光層，所述記錄層的所述透光層一側(cè)的面的所述信號區(qū)域占據(jù)激光入射面，以便介有所述透光層地通過記錄層來進(jìn)行信息的再生或者記錄和再生，其特征在于平坦地形成所述記錄層的所述透光層一側(cè)的所述面的所述內(nèi)周區(qū)域，并且，在所述光盤媒體的與所述透光層相反側(cè)的一面上，在與所述記錄層的所述內(nèi)周區(qū)域相對應(yīng)的區(qū)域內(nèi)設(shè)有凹部的同時(shí)，所述凹部上安裝著金屬板。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的光盤媒體，其特征在于所述凹部的區(qū)域的直徑不小于11mm。
18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的光盤媒體，其特征在于設(shè)所述中心孔的直徑為w，所述凹部的直徑為w1時(shí)，則用W＝w/w1所示的比率為0.4～0.9。
19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的光盤媒體，其特征為設(shè)所述凹部的區(qū)域的深度為d、所述光盤媒體的盤體自身的厚度為d1時(shí)，則d1-d滿足0.1＜d1-d＜1.2，其中，d、d1的單位為mm。
20.根據(jù)權(quán)利要求16所述的光盤媒體，其特征在于軌道間距不大于0.4微米。
21.根據(jù)權(quán)利要求6或16所述的光盤媒體，其特征在于在與所述光盤媒體的所述透光面相反側(cè)的所述面上，設(shè)有高度為對于所述光盤媒體的盤體自身厚度而言所希望的高度的凸起部。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的光盤媒體，其特征在于設(shè)包含所述凸起部的所述光盤媒體的整體高度為d2、所述盤體自身厚度為d2時(shí)，則滿足d2-d1＜5，其中，d、d1的單位為mm。
23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的光盤媒體，其特征在于所述凸起部的寬度大于0.1mm。
24.根據(jù)權(quán)利要求21所述的光盤媒體，其特征在于所述凸起部具有2個(gè)臺階部。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的光盤媒體，其特征在于在所述光盤媒體的半徑方向上的與所述記錄層的所述信號起始邊界相對應(yīng)的位置的內(nèi)側(cè)上，配置所述凸起部的外周面。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的光盤媒體，其特征在于所述凸起部的所述外周面和內(nèi)周面的至少一方，傾斜于與垂直于所述激光入射面的面。
27.根據(jù)權(quán)利要求21所述的光盤媒體，其特征在于使所述凸起部的內(nèi)周面變形。
28.根據(jù)權(quán)利要求26所述的光盤媒體，其特征在于通過用超聲波或者熱熔解使所述凸起部變形。
全文摘要
一種適于高密度化的高分辨率和高精確度的光盤媒體，其包括具有從中心孔沿半徑向外延伸到信號起始邊界的內(nèi)周區(qū)域及從信號起始邊界沿半徑向外延伸的信號區(qū)域的記錄層和配置在記錄層上的透光層，并且，通過透光層用記錄層進(jìn)行信息的再生或者記錄和再生，記錄層的透光層一側(cè)的面的信號區(qū)域占據(jù)激光入射面，并且，在平坦地形成記錄層的透光層一側(cè)的面的內(nèi)周區(qū)域的同時(shí)，在光盤媒體的透光層相反側(cè)的面上，在與記錄層的內(nèi)周區(qū)域相對應(yīng)的區(qū)域內(nèi)設(shè)有凹部。
文檔編號G11B7/24GK1623199SQ0282864
公開日2005年6月1日 申請日期2002年12月17日 優(yōu)先權(quán)日2002年4月8日
發(fā)明者錦織圭史, 川崎吉弘, 大野銳二, 林一英 申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社