專利名稱：記錄和/或再現(xiàn)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種記錄和/或再現(xiàn)裝置，并且尤其涉及適合于在其一面具有兩記錄層的光盤上記錄數(shù)據(jù)和/或從所述光盤上再現(xiàn)數(shù)據(jù)的一種裝置。
背景技術(shù)：
雙層記錄再現(xiàn)光盤的開發(fā)現(xiàn)在正在進展中，其中在所述光盤一面上形成雙層記錄薄膜以使每面的記錄容量加倍。
如

圖1的剖面圖所示，雙層記錄再現(xiàn)光盤在它的聚碳酸酯等襯底上具有用于記錄數(shù)據(jù)的記錄薄膜L1層、間隔層、用于記錄數(shù)據(jù)的記錄薄膜L0層、以及用于保護在其下面形成的記錄薄膜L0層等等的覆蓋層。用于照射激光束到所述雙層記錄-再現(xiàn)光盤和從此接收反射光束的光拾取器(未示出)定位于該圖的上部。在下文中，在不需要互相區(qū)分這兩層的情形中將記錄薄膜L0層和記錄薄膜L1層簡稱為記錄層。
為了在這樣的雙層記錄-再現(xiàn)光盤的記錄層中記錄數(shù)據(jù)，有必要通過首先將它劃分為每個有2048(＝2K)字節(jié)組成的段，作為用于記錄和再現(xiàn)的單元、并且接著在每個段的首標上記錄段地址來格式化所述記錄層。
關(guān)于在記錄層中記錄段地址和數(shù)據(jù)的技術(shù)，公知的有通過在雙層記錄-再現(xiàn)光盤的制造中的刻蝕等形成凹坑(小洞)的方法；通過照射激光束到已完成的雙層記錄-再現(xiàn)光盤的記錄層來記錄標記的另一方法。在下文中，將在雙層記錄-再現(xiàn)光盤的制造處理中形成的凹坑稱為“刻蝕凹坑(embossedpit)”。
如圖1所示，當在雙層記錄-再現(xiàn)光盤的記錄薄膜L1層中記錄任何標記和/或從雙層記錄-再現(xiàn)光盤的記錄薄膜L1層中讀取任何標記時，從未示出的光拾取器中發(fā)射的激光束會經(jīng)由記錄薄膜L0層照射到記錄薄膜L1層上，并且自記錄薄膜L1層的反射光束將經(jīng)由記錄薄膜L0層由該光拾取器接收。
根據(jù)激光束的發(fā)射和反射，具有刻蝕凹坑或者標記的記錄薄膜層的任何部分不同于其沒有這樣的凹坑或者標記的其它部分。
結(jié)果，在經(jīng)由記錄薄膜L0層照射激光束到記錄薄膜L1層中或者在經(jīng)由記錄薄膜L0層從記錄薄膜L1層接收反射光束中，根據(jù)在記錄薄膜L0層上的這樣的刻蝕凹坑或者標記的出現(xiàn)或者不出現(xiàn)，在所照射或反射的光束的幅度上發(fā)生一些改變或者偏移，由此提出一問題在記錄薄膜L1層上高精度記錄或者從記錄薄膜L1層再現(xiàn)標記是困難的。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述情況而實現(xiàn)本發(fā)明。本發(fā)明的目的是在雙層記錄-再現(xiàn)光盤的記錄薄膜L0層和記錄薄膜L1層上實現(xiàn)高精度記錄標記和/或從其中再現(xiàn)標記。
本發(fā)明的記錄-再現(xiàn)裝置包括記錄部件，用于通過照射激光束到光盤上而在第一或者第二記錄層上記錄一標記；光束接收部件，用于接收照射到光盤并從中反射的激光束；數(shù)據(jù)信號產(chǎn)生部件，用于根據(jù)由所述光束接收部件接收的反射光束產(chǎn)生數(shù)據(jù)信號；控制信號產(chǎn)生部件，用于根據(jù)由所述光束接收部件接收的反射光束產(chǎn)生控制信號；檢測部件，用于檢測在第一記錄層中的首標區(qū)；以及格式化部件，用于通過控制所述記錄部件在由所述檢測部件檢測的首標區(qū)中記錄對應于首標的標記來格式化所述第一記錄層。
所述光盤的第二記錄層可以是由刻蝕凹坑格式化的記錄層。
在光盤的第一和第二記錄層上的軌道中可以形成擺動(wobble)，并且所述擺動的相位可以恰在首標區(qū)之前反轉(zhuǎn)。
本發(fā)明的記錄-再現(xiàn)裝置還可以包括擺動信號發(fā)生器，用于響應于反射光束信號產(chǎn)生對應于在軌道上形成的擺動的擺動信號；以及調(diào)整部件，用于基于所述擺動信號調(diào)整同步信號。
檢測部件可以能夠根據(jù)所述擺動信號的相位的反轉(zhuǎn)檢測首標區(qū)。
檢測部件可以能夠根據(jù)所述數(shù)據(jù)信號檢測一鏡像標記(mirror mark)，該鏡像標記相應于該首標區(qū)。
本發(fā)明的記錄-再現(xiàn)方法包括記錄步驟，通過照射激光束到光盤上而在第一或第二記錄層上記錄一標記；光束接收步驟，接收照射到光盤并從中反射的激光束；數(shù)據(jù)信號產(chǎn)生步驟，根據(jù)由所述光束接收步驟中的所述處理接收的反射光束產(chǎn)生數(shù)據(jù)信號；控制信號產(chǎn)生步驟，根據(jù)由所述光束接收步驟中的所述處理接收的反射光束產(chǎn)生控制信號；檢測步驟，檢測在第一記錄層中的首標區(qū)；以及格式化步驟，通過控制在所述記錄步驟中的所述處理在由所述檢測步驟中的所述處理檢測的首標區(qū)中記錄對應于首標的標記來格式化所述第一記錄層。
包含于本發(fā)明的記錄介質(zhì)中的程序包括記錄步驟，通過照射激光束到光盤上而在第一或第二記錄層上記錄一標記；光束接收步驟，接收照射到光盤并從中反射的激光束；數(shù)據(jù)信號產(chǎn)生步驟，根據(jù)由所述光束接收步驟中的所述處理接收的反射光束產(chǎn)生數(shù)據(jù)信號；控制信號產(chǎn)生步驟，根據(jù)由所述光束接收步驟中的所述處理接收的反射光束產(chǎn)生控制信號；檢測步驟，檢測在第一記錄層中的首標區(qū)；以及格式化步驟，通過控制在所述記錄步驟中的所述處理在由所述檢測步驟中的所述處理檢測的首標區(qū)中記錄的對應于首標的標記來格式化所述第一記錄層。
本發(fā)明的所述程序使得計算機能夠執(zhí)行記錄步驟，通過照射激光束到光盤上而在第一或第二記錄層上記錄標記；光束接收步驟，接收照射到光盤并從中反射的激光束；數(shù)據(jù)信號產(chǎn)生步驟，根據(jù)由所述光束接收步驟中的所述處理接收的反射光束產(chǎn)生數(shù)據(jù)信號；控制信號產(chǎn)生步驟，根據(jù)由所述光束接收步驟中的所述處理接收的反射光束產(chǎn)生控制信號；檢測步驟，檢測在第一記錄層中的首標區(qū)；以及格式化步驟，通過控制在所述記錄步驟中的所述處理在由所述檢測步驟中的所述處理檢測的首標區(qū)中記錄的對應于首標的標記來格式化所述第一記錄層。
在本發(fā)明的記錄-再現(xiàn)裝置和方法以及其程序中，通過照射激光束到光盤上而在第一或第二記錄層上記錄標記。照射到光盤上的激光束從中反射并且接著被接收。由此接收基于該反射光束產(chǎn)生數(shù)據(jù)信號，并且根據(jù)接收的反射光束產(chǎn)生控制信號。另外，在所述第一記錄層中的首標區(qū)受到檢測，并且同時所述記錄處理得到控制，對應于首標的標記將記錄在所檢測的首標區(qū)中，由此所述第一記錄層得以格式化。
附圖簡述圖1是雙層記錄-再現(xiàn)光盤的剖面圖；圖2是用于解釋雙層記錄-再現(xiàn)光盤1的結(jié)構(gòu)的圖；圖3是示出首標的數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)的圖；
圖4是示出一未格式化光盤1的記錄薄膜L0層的圖；圖5是示出一未格式化光盤1的記錄薄膜L1層的圖；圖6是示出表示本發(fā)明的一實例的光盤驅(qū)動器的結(jié)構(gòu)例子的方框圖；圖7是示出擺動電路12的一結(jié)構(gòu)例子的方框圖；圖8是示出首標區(qū)檢測器14的第一結(jié)構(gòu)例子的方框圖；圖9是用于解釋在所述首標區(qū)檢測器14的第一結(jié)構(gòu)例子中執(zhí)行的操作的圖；圖10是示出所述首標區(qū)檢測器14的第二結(jié)構(gòu)例子的方框圖；圖11是用于解釋在所述首標區(qū)檢測器14的第二結(jié)構(gòu)例子中執(zhí)行的操作的圖；圖12是示出一誤差校正塊的結(jié)構(gòu)的圖；圖13是示出一ECC塊簇的圖；圖14是用于解釋由所述光盤驅(qū)動器執(zhí)行的記錄例程的流程圖；圖15A是示出未格式化光盤1的圖；圖15B是示出其中首標是記錄在它的記錄薄膜L0層中的光盤1的圖；圖15C是示出其中數(shù)據(jù)是在整個記錄薄膜L0層中記錄的光盤1的圖；圖15D是示出其中數(shù)據(jù)也是記錄在它的記錄薄膜L1層中的光盤1的圖；圖16是示出格式化光盤1的記錄薄膜L0層的圖；圖17是用于解釋怎樣記錄平臺和凹槽的圖；以及圖18是用于解釋怎樣記錄凹槽的圖。
實現(xiàn)本發(fā)明的最佳模式在下文中將給出關(guān)于表示本發(fā)明的一實例的光盤驅(qū)動器的詳細描述。首先，將參考圖2至5解釋要裝載到這樣的光盤驅(qū)動器中用于記錄數(shù)據(jù)的一種雙層記錄-再現(xiàn)光盤1(圖6)。
如圖1所示，所述雙層記錄-再現(xiàn)光盤1(在下文中簡稱為光盤)在它的襯底上具有記錄薄膜L1層、間隔層、記錄薄膜L0層、以及以分層次序形成的覆蓋層。
圖2示出所述光盤1的記錄層(記錄薄膜L0層和記錄薄膜L1層)。在所述光盤的每個記錄層上，形成有以預定頻率擺動的螺旋形導向凹槽。在光盤1上，由凹槽構(gòu)成的軌道和由平臺構(gòu)成的軌道是每圈交替形成的。所述擺動是根據(jù)pp(推-拉)信號檢測的，并且用于產(chǎn)生一同步信號。
光盤1的每圈軌道由8個段(segment)組成。并且每個段由用于記錄首標的首標區(qū)和用于記錄數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)區(qū)組成。
光盤1被劃分為(n+1)個區(qū)域Z0-Zn，每個由多個放射狀相鄰軌道組成。在屬于相同區(qū)域的每個軌道中形成的擺動數(shù)(周期)是通用的。更具體地，在從內(nèi)部開始計數(shù)的第i區(qū)域(其中i＝0、1、…、n)的每個段中形成了(420+6i)周期的擺動。結(jié)果，在屬于所述區(qū)域Zi的每個軌道中形成了8個(420+6i)周期的擺動。
例如，在最內(nèi)部(i＝0)區(qū)域Z0的每個段中形成了420周期的擺動。由此，在屬于所述區(qū)域Z0的每個軌道中形成了3360(＝420×8)周期的擺動。在另一實例中，在第二(i＝2)區(qū)域Z2的每個段中形成了432(420+6×2)周期的擺動。由此，在屬于所述區(qū)域Z2的每個軌道中形成了3456(＝8(420×8(420+6×2))周期的擺動。
在每個區(qū)域的最內(nèi)部軌道中形成的擺動的波長是通用的。記錄在首標區(qū)的地址是以固定角速度(CAV)放射狀地形成于每個區(qū)域中。并且在每個區(qū)域中的最內(nèi)部密度是通用的。
圖3示出通過在每個段的首標區(qū)中刻蝕凹坑或者標記記錄的1080通道數(shù)據(jù)的結(jié)構(gòu)。
60個通道的段標記SM1是唯一的表明首標的類型。414個通道的VFO1表示用于將PLL(鎖相環(huán))拉入同步的連續(xù)數(shù)據(jù)類型。30個通道的前角PrA1表示用于自動增益控制和偏移控制的類型。21個通道的地址標記AM1表示表明地址ID1的頂部的類型。102個通道的地址ID1表示軌道地址、段地址以及CRC(循環(huán)冗余檢驗)代碼。6個通道的后角(post-angle)PoA1表示用于滿足該通道代碼規(guī)則的地址ID1的類型。
288個通道的VFO2表示用于將PLL拉入同步的連續(xù)數(shù)據(jù)類型。30個通道的前角(pre-angle)PrA2表示用于自動增益控制和偏移控制的類型。21個通道的地址標記AM2表示表明地址ID2的頂部的類型。102個通道的地址ID2表示軌道地址、段地址以及CRC代碼。6個通道的后角PoA2表示用于滿足該通道代碼規(guī)則的地址ID2的類型。
所述地址ID1和地址ID2是在首標區(qū)提供的。因而，所述地址是在所述首標區(qū)中雙倍記錄的。
圖4示出了在未由其中應用了本發(fā)明的光盤驅(qū)動器格式化的光盤1的記錄薄膜L0層中的首標區(qū)和外圍數(shù)據(jù)區(qū)。如在該圖中所示，恰在所述首標區(qū)之前的擺動是利用其在先于所述首標區(qū)兩周期的反轉(zhuǎn)周期波形的相位形成的。在所述首標區(qū)中，還未記錄使用刻蝕凹坑或者標記的首標地址。在下文中將未記錄任何刻蝕凹坑或者標記的首標地址稱為鏡像標記。
圖5示出了在未由其中應用了本發(fā)明的光盤驅(qū)動器格式化的光盤1的記錄薄膜L1層中的首標區(qū)和外圍數(shù)據(jù)區(qū)。如在該圖中所示，恰在所述首標區(qū)之前的擺動是利用其在先于所述首標區(qū)兩周期的反轉(zhuǎn)周期波形的相位形成的。并且平臺首標是由在所述首標區(qū)的平臺中的刻蝕凹坑形成的。另外，凹槽首標是以在徑向上不鄰接于所述平臺首標的這樣的方式由在所述首標區(qū)的凹槽中的刻蝕凹坑形成的。
從圖4和5的比較中顯見，在由應用本發(fā)明的光盤驅(qū)動器格式化之前，在組成光盤1的記錄薄膜L0層的首標區(qū)未記錄任何東西。然而，在記錄薄膜L1層中，平臺首標和凹槽首標是由在所述首標區(qū)中的刻蝕凹坑形成的。即，組成光盤1的記錄薄膜L0層還未被格式化，而在制造過程中已經(jīng)格式化了記錄薄膜L1層。
現(xiàn)在參見圖6，將給出關(guān)于在上述光盤1上記錄數(shù)據(jù)和/或從所述光盤中再現(xiàn)數(shù)據(jù)的光盤驅(qū)動器的結(jié)構(gòu)例子的解釋。
在該光盤驅(qū)動器中，控制電路2根據(jù)存儲于記錄介質(zhì)16中的控制程序控制光盤驅(qū)動器的每個組成塊。更具體地，控制電路2響應于經(jīng)由AV接口3從外部AV裝置等輸入的記錄命令控制光盤驅(qū)動器的每個塊，并且接著在光盤1上記錄對應于從所述AV裝置等輸入的所述記錄數(shù)據(jù)的標記?？刂齐娐?還響應于經(jīng)由AV接口3從外部AV裝置等輸入的再現(xiàn)命令控制光盤驅(qū)動器的每個塊，并且接著從光盤1中讀取所記錄的標記，以由此再現(xiàn)所述記錄數(shù)據(jù)，并且經(jīng)由AV接口3輸出所述再現(xiàn)數(shù)據(jù)到外部AV裝置等。
主軸電路4響應于來自控制電路2的命令控制主軸電機6的旋轉(zhuǎn)。伺服電路5使得光拾取器7能夠去尋找從控制電路2指令的地址，并且響應于從光學頭電路8輸入的聚焦誤差信號或者跟蹤誤差信號來控制光拾取器7的聚焦伺服或者跟蹤伺服。主軸電機6在主軸電路4的控制下受到驅(qū)動來旋轉(zhuǎn)光盤1。
包括激光輸出單元、反射光束接收器、雙軸動作器等的光拾取器7在記錄模式中在光學頭電路8的控制下通過照射激光束到光盤1的記錄層上形成一標記。同時在再現(xiàn)模式中光拾取器7通過照射激光束到光盤1的記錄層產(chǎn)生反射光束并且從中接收該反射光束，并且接著將該反射光束輸出到光學頭電路8上。
在記錄模式中，光學頭電路8對應于從記錄-再現(xiàn)電路9輸入的首標信號或者記錄-補償二進制信號來控制光拾取器7的激光輸出。并且在再現(xiàn)模式中，光學頭電路8根據(jù)從光拾取器7中獲得的反射光束信號產(chǎn)生對應于記錄在光盤1上的刻蝕凹坑或者標記的RF信號，并且接著將該RF信號輸出到記錄-再現(xiàn)電路9。同時，在記錄-再現(xiàn)模式中，光學頭電路8根據(jù)從光拾取器7中獲得的反射光束信號產(chǎn)生聚焦誤差信號和跟蹤誤差信號，并且輸出這樣的誤差信號到伺服電路5。光學頭電路8還產(chǎn)生pp信號，并且接著輸出該pp信號到擺動電路12和首標區(qū)檢測電路14上。
在格式化模式中，記錄-再現(xiàn)電路9在控制電路2的控制下提供從地址編碼器(ENC)15輸入的首標信號到光學頭電路8。同時，在記錄模式中，記錄-再現(xiàn)電路9執(zhí)行對從調(diào)制-解調(diào)電路10中獲得的二進制信號的記錄補償，并且接著提供該二進制信號到光學頭電路8。另外在再現(xiàn)模式中，記錄-再現(xiàn)電路9將來自光學頭電路8的RF信號轉(zhuǎn)換為二進制數(shù)據(jù)，并且接著提供該二進制數(shù)據(jù)到調(diào)制-解調(diào)電路10。
在記錄模式中，調(diào)制-解調(diào)電路10在控制電路2的控制下利用從誤差校正電路11輸入的誤差校正代碼調(diào)制所述記錄數(shù)據(jù)，并且接著輸出經(jīng)調(diào)制的二進制信號到記錄-再現(xiàn)電路9。另外在再現(xiàn)模式中，調(diào)制-解調(diào)電路10解調(diào)從記錄-再現(xiàn)電路9獲得的所述二進制信號，并且接著輸出該再現(xiàn)數(shù)據(jù)到誤差校正電路11。
接著在記錄模式中，誤差校正電路11在控制電路2的控制下將ECC(誤差校正代碼)加在經(jīng)由AV接口3從外部AV裝置等提供的記錄數(shù)據(jù)上，并且接著輸出該數(shù)據(jù)到調(diào)制-解調(diào)電路10。另外在再現(xiàn)模式中，誤差校正電路11基于所述ECC校正在從調(diào)制-解調(diào)電路10中輸入的再現(xiàn)數(shù)據(jù)中的任何誤差，并且接著經(jīng)由AV接口3將校正的數(shù)據(jù)輸出到外部AV裝置等上。
響應于從光學頭電路8輸入的pp信號，擺動電路12通過內(nèi)部PLL產(chǎn)生通道時鐘信號，并且接著輸出該時鐘信號到地址解碼器時序發(fā)生器(DEC-TG)13、首標區(qū)檢測電路14以及地址編碼器15上。
在再現(xiàn)模式中，地址解碼器時序發(fā)生器13通過解碼來自光學頭電路8的RF信號檢測地址，并且接著輸出該地址信息到控制電路2，并且提供從中獲得的擺動使能信號到擺動電路12。另外，地址解碼器時序發(fā)生器13基于從擺動電路12輸入的通道時鐘信號產(chǎn)生時序信號，并且接著經(jīng)由控制電路2提供該時序信號到光盤驅(qū)動器的每個組成塊。
首標區(qū)檢測電路14根據(jù)從光學頭電路8輸入的pp信號以及還根據(jù)從擺動電路12輸入的通道時鐘信號檢測記錄層的首標區(qū)，并且輸出該首標區(qū)信息到地址編碼器15。
在格式化模式中，地址編碼器15產(chǎn)生和編碼要記錄在由首標區(qū)檢測電路14檢測的首標區(qū)中的地址，并且接著輸出由此獲得的首標信號到記錄-再現(xiàn)電路9。
圖7示出用于在擺動電路12中產(chǎn)生時鐘信號的PLL的一結(jié)構(gòu)例子。
帶通濾波器(BPF)21僅提取從光學頭電路8輸入的pp信號的擺動頻率成份，并且接著將所獲得的擺動信號輸出到比較器22上?？梢允褂酶咄V波器替代帶通濾波器21。比較器22將所述擺動信號與預定閾值相比較，以由此將該擺動信號轉(zhuǎn)換為二進制信號，并且接著將所轉(zhuǎn)換的信號作為PLL輸入信號提供到門23上。接著，門23響應于從地址解碼器時序發(fā)生器13中獲得的擺動使能信號提供從比較器22輸入的PLL到相位比較器24上。相位比較器24產(chǎn)生表示在來自門23的PLL輸入信號與從分頻器27中輸入的PLL參考信號之間的相位差的相位差信號，并且接著輸出該相位差信號到低通濾波器(LPF)25上。由此低通濾波器25消除了所述相位差信號的高頻成份，并且接著將其輸出發(fā)送到VCO(壓控振蕩器)26上。VCO26振蕩產(chǎn)生時鐘信號，同時調(diào)整所述相位差信號的頻率和相位，使得其電壓為0。分頻器27分離從VCO26中獲得的時鐘信號的頻率，并且輸出由此獲得的PLL參考信號到相位比較器24上。
圖8示出首標區(qū)檢測電路14的第一結(jié)構(gòu)例子。該第一結(jié)構(gòu)例子能夠基于先于首標區(qū)兩周期反轉(zhuǎn)的軌道中形成的擺動的周期波形的相位檢測所述首標區(qū)。
帶通濾波器31僅提取從光學頭電路8輸入的pp信號的擺動頻率成份，并且接著輸出在圖9的第一排中所示獲得的擺動信號到比較器32?？梢允褂酶咄V波器取代帶通濾波器21。比較器32將所述擺動信號與預定閾值相比較，以由此將所述擺動信號轉(zhuǎn)換為其中0和1如圖9的第二排所示交替出現(xiàn)的二進制信號，并且輸出該二進制信號到類型檢測部分34上。
分頻器33解復用從擺動電路12輸入的通道時鐘信號，以由此獲得如圖9的第三排所示的擺動時鐘信號，并且接著由此輸出該擺動時鐘信號到類型檢測部分34上。一旦檢測到擺動周期波形的相位反轉(zhuǎn)，類型檢測部分34監(jiān)視來自比較器32的與來自分頻器33的擺動時鐘信號同步的二進制信號，輸出表明在兩個擺動周期之后的首標區(qū)的存在的信息到地址編碼器15上。
圖10示出首標區(qū)檢測電路14的第二結(jié)構(gòu)例子?；谌魏慰涛g凹坑或者標記是記錄在未格式化首標區(qū)中的，即該未格式化首標區(qū)是鏡像標記，該第二結(jié)構(gòu)例子能夠檢測所述首標區(qū)。
比較器41將從光學頭電路8獲得的并且在圖11的第一排示出的RF信號與預定閾值相比較，以由此將該RF信號轉(zhuǎn)換為在圖11的第二排中示出的二進制信號，并且接著輸出該二進制信號到類型檢測部分42上。類型檢測部分42監(jiān)視來自比較器41的與從擺動電路12輸入的通道時鐘信號同步的并且在圖11的第三排中示出的二進制信號。并且如果該二進制信號得以保持在這樣的狀態(tài)以多于一預定時間連續(xù)地指示它的一值，則類型檢測部分42認為它檢測到鏡像標記，并且接著輸出表明該首標區(qū)存在的信息到地址編碼器15上。
圖12示出誤差校正塊的結(jié)構(gòu)。誤差校正塊是每個64千字節(jié)(KB)的數(shù)據(jù)組成的，并且能夠作為用于記錄和再現(xiàn)的2K數(shù)據(jù)扇區(qū)來處理。在此情形中，記錄和/或再現(xiàn)是在64KB的每個誤差校正塊中執(zhí)行的，并且包括在其中的期望的2K數(shù)據(jù)扇區(qū)得以記錄和/或再現(xiàn)。誤差校正代碼是由216符號數(shù)據(jù)和32符號奇偶校驗組成的。誤差校正塊是由304個誤差校正代碼組成的。
圖13示出了一ECC塊簇。在該圖中，記錄和再現(xiàn)是水平地執(zhí)行的。當連續(xù)地帶有同步信號(sync)的任何數(shù)據(jù)符號是誤差時，在所述sync和所述BIS(突發(fā)脈沖指示器子代碼)之間的數(shù)據(jù)符號被認為是突發(fā)脈沖誤差，并且在其上會加上指針。帶有所加的指針的數(shù)據(jù)符號通過由圖12中示出的主校正代碼LCD(長距離代碼)(248、216、33)擦除指針得到校正。
接著，參考圖14的流程圖，將給出關(guān)于在未由其中應用了本發(fā)明的光盤驅(qū)動器格式化的光盤1上執(zhí)行的數(shù)據(jù)記錄操作的解釋。
如圖15A所示，在未由應用了本發(fā)明的光盤驅(qū)動器格式化的光盤1中，平臺首標和凹槽首標是通過在制造過程中的記錄薄膜L1層的首標區(qū)中的刻蝕凹坑記錄的。即，光盤1的記錄薄膜L0層還未格式化，而其記錄薄膜L1層已經(jīng)被格式化。
在步驟S1中，光盤驅(qū)動器檢測在光盤1的記錄薄膜L0層中的首標區(qū)，并且如圖16所示，通過一標記在所檢測的首標區(qū)的凹槽中記錄凹槽首標。
更具體地，首標區(qū)檢測電路14響應于從光學頭電路8輸入的pp信號以及還響應于從擺動電路12輸入的通道時鐘信號來檢測記錄薄膜L0層的首標區(qū)，并且接著輸出該信息到地址編碼器15上。接著，地址編碼器15產(chǎn)生和編碼一地址，并且接著輸出所獲得的首標信號到記錄-再現(xiàn)電路9上。另外記錄-再現(xiàn)電路9提供對應于所述首標信號控制光拾取器7的激光輸出的首標信號到光學頭電路8上。并且在光學頭電路8的控制下，光拾取器7照射激光束以由此在記錄薄膜L0層的首標區(qū)的凹槽中記錄凹槽首標，并且還在所述平臺上記錄平臺首標。
因為在步驟S1處的處理，如圖15B中所示，通過一標記在記錄薄膜L0層的首標區(qū)中記錄一首標，使得該層被格式化。并且由此在步驟S2處，光盤驅(qū)動器在光盤1的記錄薄膜L0層中比在另一記錄薄膜L1層中更早開始形成對應于要記錄的數(shù)據(jù)的標記。
更具體地，誤差校正電路11加一誤差校正代碼到經(jīng)由AV接口3從AV裝置等輸入的數(shù)據(jù)上。接著調(diào)制-解調(diào)電路10將所述數(shù)據(jù)調(diào)制為二進制信號，并且在記錄-再現(xiàn)電路9中執(zhí)行記錄補償之后，光拾取器7在光學頭電路8的控制下照射激光束，由此在記錄薄膜L0層中形成對應于要記錄的數(shù)據(jù)的標記。
接著，如圖15C所示在已經(jīng)完全使用了記錄薄膜L0層之后(即，在已經(jīng)在記錄薄膜L0層的整個區(qū)中記錄了標記之后)，如圖15D所示光盤驅(qū)動器在記錄薄膜L1層中形成對應于要記錄的數(shù)據(jù)的標記。
有兩種在數(shù)據(jù)區(qū)形成標記的方法。一種是通過如圖17所示的平臺-凹槽記錄在平臺和凹槽兩者中形成標記，而另一種是通過圖18中示出的凹槽記錄或者在平臺或者在凹槽中形成標記。
如上所述，根據(jù)其中應用了本發(fā)明的光盤驅(qū)動器，在于記錄薄膜L1層中形成標記的開始時間處已經(jīng)在記錄薄膜L0層的整個首標區(qū)和數(shù)據(jù)區(qū)中形成了標記，并且此時在記錄薄膜L0層中不存在任何刻蝕凹坑，使得記錄薄膜L0層的傳播變得連貫。由此，在經(jīng)由記錄薄膜L0層傳送并且入射在記錄薄膜L1層的光束中、或者在來自記錄薄膜L1層的反射光束中不會引起從任何標記或者刻蝕凹坑的出現(xiàn)或者不出現(xiàn)中導出的所述光束幅度的變化或者偏移，并且結(jié)果有可能實現(xiàn)對應于要記錄在記錄薄膜L1層上的數(shù)據(jù)的標記的高精度記錄和再現(xiàn)。
當將數(shù)據(jù)記錄在其中記錄薄膜L0層曾受到格式化的光盤1上時，可以執(zhí)行處理到步驟S2上。
連續(xù)地利用在步驟S1處的格式化記錄薄膜L0層的處理，就可以在該記錄薄膜L0層的整個數(shù)據(jù)區(qū)中記錄偽(dummy)標記。
由此，根據(jù)本發(fā)明的光盤驅(qū)動器，在基于在光盤1上形成的擺動鎖定PLL在所述頻率上的同時產(chǎn)生一通道時鐘信號，使得整個光盤驅(qū)動器能夠得到高精度的操作。
還是根據(jù)本發(fā)明的光盤驅(qū)動器，能夠基于所述擺動獲得高精度的同步信號。因而，即使萬一因為在覆蓋層的表面上形成的薄如0.1毫米左右的一些灰塵等的有害影響未能正確地讀取刻蝕凹坑或者標記，仍有可能容易地執(zhí)行所需的誤差校正。
當將光盤驅(qū)動器用作僅用標記在光盤的記錄薄膜L0層的首標區(qū)記錄首標以便以格式化的狀態(tài)銷售光盤1的一種裝置時，則有可能從圖6的結(jié)構(gòu)例子中除去AV接口3、調(diào)制-解調(diào)電路10以及誤差校正電路11。
上述處理例程能夠用軟件也能夠用硬件來執(zhí)行。在通過軟件執(zhí)行該處理例程中，該例程能夠由其中組成這樣軟件的程序被集成在它的專用硬件中的計算機來執(zhí)行，或者能夠從記錄介質(zhì)安裝到例如能夠根據(jù)安裝在其中的各種程序執(zhí)行各種功能的通用目的個人計算機上。
該記錄介質(zhì)包含為提供程序到用戶發(fā)行的封裝記錄介質(zhì)，并且如圖6所示，它包括其中記錄了程序的磁盤(包括軟盤)、光盤(包括CD-ROM(致密盤-只讀存儲器)和DVD(數(shù)字通用光盤))、磁-光盤(包括MD(袖珍光盤))、或者半導體存儲器。所述記錄介質(zhì)還可以包括記錄了程序并且以事先集成在計算機的狀態(tài)提供給用戶的ROM(只讀存儲器)、硬盤等等。
在本說明書中，描述存儲于記錄介質(zhì)中的程序的步驟是根據(jù)所述順序以時間次序執(zhí)行的，或者可以并行或者獨立執(zhí)行而不限于所述時間次序處理。
工業(yè)應用性由此，根據(jù)本發(fā)明，標記能夠精確地記錄在雙層記錄-再現(xiàn)光盤的記錄薄膜L0層和記錄薄膜L1層上和/或從中再現(xiàn)。
權(quán)利要求
1.一種記錄-再現(xiàn)裝置，用于在其一面上具有第一記錄層和第二記錄層的光盤上記錄數(shù)據(jù)和/或從其中再現(xiàn)數(shù)據(jù)，所述裝置包括記錄部件，用于通過照射激光束到所述光盤上在第一或者第二記錄層上記錄標記；光束接收部件，用于接收照射到所述光盤和從中反射的激光束；數(shù)據(jù)信號產(chǎn)生部件，用于根據(jù)由所述光束接收部件接收的反射光束產(chǎn)生數(shù)據(jù)信號；控制信號產(chǎn)生部件，用于根據(jù)由所述光束接收部件接收的反射光束產(chǎn)生控制信號；檢測部件，用于檢測在所述第一記錄層中的首標區(qū)；以及格式化部件，用于通過控制所述記錄部件在由所述檢測部件檢測的首標區(qū)中記錄對應于首標的標記來格式化所述第一記錄層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄-再現(xiàn)裝置，其中所述光盤的所述第二記錄區(qū)已經(jīng)由刻蝕凹坑格式化了。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄-再現(xiàn)裝置，其中擺動是在所述光盤的第一和第二記錄層的軌道中形成的，并且所述擺動的相位恰在所述首標區(qū)之前反轉(zhuǎn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的記錄-再現(xiàn)裝置，還包括擺動信號發(fā)生部件，用于響應于反射光束信號產(chǎn)生對應于在軌道上形成的擺動的擺動信號；以及調(diào)整部件，用于基于所述擺動信號調(diào)整同步信號。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的記錄-再現(xiàn)裝置，其中所述檢測部件根據(jù)所述擺動信號的相位的反轉(zhuǎn)檢測所述首標區(qū)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄-再現(xiàn)裝置，其中所述檢測部件根據(jù)所述數(shù)據(jù)信號檢測對應于所述首標區(qū)的鏡像標記。
7.一種在用于在其一面上具有第一記錄層和第二記錄層的光盤上記錄數(shù)據(jù)和/或從其中再現(xiàn)數(shù)據(jù)的記錄-再現(xiàn)裝置中執(zhí)行的記錄-再現(xiàn)方法，所述方法包括記錄步驟，通過照射激光束到所述光盤上在第一或第二記錄層上記錄標記；光束接收步驟，接收照射到所述光盤和從中反射的激光束；數(shù)據(jù)信號產(chǎn)生步驟，根據(jù)由所述光束接收步驟中的所述處理接收的反射光束產(chǎn)生數(shù)據(jù)信號；控制信號產(chǎn)生步驟，根據(jù)由所述光束接收步驟中的所述處理接收的反射光束產(chǎn)生控制信號；檢測步驟，檢測在所述第一記錄層中的首標區(qū)；以及格式化步驟，通過控制在所述記錄步驟中的所述處理在由所述檢測步驟中的所述處理檢測的首標區(qū)中記錄對應于首標的標記來格式化所述第一記錄層。
8.一種包含計算機可讀的用于在其一面上具有第一記錄層和第二記錄層的光盤上記錄數(shù)據(jù)和/或從其中再現(xiàn)數(shù)據(jù)的程序的記錄介質(zhì)，所述程序包括記錄步驟，通過照射激光束到所述光盤上在第一或第二記錄層上記錄標記；光束接收步驟，接收照射到所述光盤和從中反射的激光束；數(shù)據(jù)信號產(chǎn)生步驟，根據(jù)由所述光束接收步驟中的所述處理接收的反射光束產(chǎn)生數(shù)據(jù)信號；控制信號產(chǎn)生步驟，根據(jù)由所述光束接收步驟中的所述處理接收的反射光束產(chǎn)生控制信號；檢測步驟，檢測在所述第一記錄層中的首標區(qū)；以及格式化步驟，通過控制在所述記錄步驟中的所述處理在由所述檢測步驟中的所述處理檢測的首標區(qū)申記錄對應于首標的標記來格式化所述第一記錄層。
9.一種使得計算機能夠執(zhí)行用于在其一面上具有第一記錄層和第二記錄層的光盤上記錄數(shù)據(jù)和/或從其中再現(xiàn)數(shù)據(jù)的以下步驟的程序記錄步驟，通過照射激光束到所述光盤上在第一或第二記錄層上記錄標記；光束接收步驟，接收照射到所述光盤和從中反射的激光束；數(shù)據(jù)信號產(chǎn)生步驟，根據(jù)由所述光束接收步驟中的所述處理接收的反射光束產(chǎn)生數(shù)據(jù)信號；控制信號產(chǎn)生步驟，根據(jù)由所述光束接收步驟中的所述處理接收的反射光束產(chǎn)生控制信號；檢測步驟，檢測在所述第一記錄層中的首標區(qū)；以及格式化步驟，通過控制在所述記錄步驟中的所述處理在由所述檢測步驟中的所述處理檢測的首標區(qū)中記錄對應于首標的標記來格式化所述第一記錄層。
全文摘要
適用于對在其一表面上具有兩記錄層的光盤上記錄或者從中再現(xiàn)數(shù)據(jù)的一種記錄/再現(xiàn)設備，以及程序。光盤在一表面上具有兩記錄層一未格式化的記錄薄膜(L0)層和一未格式化的記錄薄膜(L1)層，其中所述記錄薄膜(L0)層是在步驟S1中由一標記格式化的，對應于記錄數(shù)據(jù)的標記的格式化是在步驟S2中首先從所述記錄薄膜(L0)層開始的，并且在用盡所述記錄薄膜(L0)層之后，在步驟S3中在所述記錄薄膜(L1)層上形成對應于記錄數(shù)據(jù)的一標記。該設備能夠應用于例如DVD播放器上。
文檔編號G11B7/00GK1461471SQ02801267
公開日2003年12月10日 申請日期2002年2月25日 優(yōu)先權(quán)日2001年3月2日
發(fā)明者小林昭榮 申請人:索尼公司