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包括通過維度縮減的參數(shù)空間內(nèi)的優(yōu)化確定目標(biāo)場的勻場過程的制作方法_3

文檔序號:8259179閱讀:來源:國知局
限定性列表,而是被作為本發(fā)明的描述中的例子給出。
【附圖說明】
[0063] 本發(fā)明被在附圖中示出,并且將被參考示例性實施例更詳細(xì)地解釋。附圖示出:
[0064] 圖1示出M= 2個控制參數(shù)的參數(shù)空間中的優(yōu)化的流程圖;
[0065] 圖2示出根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的勻場方法的流程圖;
[0066] 圖3示出根據(jù)本發(fā)明的方法的一個變體的可能序列的流程圖;
[0067] 圖4a、b示出用于以變化的數(shù)據(jù)寬度擬合的一組空間加權(quán)函數(shù)的構(gòu)造,
[0068] (a)用于改變數(shù)據(jù)寬度的函數(shù),從而通過以這些函數(shù)縮放測量的激勵曲線,獲得圖 4b中的加權(quán)函數(shù);
[0069] (b)在以圖4a中的對應(yīng)函數(shù)縮放的激勵曲線的每一行中,用作擬合中的加權(quán)函 數(shù);
[0070] 圖5a、b示出二維參數(shù)空間中的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)的優(yōu)化的圖示,
[0071] (a)勻場狀態(tài)的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)與對數(shù)規(guī)則化參數(shù)(水平地)和數(shù)據(jù)寬度(垂直地)的 2D圖示;
[0072] (b)勻場狀態(tài)的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)與勻場電流的2范數(shù)(2-norm)的對數(shù)(水平地)和數(shù)據(jù) 寬度(垂直地)的2D圖示;
[0073] 圖6示出作為通過最優(yōu)規(guī)則化獲得的解的數(shù)據(jù)寬度的函數(shù)的勻場狀態(tài)的質(zhì)量標(biāo) 準(zhǔn)(Q)(〃偏差原理〃或者L圖);
[0074] 圖7a_d示出從MRI圖像得出的用于擬合的空間加權(quán)函數(shù)的創(chuàng)建,
[0075] (a)為勻場過程做準(zhǔn)備而記錄的MRI圖像,其中被用戶選擇的區(qū)域(71),在區(qū)域 (71)中設(shè)置最高的均勻性要求,以不同陰影表示的具有不同信號強度的附加區(qū)域(72),和 其中無信號被接收的區(qū)域(73);
[0076] (b)用于勻場操作中的擬合的沿著W軸具有在0和1之間的值的空間加權(quán)函數(shù),其 中存在從區(qū)域71中的全部權(quán)重1到區(qū)域73中的權(quán)重0的均勻轉(zhuǎn)變;
[0077] (c)用于勻場操作中的擬合的沿著W軸具有在0和1之間的值的空間加權(quán)函數(shù),其 中圖7b中的加權(quán)函數(shù)被提升到k次冪,其中0〈k〈l,因此靠近71的區(qū)域具有更大的權(quán)重;
[0078] ⑷用于勻場操作中的擬合的沿著W軸具有在0和1之間的值的空間加權(quán)函數(shù),其 中圖7b中的加權(quán)函數(shù)具有指數(shù)k,其中k>l,因此71之外的區(qū)域的權(quán)重迅速地下降;
[0079] 圖8a,b示出利用一個參數(shù)改變空間加權(quán)函數(shù)的附加可能性,即
[0080] (a)以(Bl(r))k的形式改變用于擬合的空間加權(quán)函數(shù),其中k自下至上采取下面 的值:〇? 01,〇? 2, 0? 5, 1,2, 5, 10, 20;和
[0081] 圖8b示出用于擬合的空間加權(quán)函數(shù)的變化,其中改變減輕的權(quán)重的位置的Z位 置。
【具體實施方式】
[0082] 在執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明的方法時,下面的步驟被以適用于該任務(wù)的方式結(jié)合在一個總 序列中,該序列可以包括這些步驟的重復(fù)和關(guān)于實現(xiàn)一個目標(biāo)的判斷:
[0083] (a)映射靜態(tài)磁場的磁場分布BO(r),
[0084] (b)定義目標(biāo)場BOT(r),
[0085](c)通過設(shè)置通過勻場線圈的電流,在有效體積內(nèi)產(chǎn)生所述目標(biāo)場分布BOT(r)。
[0086] 參考文獻(xiàn)[5]的圖3中示出了一個可能的序列(此處在圖2中再現(xiàn))。該序列包 括本文前面沒有討論的內(nèi)部〃擬合循環(huán)〃,并且其中僅僅擬合占優(yōu)的磁場分布BO(r)和目標(biāo) 場分布BOT(r)之間的差異,而不定義任何新的目標(biāo)場分布。對于電流的計算的改變不正確 地導(dǎo)致磁場分布的預(yù)先計算的改變的情況,這種循環(huán)使得該方法更加強健。
[0087]反復(fù)的再調(diào)整而不做與定義新目標(biāo)場分布相關(guān)聯(lián)的工作以及其所需的優(yōu)化可以 極大地加速整個處理。最終,如果實現(xiàn)了整個測量設(shè)置對勻場系統(tǒng)中的電流的改變的反應(yīng) 的準(zhǔn)確認(rèn)識,將不再需要該循環(huán),并且因此其不再是根據(jù)本發(fā)明的方法的必須組件。
[0088]可以為在有效體積內(nèi)映射磁場分布考慮各種方法。使用可切換梯度線圈的相敏磁 共振成像方法(諸如梯度回波法或者自旋回波法)特別適用于執(zhí)行磁場分布在有效體積內(nèi) 的映射。從以旋轉(zhuǎn)的不同演進(jìn)時間記錄的兩個圖像中的信號的相位差中,獲得關(guān)于局部磁 場的信息。
[0089]這些方法的優(yōu)點是可以使用相同的裝置(即,發(fā)射/接收線圈,梯度線圈)執(zhí)行磁 場的映射,使用這些相同的裝置,執(zhí)行以磁場均勻化為前提的實驗。最終使用的樣本或者將 被成像的對象或者將被檢查的患者可以已經(jīng)處于測量位置,因此可以已經(jīng)考慮和校正了它 們對磁場均勻性的影響。
[0090] 具有空間分辨率的用于測量磁場的其它已知方法使用可移動的磁場傳感器,可以 使用磁場傳感器在不同位置測量磁場,或者它們使用磁場傳感器的陣列。此處,霍爾(Hall) 傳感器或者小的NMR探針是適合的。例如,這種方法可被在用于產(chǎn)生磁場的基本均勻性的 磁體的安裝過程中使用。然而,在磁場的均勻化之后,必須以不同的測量裝置替換該可移動 的磁場傳感器,并且另外,在磁場映射過程中,將被檢查的樣本必需不在有效體積內(nèi)。
[0091] 在定義目標(biāo)場分布BOT(r)時,使用一個或多個質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn),從該一個或多個質(zhì)量標(biāo) 準(zhǔn),可以得出一個目標(biāo)變量,該目標(biāo)變量的最優(yōu)值(最小值或者最大值)定義目標(biāo)場分布 BOT(r)。一個目標(biāo)變量(其可被用于定義目標(biāo)場分布)是相對于恒定理想場的平方偏差的 均值的根(均方根偏差RMSD)。
[0092]該變量并不總是適合于確保目標(biāo)場的質(zhì)量。例如,必須實現(xiàn)譜線的最高可能分辨 率,并且同時必須避免可能與多重譜線相混淆的緊密相鄰的線的拆分的譜的情況就是如 此。在這種情況下,根據(jù)參考文獻(xiàn)[4]的方法是適合的,其中通過分析結(jié)果譜的預(yù)測計算該 目標(biāo)函數(shù)。根據(jù)預(yù)測的譜確定諸如譜線和圍繞譜線的包絡(luò)曲線的半寬度的性質(zhì),并且組合 這些性質(zhì)以便產(chǎn)生一個變量,該變量作為用于優(yōu)化算法的目標(biāo)變量。
[0093]使用模擬譜的該過程使得可以用光譜學(xué)工作者的語言制定質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn),并且還將與 計劃的實驗相關(guān)的樣本的性質(zhì)、使用的測量方法和其對磁場的均勻性的特定依賴性考慮在 內(nèi)??赡艿馁|(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)可以包括,例如,半高度全寬(FWHH),在另一個高度處的寬度或者譜線 的包絡(luò)線(如參考文獻(xiàn)[4]中描述的)的半值寬度。將被檢查的樣品的天然線寬是重要的 實驗參數(shù),當(dāng)被正確地設(shè)置時,其避免太細(xì)尺度上的低效的均勻化??梢栽谙嗤b置上使用 對磁場中的不均勻性具有不同敏感度的不同脈沖序列。還可以在譜的模擬過程中考慮該效 果。
[0094]通過在全部體元上對磁場的局部梯度(空間中所有三個方向的梯度)進(jìn)行平方并 且將它們相加,獲得在評估MRI圖像中的均勻性時特別有用的另一個質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。通過最小 化該結(jié)果值,由于信號在由局部梯度引起的體元內(nèi)相位差被最小化方面取決于磁場的均勻 性,整個信號被最大化。
[0095] 本發(fā)明的決定性的特征是,為了確定目標(biāo)場分布BOT(r),使用M個控制參數(shù)在參 數(shù)空間內(nèi)的優(yōu)化,其中2 <M〈N。控制參數(shù)中的至少一個(加權(quán)參數(shù)),被用于修改空間加 權(quán)函數(shù)。該參數(shù)用來通過改變測量數(shù)據(jù)中的子區(qū)的相對權(quán)重,尋找具有高維度的勻場電流 的參數(shù)空間中的可能的解。
[0096] 在參考文獻(xiàn)[5]中使用參數(shù)k給出了這種加權(quán)參數(shù)的一個可能的實現(xiàn):
[0097] 基于規(guī)格化的RF激勵曲線Bl(r),構(gòu)造k相關(guān)加權(quán)函數(shù)W(r,k) = (Bl(r))k。選 擇k的效果是在擬合中:k= 1時,無改變地接受激勵曲線的權(quán)重;0〈k〈l時,更強烈地加權(quán) 激勵曲線的邊緣;以及k>l時,衰減激勵曲線的邊緣。
[0098] k的局部效果取決于激勵曲線在相應(yīng)位置處的值。在分析均勻的樣品的光譜法的 情況下,選擇與RF線圈的激勵曲線的形式非常相似的空間加權(quán)函數(shù)特別適合。在這種情況 下,對樣
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