本發(fā)明涉及集成電路,具體涉及一種避免在芯片設計中誤判壓差的檢驗方法。
背景技術:
1、隨著集成電路技術的不斷發(fā)展,芯片尺寸也變得越來越小,尤其是到了28nm以下的工藝節(jié)點,不同走線之間的壓差問題變得尤為嚴重。高壓差會導致?lián)舸╋L險的增加,特別是在較薄的絕緣層情況下。其次,在某些極端情況下,壓差過大可能會因隧穿效應或其他物理現象而發(fā)生短路。?電壓標識器件?主要是指那些用于標識和調節(jié)電壓的電子元器件,它們在電路中扮演著至關重要的角色。這些器件通過特定的技術手段,實現對電壓的精確控制和標識,從而確保電路的正常運行和設備的安全。
2、目前,針對于壓差問題,主要是通過手動打label(標簽)的方式將電壓標注在版圖走線上,即標注一個“voltage?high?text”和一個“voltage?low?text”,工作時的最高電壓和最低電壓。然后claibre?drc工具會進行一系列的計算,得出不同線之間的壓差,壓差處于不同區(qū)間范圍,drc要求也不一樣,壓差越大,要求自然就越嚴苛。現有技術無法判斷是否有誤標或漏標的情況,一旦出現calibre?drc工具沒有判斷出壓差過大的地方,對做產品的公司來說,一旦出現擊穿,無論是從時間還是成本上來說,都將造成非常大的損失。對ip供應商來說,很有可能導致客戶在嵌入ip時無法確定drc,因為給到客戶的電壓值和ip本身識別的電壓值不一致。具體有以下幾個缺點:人工手動打label,容易出現誤標或者遺漏的情況;有些時候版圖工程師和電路工程師的認知存在偏差,一旦溝通不及時或者不充分,就會出現標錯的情況;隨著芯片規(guī)模和復雜度的提升,手動打label的工作量也隨之增大,導致出錯的概率也更大。
技術實現思路
1、本發(fā)明的目的是提供一種避免在芯片設計中誤判壓差的檢驗方法,該方法通過calibre?lvs工具智能檢測是否存在電壓誤標和漏標的情況,使得檢測的效率和準確率大大提高,避免了由于沒有判斷出壓差過大的地方導致芯片擊穿的事故發(fā)生。
2、一種避免在芯片設計中誤判壓差的檢驗方法,包括:
3、構建電壓標識器件;
4、采用所述電壓標識器件在構建的電路上進行標注;
5、根據構建的電路生成對應的版圖;
6、構建calibre?lvs工具的比對規(guī)則;
7、采用calibre?lvs工具根據比對規(guī)則驗證所述版圖是否存在電壓誤標或漏標的情況。
8、優(yōu)選地,所述構建電壓標識器件包括:
9、構建最高電壓值和最低電壓值任意可調的電壓標識器件;
10、將所述電壓標識器件作為可重復使用的電路單元。
11、優(yōu)選地,所述采用所述電壓標識器件在構建的電路上進行標注包括:
12、在不同電壓域切換的位置采用所述電壓標識器件進行標注。
13、優(yōu)選地,所述采用calibre?lvs工具根據比對規(guī)則驗證所述版圖是否存在電壓誤標或漏標的情況包括:
14、將版圖信息和電路信息輸入calibre;
15、將輸入的版圖信息和電路信息轉化為calibre可處理的格式;
16、檢查版圖和電路的邏輯結構;
17、獲取版圖的電壓標識;
18、判斷所述版圖的電壓標識是否存在電壓誤標或漏標。
19、優(yōu)選地,所述檢查版圖和電路的邏輯結構包括:
20、解析版圖文件,獲取版圖中的物理布局、連接關系和屬性信息;
21、解析電路文件,獲取電路中的幾何特征、連接關系和屬性信息;
22、對比版圖邏輯和電路的邏輯是否一致。
23、優(yōu)選地,所述判斷所述版圖的電壓標識是否存在電壓誤標或漏標包括:
24、在版圖上生成電壓信息;
25、判斷在版圖上的電壓信息與在電路上標注的電壓信息是否一致;
26、如果一致,則電壓標識為正確;
27、如果不一致,判斷電壓標識是否存在漏標;
28、如果電壓標識的個數少于版圖上的電壓信息個數,則電壓標識存在漏標;
29、如果電壓標識的個數等于版圖上的電壓信息個數,則判斷電壓標識是否存在誤標;
30、如果電壓標識信息不等于版圖上的電壓信息,則判斷電壓標識存在誤標。
31、優(yōu)選地,所述構建calibre?lvs工具的比對規(guī)則包括:
32、定義比對的精度、忽略的元素和如何處理特定的比對情況;
33、對比對規(guī)則進行準確率測試;
34、如果準確率大于預設值,則采用calibre?lvs工具進行電壓標識驗證;
35、如果準確率小于預設值,則優(yōu)化比對規(guī)則的定義參數,直至準確率大于預設值為止。
36、一種避免在芯片設計中誤判壓差的檢驗系統(tǒng),包括:
37、初始化模塊,用于構建電壓標識器件;
38、電壓處理模塊,用于采用所述電壓標識器件在構建的電路上進行標注;
39、版圖生成模塊,用于根據構建的電路生成對應的版圖;
40、比對規(guī)則構建模塊,用于構建calibre?lvs工具的比對規(guī)則;
41、校驗模塊,用于采用calibre?lvs工具根據比對規(guī)則驗證所述版圖是否存在電壓誤標或漏標的情況。
42、一種電子設備,包括:芯片、處理器和存儲器,所述存儲器用于存儲計算機程序代碼,所述計算機程序代碼包括計算機指令,在所述芯片執(zhí)行所述計算機指令的情況下,所述電子設備執(zhí)行一種避免在芯片設計中誤判壓差的檢驗方法。
43、一種計算機可讀存儲介質,所述計算機可讀存儲介質中存儲有計算機程序,所述計算機程序包括程序指令,所述程序指令在被電子設備的處理器執(zhí)行的情況下,使所述處理器執(zhí)行一種避免在芯片設計中誤判壓差的檢驗方法。
44、本發(fā)明的有益效果在于:1.本發(fā)明制作了一種電壓標識器件,并且電壓標識器件的電壓值可以任意調節(jié),用于不同的電壓域;2.本發(fā)明通過svrf語言編寫lvs工具的比對規(guī)則,可以通過軟件自動識別電壓標識器件是否錯誤或者遺漏,顯著提高了芯片中壓差的判斷效率和判斷準確率。
1.一種避免在芯片設計中誤判壓差的檢驗方法,其特征在于,包括:
2.根據權利要求1所述的一種避免在芯片設計中誤判壓差的檢驗方法,其特征在于,所述構建電壓標識器件包括:
3.根據權利要求1所述的一種避免在芯片設計中誤判壓差的檢驗方法,其特征在于,所述采用所述電壓標識器件在構建的電路上進行標注包括:
4.根據權利要求3所述的一種避免在芯片設計中誤判壓差的檢驗方法,其特征在于,所述檢查版圖和電路的邏輯結構包括:
5.根據權利要求4所述的一種避免在芯片設計中誤判壓差的檢驗方法,其特征在于,所述判斷所述版圖的電壓標識是否存在電壓誤標或漏標包括:
6.一種避免在芯片設計中誤判壓差的檢驗系統(tǒng),用于實現權利要求1至5中任意一項所述的一種避免在芯片設計中誤判壓差的檢驗方法,其特征在于,包括:
7.一種電子設備,其特征在于,包括:芯片、處理器和存儲器,所述存儲器用于存儲計算機程序代碼,所述計算機程序代碼包括計算機指令,在所述芯片執(zhí)行所述計算機指令的情況下,所述電子設備執(zhí)行如權利要求1至5中任一項所述的一種避免在芯片設計中誤判壓差的檢驗方法。
8.一種計算機可讀存儲介質,其特征在于,所述計算機可讀存儲介質中存儲有計算機程序,所述計算機程序包括程序指令,所述程序指令在被電子設備的處理器執(zhí)行的情況下,使所述處理器執(zhí)行權利要求1至5中任意一項所述的一種避免在芯片設計中誤判壓差的檢驗方法。