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考慮壟向的日光溫室小氣候三維模擬方法及系統(tǒng)

文檔序號:40462181發(fā)布日期:2024-12-27 09:27閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種考慮壟向的日光溫室小氣候三維模擬方法,其特征在于,包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的考慮壟向的日光溫室小氣候三維模擬方法,其特征在于,所述根據(jù)所述溫室?guī)缀文P偷膬?nèi)外環(huán)境因素和內(nèi)外幾何結(jié)構(gòu)各自的時空分布特性進行仿真模擬,得到溫室環(huán)境的三維模型包括:

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的考慮壟向的日光溫室小氣候三維模擬方法,其特征在于,所述根據(jù)輻射換熱系數(shù)、所述日光溫室的墻體和作物葉片對應(yīng)的熱力學(xué)平均溫度以及有效輻射面積計算出所述作物冠層的凈輻射量包括:

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的考慮壟向的日光溫室小氣候三維模擬方法,其特征在于,所述標準k-ε湍流模型基于湍流動能方程和湍流耗散率方程確定;

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的考慮壟向的日光溫室小氣候三維模擬方法,其特征在于,所述根據(jù)所述葉溫下飽和水蒸氣壓、所述空氣中水蒸氣分壓、葉邊界層水蒸氣傳導(dǎo)率確定所述作物冠層的葉片結(jié)露速率包括:

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的考慮壟向的日光溫室小氣候三維模擬方法,其特征在于,所述根據(jù)日光溫室的幾何結(jié)構(gòu)參數(shù)和作物冠層尺寸構(gòu)建溫室?guī)缀文P桶ǎ?/p>

7.一種考慮壟向的日光溫室小氣候三維模擬系統(tǒng),其特征在于,包括:

8.一種電子設(shè)備,包括存儲器、處理器及存儲在所述存儲器上并可在所述處理器上運行的計算機程序,其特征在于,所述處理器執(zhí)行所述計算機程序時實現(xiàn)如權(quán)利要求1至6任一項所述考慮壟向的日光溫室小氣候三維模擬方法。

9.一種非暫態(tài)計算機可讀存儲介質(zhì),其上存儲有計算機程序,其特征在于,所述計算機程序被處理器執(zhí)行時實現(xiàn)如權(quán)利要求1至6任一項所述考慮壟向的日光溫室小氣候三維模擬方法。

10.一種計算機程序產(chǎn)品,包括計算機程序,其特征在于,所述計算機程序被處理器執(zhí)行時實現(xiàn)如權(quán)利要求1至6任一項所述考慮壟向的日光溫室小氣候三維模擬方法。


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種考慮壟向的日光溫室小氣候三維模擬方法及系統(tǒng),該考慮壟向的日光溫室小氣候三維模擬方法包括:根據(jù)日光溫室的幾何結(jié)構(gòu)參數(shù)和作物冠層尺寸構(gòu)建溫室?guī)缀文P?,幾何結(jié)構(gòu)參數(shù)結(jié)構(gòu)包括日光溫室的尺寸和日光溫室中用于作物種植的壟寬、壟長和壟間距;根據(jù)溫室?guī)缀文P偷膬?nèi)外環(huán)境因素和內(nèi)外幾何結(jié)構(gòu)各自的時空分布特性進行仿真模擬,得到溫室環(huán)境的三維模型;其中,內(nèi)外環(huán)境因素包括溫室?guī)缀文P屯獠靠臻g和內(nèi)部空間分別對應(yīng)的光照強度、濕度、溫度、空氣流速和流向。本發(fā)明所述方法提高了溫室小氣候環(huán)境模擬準確率,進而提高了對溫室內(nèi)栽培模式下的作物生長狀態(tài)的效率。

技術(shù)研發(fā)人員:劉冉,李明,劉凱歌,張春昊,楊信廷
受保護的技術(shù)使用者:北京市農(nóng)林科學(xué)院信息技術(shù)研究中心
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2024/12/26
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