本發(fā)明涉及計(jì)算機(jī)散熱結(jié)構(gòu)領(lǐng)域，尤其涉及一種旋轉(zhuǎn)吸附式計(jì)算機(jī)主機(jī)散熱蓋結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)：

在計(jì)算機(jī)使用過(guò)程中，主機(jī)箱的散熱十分重要，而防塵也是計(jì)算機(jī)主機(jī)箱散熱結(jié)構(gòu)上需要注意的，采用何種結(jié)構(gòu)來(lái)對(duì)計(jì)算機(jī)主機(jī)進(jìn)行快速散熱以及防塵操作便成為需要解決的問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種旋轉(zhuǎn)吸附式計(jì)算機(jī)主機(jī)散熱蓋結(jié)構(gòu)，從而可以來(lái)對(duì)計(jì)算機(jī)主機(jī)進(jìn)行快速散熱以及防塵操作。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：

本發(fā)明提一種旋轉(zhuǎn)吸附式計(jì)算機(jī)主機(jī)散熱蓋結(jié)構(gòu)，包括底側(cè)蓋、散熱孔、端側(cè)磁鐵、底側(cè)電磁鐵、上側(cè)電磁鐵：

底側(cè)蓋通過(guò)旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)裝設(shè)在計(jì)算機(jī)主機(jī)箱的一側(cè)邊的底側(cè)位置，散熱孔開設(shè)在底側(cè)蓋的內(nèi)側(cè)位置，端側(cè)磁鐵位于底側(cè)蓋的外端側(cè)，底側(cè)電磁鐵位于散熱孔的板塊的下側(cè)，上側(cè)電磁鐵裝設(shè)在底側(cè)蓋的上側(cè)。

其中，底側(cè)電磁鐵的位置和底側(cè)蓋上的端側(cè)磁鐵的位置相配合，上側(cè)電磁鐵的位置和底側(cè)蓋上的端側(cè)磁鐵的位置相配合。

其中，散熱孔至少有三個(gè)且外側(cè)開口為傾斜向下結(jié)構(gòu)。

與現(xiàn)有的技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明在計(jì)算機(jī)主機(jī)箱的底側(cè)開設(shè)可旋轉(zhuǎn)的底側(cè)蓋，并利用端側(cè)磁鐵與底側(cè)電磁鐵、上側(cè)電磁鐵進(jìn)行吸附配合，從而方便底側(cè)蓋的固定操作，同時(shí)內(nèi)側(cè)采用外側(cè)開口傾斜向下的散熱孔結(jié)構(gòu)，使得計(jì)算機(jī)主機(jī)箱可以進(jìn)行快速散熱以及防塵操作。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明的整體結(jié)構(gòu)示意圖；

其中：1、底側(cè)蓋；2、散熱孔；3、端側(cè)磁鐵；4、底側(cè)電磁鐵；5、上側(cè)電磁鐵。

具體實(shí)施方式

為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。

本發(fā)明為一種旋轉(zhuǎn)吸附式計(jì)算機(jī)主機(jī)散熱蓋結(jié)構(gòu)，包括底側(cè)蓋1、散熱孔2、端側(cè)磁鐵3、底側(cè)電磁鐵4、上側(cè)電磁鐵5：

底側(cè)蓋1通過(guò)旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)裝設(shè)在計(jì)算機(jī)主機(jī)箱的一側(cè)邊的底側(cè)位置，散熱孔2開設(shè)在底側(cè)蓋1的內(nèi)側(cè)位置，端側(cè)磁鐵3位于底側(cè)蓋1的外端側(cè)，底側(cè)電磁鐵4位于散熱孔2的板塊的下側(cè)，上側(cè)電磁鐵5裝設(shè)在底側(cè)蓋1的上側(cè)。

進(jìn)一步的，底側(cè)電磁鐵4的位置和底側(cè)蓋1上的端側(cè)磁鐵3的位置相配合，上側(cè)電磁鐵5的位置和底側(cè)蓋1上的端側(cè)磁鐵3的位置相配合。

進(jìn)一步的，散熱孔2至少有三個(gè)且外側(cè)開口為傾斜向下結(jié)構(gòu)。

以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。