光柵基板及其制作方法、顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，公開了一種光柵基板制作方法，包括以下步驟：在襯底基板上形成梳狀、不透明的觸控電極的陣列，且使陣列中第一觸控電極通過第一導(dǎo)電橋連接在一起；形成絕緣間隔層，使其覆蓋所述第一導(dǎo)電橋；在所述絕緣間隔層上形成第二導(dǎo)電橋?qū)㈥嚵兄械牡诙|控電極連接在一起。還公開了一種光柵基板及顯示裝置。本發(fā)明通過將觸控電極制作成不透明的梳狀電極的圖形，既能作為觸控電極又能作為3D光柵，同時實現(xiàn)了觸摸和3D功能。
【專利說明】光柵基板及其制作方法、顯示裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種光柵基板及其制作方法、顯示裝置。

【背景技術(shù)】
[0002] 觸摸屏作為一種最新的電腦輸入設(shè)備，它是目前最簡單、方便、自然的一種人機交 互方式。它賦予了多媒體以嶄新的面貌，是極富吸引力的全新多媒體交互設(shè)備。觸摸屏中 通過形成陣列的若干第一觸控電極和第二觸控電極連接不同的信號來檢測觸摸點。
[0003] 視差屏障法是一種無須佩戴3D眼鏡的裸眼3D顯示，包括一臺顯示器和放置于顯 示器前面的黑白狹縫光柵組成。只要光柵遮光條紋和透光條紋的寬度合適，光柵的放置高 度正確，光柵上的遮光條紋能為觀看者的左眼遮擋掉右眼像素列發(fā)出的光，同時為觀看者 的右眼遮擋掉左眼像素列所發(fā)出的光，從而實現(xiàn)3D顯示。
[0004] 但現(xiàn)有技術(shù)中沒有觸摸式3D屏，因此實現(xiàn)觸摸式3D屏是亟待解決的問題。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] (一）要解決的技術(shù)問題
[0006] 本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是：如何同時實現(xiàn)觸摸和3D功能的顯示屏。
[0007] (二）技術(shù)方案
[0008] 為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了一種光柵基板制作方法，包括以下步驟：
[0009] 在襯底基板上形成梳狀、不透明的觸控電極的陣列，且使陣列中第一觸控電極通 過第一導(dǎo)電橋連接在一起；
[0010] 形成絕緣間隔層，使其覆蓋所述第一導(dǎo)電橋；
[0011] 在所述絕緣間隔層上形成第二導(dǎo)電橋?qū)㈥嚵兄械牡诙|控電極連接在一起。
[0012] 其中，在襯底基板上形成梳狀、不透明的觸控電極的陣列，且使陣列中第一觸控電 極通過第一導(dǎo)電橋連接在一起的步驟具體包括：
[0013] 在襯底基板上形成梳狀、不透明的觸控電極的陣列的同時形成所述第一導(dǎo)電橋， 以連接所述第一觸控電極。
[0014] 其中，形成絕緣間隔層，使其覆蓋所述第一導(dǎo)電橋的步驟具體包括：
[0015] 形成絕緣間隔層覆蓋所述第二導(dǎo)電橋與第一導(dǎo)電橋重疊的區(qū)域。
[0016] 其中，使每個梳狀的觸控電極中，用于連接梳齒的連接條位于所述光柵基板黑矩 陣對應(yīng)的區(qū)域。
[0017] 其中，形成第二導(dǎo)電橋后，還包括形成保護(hù)層。
[0018] 其中，所述襯底基板為彩膜基板。
[0019] 本發(fā)明還提供了一種光柵基板制作方法，包括以下步驟：
[0020] 在襯底基板上的預(yù)定位置形成第二導(dǎo)電橋；
[0021] 形成絕緣間隔層，使其覆蓋所述第二導(dǎo)電橋；
[0022] 形成梳狀、不透明的觸控電極的陣列，且使陣列中第一觸控電極通過第一導(dǎo)電橋 連接在一起，所述第二導(dǎo)電橋?qū)㈥嚵兄械牡诙|控電極連接在一起，使所述第一導(dǎo)電橋和 所述第二導(dǎo)電橋之間間隔所述絕緣間隔層。
[0023] 其中，形成絕緣間隔層，使其覆蓋所述第二導(dǎo)電橋的步驟具體包括：
[0024] 形成絕緣間隔層覆蓋所述第一導(dǎo)電橋與第二導(dǎo)電橋重疊的區(qū)域。
[0025] 其中，形成梳狀、不透明的觸控電極的陣列，且使陣列中第一觸控電極通過第一導(dǎo) 電橋連接在一起，所述第二導(dǎo)電橋?qū)㈥嚵兄械牡诙|控電極連接在一起的步驟具體包括：
[0026] 在襯底基板上形成梳狀、不透明的觸控電極的陣列的同時形成所述第一導(dǎo)電橋， 以連接所述第一觸控電極，并使所述第二導(dǎo)電橋?qū)⑺龅诙|控電極連接在一起。
[0027] 其中，使每個梳狀的觸控電極中，用于連接梳齒的連接條位于所述光柵基板黑矩 陣對應(yīng)的區(qū)域。
[0028] 其中，形成梳狀、不透明的觸控電極的陣列后，還包括形成保護(hù)層。
[0029] 其中，所述襯底基板為彩膜基板。
[0030] 本發(fā)明還提供了一種光柵基板，包括：形成在襯底基板上的若干第一導(dǎo)電橋、第二 導(dǎo)電橋、不透明的第一觸控電極和第二觸控電極，所述第一觸控電極通過第一導(dǎo)電橋連接， 所述第二觸控電極通過第二導(dǎo)電橋連接，所述每個第一觸控電極和第二觸控電極均為梳狀 電極。
[0031] 其中，每個梳狀的觸控電極中，用于連接梳齒的連接條位于所述光柵基板黑矩陣 對應(yīng)的區(qū)域。
[0032] 其中，所述襯底基板為彩膜基板。
[0033] 本發(fā)明還提供了一種顯示裝置，包括上述任一項所述的光柵基板。
[0034] (三）有益效果
[0035] 本發(fā)明通過將觸控電極制作成不透明的梳狀電極的圖形，既能作為觸控電極又能 作為3D光柵，同時實現(xiàn)了觸摸和3D功能。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0036] 圖1是本發(fā)明實施例的一種光柵基板制作方法中形成觸控電極和第一導(dǎo)電橋的 結(jié)構(gòu)示意圖；
[0037] 圖2是在圖1的基礎(chǔ)上形成絕緣層間隔的示意圖；
[0038] 圖3是形成光柵基板結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實施方式】
[0039] 下面結(jié)合附圖和實施例，對本發(fā)明的【具體實施方式】作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實施 例用于說明本發(fā)明，但不用來限制本發(fā)明的范圍。
[0040] 實施例1
[0041] 本實施例提供的光柵基板制作方法，包括以下步驟：
[0042] 步驟一，在襯底基板上形成梳狀、不透明的觸控電極的陣列，且使陣列中第一觸控 電極通過第一導(dǎo)電橋連接在一起。
[0043] 步驟二，形成絕緣間隔層覆蓋所述第一導(dǎo)電橋，以間隔第一導(dǎo)電橋和即將形成的 第二導(dǎo)電橋。
[0044] 步驟三，在所述絕緣間隔層上形成第二導(dǎo)電橋?qū)㈥嚵兄械牡诙|控電極連接在一 起。
[0045] 其中，不透明的觸控電極可以是金屬電極。
[0046] 本發(fā)明通過將觸控電極制作成不透明的梳狀電極的圖形，既能作為觸控電極又能 作為3D光柵，同時實現(xiàn)了觸摸和3D功能。
[0047] 具體步驟如圖1?3所示（只是出了其中四個觸控電極）。
[0048] 步驟一中，如圖1所示，為了節(jié)省制作工序，第一導(dǎo)電橋3采用與觸控電極相同的 材料，這樣在襯底基板上形成梳狀、且不透明的觸控電極（包括第一觸控電極1和第二觸控 電極2)的陣列的同時形成第一導(dǎo)電橋3連接第一觸控電極1的圖形。形成第一導(dǎo)電橋3 和觸控電極的圖形具體可以采用構(gòu)圖工藝（構(gòu)圖工藝通常包括光刻膠涂敷、曝光、顯影、刻 蝕、光刻膠剝離等工藝）的方式制作。
[0049] 如圖2所示，步驟二中覆蓋第一導(dǎo)電橋3的絕緣間隔層4可以覆蓋整個襯底基板 (覆蓋整個襯底基板時在絕緣間隔層對應(yīng)第二觸控電極與第二導(dǎo)電橋相連的區(qū)域形成過孔 即可），也可只覆蓋第一導(dǎo)電橋的區(qū)域，或只覆蓋即將形成的第二導(dǎo)電橋與第一導(dǎo)電橋重疊 的區(qū)域。最終形成的光柵基板如圖3所示，本實施例中，只覆蓋了即將形成的第二導(dǎo)電橋與 第一導(dǎo)電橋重疊的區(qū)域，以節(jié)省材料。具體制作時，可先形成一層光刻膠，接著去除待形成 絕緣間隔層4區(qū)域的光刻膠，然后形成一層絕緣間隔材料，最后去除光刻膠，覆蓋在光刻膠 上的絕緣間隔材料一同被去除，最終形成絕緣間隔層4。
[0050] 步驟三中，具體制作時，可先形成一層光刻膠，接著去除待形成第二導(dǎo)電橋區(qū)域的 光刻膠，然后形成一層導(dǎo)電材料（如金屬），最后去除光刻膠，覆蓋在光刻膠上的導(dǎo)電材料 一同被去除，最終形成第二導(dǎo)電橋5,使第二導(dǎo)電橋5連接第二觸控電極2。
[0051] 為了不影響顯示效果，進(jìn)一步地，使每個梳狀圖形的觸控電極中，用于連接梳齒的 連接條（如圖3中虛線框部分所示）位于光柵基板黑矩陣對應(yīng)的區(qū)域。
[0052] 進(jìn)一步地，在形成第二導(dǎo)電橋5后還包括形成保護(hù)層，以保護(hù)光柵基板。
[0053] 進(jìn)一步地，襯底基板可以是彩膜基板（CF)，即可以做在CF背面，這樣不需要額外 制作光柵以及進(jìn)行額外的光柵對位，從而避免對位偏差。當(dāng)然，對于單片玻璃式（One Glass Solution, 0GS)方案，也可以做在保護(hù)層（Cover)里面。
[0054] 實施例2
[0055] 本實施例提供的光柵基板制作方法，包括以下步驟：
[0056] 步驟一，在襯底基板上的預(yù)定位置形成第二導(dǎo)電橋。
[0057] 步驟二，形成絕緣間隔層，使其覆蓋所述第二導(dǎo)電橋。
[0058] 步驟三，形成梳狀、不透明的觸控電極的陣列，且使陣列中第一觸控電極通過第一 導(dǎo)電橋連接在一起，所述第二導(dǎo)電橋?qū)㈥嚵兄械牡诙|控電極連接在一起，使所述第一導(dǎo) 電橋和所述第二導(dǎo)電橋之間間隔所述絕緣間隔層。
[0059] 步驟一中，具體制作時，可先形成一層光刻膠，接著去除待形成第二導(dǎo)電橋區(qū)域的 光刻膠，然后形成一層導(dǎo)電材料（如金屬），最后去除光刻膠，覆蓋在光刻膠上的導(dǎo)電材料 一同被去除，最終形成第二導(dǎo)電橋；或者先形成一層導(dǎo)電材料，再采用構(gòu)圖工藝（構(gòu)圖工藝 通常包括光刻膠涂敷、曝光、顯影、刻蝕、光刻膠剝離等工藝）的方式制作。
[0060] 步驟二中，覆蓋第二導(dǎo)電橋的絕緣間隔層可以覆蓋整個襯底基板（覆蓋整個襯底 基板時在絕緣間隔層對應(yīng)第二觸控電極與第二導(dǎo)電橋相連的區(qū)域形成過孔即可），也可只 覆蓋第二導(dǎo)電橋的區(qū)域，或只覆蓋即將形成的第一導(dǎo)電橋與第二導(dǎo)電橋重疊的區(qū)域。
[0061] 步驟三中，為了節(jié)省制作工序，第一導(dǎo)電橋采用與觸控電極相同的材料，這樣在襯 底基板上形成梳狀、且不透明的觸控電極（包括第一觸控電極和第二觸控電極）的陣列的 同時形成第一導(dǎo)電橋連接第一觸控電極的圖形。形成第一導(dǎo)電橋3和觸控電極的圖形具體 可以采用構(gòu)圖工藝（構(gòu)圖工藝通常包括光刻膠涂敷、曝光、顯影、刻蝕、光刻膠剝離等工藝） 的方式制作。同時使在步驟一中形成的第二導(dǎo)電橋?qū)㈥嚵兄械牡诙|控電極連接在一起， 且使第一導(dǎo)電橋和所述第二導(dǎo)電橋之間間隔絕緣間隔層。
[0062] 為了不影響顯示效果，進(jìn)一步地，使每個梳狀圖形的觸控電極中，用于連接梳齒的 連接條位于光柵基板黑矩陣對應(yīng)的區(qū)域。
[0063] 進(jìn)一步地，在形成第二導(dǎo)電橋后還包括形成保護(hù)層，以保護(hù)光柵基板。
[0064] 進(jìn)一步地，襯底基板可以是彩膜基板（CF)，即可以做在CF背面，這樣不需要額外 制作光柵以及進(jìn)行額外的光柵對位，從而避免對位偏差。當(dāng)然，對于單片玻璃式（One Glass Solution, 0GS)方案，也可以做在保護(hù)層（Cover)里面。
[0065] 實施例3
[0066] 如圖3所示，本發(fā)明還提供了一種光柵基板，包括：形成在襯底基板上的若干第一 導(dǎo)電橋、第二導(dǎo)電橋、不透明的第一觸控電極和第二觸控電極，所述第一觸控電極通過第一 導(dǎo)電橋連接，所述第二觸控電極通過第二導(dǎo)電橋連接，所述每個第一觸控電極和第二觸控 電極均為梳狀電極。
[0067] 如圖3中虛線框所示，每個梳狀的觸控電極中，用于連接梳齒的連接條位于光柵 基板黑矩陣對應(yīng)的區(qū)域。
[0068] 其中，所述襯底基板為彩膜基板，或?qū)τ趩纹Ａ剑∣ne Glass Solution, 0GS) 方案，也可以做在保護(hù)層（Cover)里面。
[0069] 本發(fā)明的光柵基板中，觸控電極為不透明的梳狀電極的圖形，既能作為觸控電極 又能作為3D光柵，同時實現(xiàn)了觸摸和3D功能。
[0070] 本發(fā)明還提供了一種顯示裝置，包括上述的光柵基板。該顯示裝置可以為：具有 3D顯示功能的液晶面板、0LED面板、手機、平板電腦、電視機、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相 框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。
[0071] 以上實施方式僅用于說明本發(fā)明，而并非對本發(fā)明的限制，有關(guān)【技術(shù)領(lǐng)域】的普通 技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，還可以做出各種變化和變型，因此所有 等同的技術(shù)方案也屬于本發(fā)明的范疇，本發(fā)明的專利保護(hù)范圍應(yīng)由權(quán)利要求限定。
【權(quán)利要求】
1. 一種光柵基板制作方法，其特征在于，包括以下步驟： 在襯底基板上形成梳狀、不透明的觸控電極的陣列，且使陣列中第一觸控電極通過第 一導(dǎo)電橋連接在一起； 形成絕緣間隔層，使其覆蓋所述第一導(dǎo)電橋； 在所述絕緣間隔層上形成第二導(dǎo)電橋?qū)㈥嚵兄械牡诙|控電極連接在一起。
2. 如權(quán)利要求1所述的光柵基板制作方法，其特征在于，在襯底基板上形成梳狀、不透 明的觸控電極的陣列，且使陣列中第一觸控電極通過第一導(dǎo)電橋連接在一起的步驟具體包 括： 在襯底基板上形成梳狀、不透明的觸控電極的陣列的同時形成所述第一導(dǎo)電橋，以連 接所述第一觸控電極。
3. 如權(quán)利要求1所述的光柵基板制作方法，其特征在于，形成絕緣間隔層，使其覆蓋所 述第一導(dǎo)電橋的步驟具體包括： 形成絕緣間隔層覆蓋所述第二導(dǎo)電橋與第一導(dǎo)電橋重疊的區(qū)域。
4. 如權(quán)利要求1所述的光柵基板制作方法，其特征在于，使每個梳狀的觸控電極中，用 于連接梳齒的連接條位于所述光柵基板黑矩陣對應(yīng)的區(qū)域。
5. 如權(quán)利要求1所述的光柵基板制作方法，其特征在于，形成第二導(dǎo)電橋后，還包括形 成保護(hù)層。
6. 如權(quán)利要求1?5中任一項所述的光柵基板制作方法，其特征在于，所述襯底基板為 彩膜基板。
7. -種光柵基板制作方法，其特征在于，包括以下步驟： 在襯底基板上的預(yù)定位置形成第二導(dǎo)電橋； 形成絕緣間隔層，使其覆蓋所述第二導(dǎo)電橋； 形成梳狀、不透明的觸控電極的陣列，且使陣列中第一觸控電極通過第一導(dǎo)電橋連接 在一起，所述第二導(dǎo)電橋?qū)㈥嚵兄械牡诙|控電極連接在一起，使所述第一導(dǎo)電橋和所述 第二導(dǎo)電橋之間間隔所述絕緣間隔層。
8. 如權(quán)利要求7所述的光柵基板制作方法，其特征在于，形成絕緣間隔層，使其覆蓋所 述第二導(dǎo)電橋的步驟具體包括： 形成絕緣間隔層覆蓋所述第一導(dǎo)電橋與第二導(dǎo)電橋重疊的區(qū)域。
9. 如權(quán)利要求7所述的光柵基板制作方法，其特征在于，形成梳狀、不透明的觸控電極 的陣列，且使陣列中第一觸控電極通過第一導(dǎo)電橋連接在一起，所述第二導(dǎo)電橋?qū)㈥嚵兄?的第二觸控電極連接在一起的步驟具體包括： 在襯底基板上形成梳狀、不透明的觸控電極的陣列的同時形成所述第一導(dǎo)電橋，以連 接所述第一觸控電極，并使所述第二導(dǎo)電橋?qū)⑺龅诙|控電極連接在一起。
10. 如權(quán)利要求7所述的光柵基板制作方法，其特征在于，使每個梳狀的觸控電極中， 用于連接梳齒的連接條位于所述光柵基板黑矩陣對應(yīng)的區(qū)域。
11. 如權(quán)利要求7所述的光柵基板制作方法，其特征在于，形成梳狀、不透明的觸控電 極的陣列后，還包括形成保護(hù)層。
12. 如權(quán)利要求7?11中任一項所述的光柵基板制作方法，其特征在于，所述襯底基板 為彩膜基板。
13. -種光柵基板，包括：形成在襯底基板上的若干第一導(dǎo)電橋、第二導(dǎo)電橋、不透明 的第一觸控電極和第二觸控電極，所述第一觸控電極通過第一導(dǎo)電橋連接，所述第二觸控 電極通過第二導(dǎo)電橋連接，其特征在于，所述每個第一觸控電極和第二觸控電極均為梳狀 電極。
14. 如權(quán)利要求13所述的光柵基板，其特征在于，每個梳狀的觸控電極中，用于連接梳 齒的連接條位于所述光柵基板黑矩陣對應(yīng)的區(qū)域。
15. 如權(quán)利要求13或14所述的光柵基板，其特征在于，所述襯底基板為彩膜基板。
16. -種顯示裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求13?15中任一項所述的光柵基板。
【文檔編號】G06F3/041GK104123036SQ201410253654
【公開日】2014年10月29日 申請日期:2014年6月9日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月9日
【發(fā)明者】李宏偉, 李凡 申請人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 成都京東方光電科技有限公司