觸控板的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種觸控板，包括一基底、一圖案化裝飾層、一圖案化透明導(dǎo)電層以及一光學(xué)補(bǔ)償層。圖案化裝飾層是設(shè)置在基底上，并在基底上定義出一穿透區(qū)以及一開孔位于穿透區(qū)的一側(cè)。圖案化透明導(dǎo)電層是設(shè)置在基底上，且圖案化透明導(dǎo)電層包括一透明導(dǎo)電圖案。透明導(dǎo)電圖案是與開孔對(duì)應(yīng)設(shè)置，且透明導(dǎo)電圖案是在一垂直基底的垂直投影方向上全面覆蓋開孔。光學(xué)補(bǔ)償層是設(shè)置在基底上，且光學(xué)補(bǔ)償層是在垂直投影方向上覆蓋開孔。本發(fā)明是利用在觸控板的開孔處設(shè)置透明導(dǎo)電圖案與光學(xué)補(bǔ)償層進(jìn)行搭配，達(dá)到提高開孔的透射比的效果。
【專利說(shuō)明】觸控板

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明是涉及一種觸控板，特別涉及一種在照相機(jī)開孔處對(duì)應(yīng)設(shè)置透明導(dǎo)電圖案 與光學(xué)補(bǔ)償層的觸控板。

【背景技術(shù)】
[0002] 近年來(lái)觸控技術(shù)的發(fā)展非常蓬勃，許多消費(fèi)性電子產(chǎn)品例如移動(dòng)電話與平板計(jì)算 機(jī)均有與觸控技術(shù)整合的產(chǎn)品不斷推出。由于此類消費(fèi)性電子產(chǎn)品往往也整合了拍照的功 能，因此觸控板的外蓋玻璃（cover glass)上必須有對(duì)應(yīng)的照相機(jī)開孔，用以使照相機(jī)能通 過(guò)照相機(jī)開孔接收外界的光線。為了提高照相機(jī)拍照的質(zhì)量，改善照相機(jī)開孔的透射比是 其中一種方式。一般來(lái)說(shuō)，傳統(tǒng)提高透射比的作法為直接貼附抗反射膜。由于一般的照相 機(jī)開孔較?。ㄖ睆郊s1. 5mm左右），因此對(duì)照相機(jī)開孔進(jìn)行抗反射膜貼附時(shí)也存在不易貼附 的問(wèn)題，進(jìn)而造成作業(yè)工時(shí)較長(zhǎng)且影響合格率以及成本。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 本發(fā)明的目的在提供一種觸控板，利用在觸控板的開孔處設(shè)置透明導(dǎo)電圖案與光 學(xué)補(bǔ)償層進(jìn)行搭配，達(dá)到提高開孔的透射比的效果。
[0004] 本發(fā)明提供一種觸控板，包括一基底、一圖案化裝飾層、一圖案化透明導(dǎo)電層以及 一光學(xué)補(bǔ)償層。圖案化裝飾層是設(shè)置在基底上，并在基底上定義出一穿透區(qū)以及一開孔位 于穿透區(qū)的一側(cè)。圖案化透明導(dǎo)電層是設(shè)置在基底上，且圖案化透明導(dǎo)電層包括一透明導(dǎo) 電圖案。透明導(dǎo)電圖案是與開孔對(duì)應(yīng)設(shè)置，且透明導(dǎo)電圖案是在一垂直基底的垂直投影方 向上全面覆蓋開孔。光學(xué)補(bǔ)償層是設(shè)置在基底上，且光學(xué)補(bǔ)償層是在垂直投影方向上覆蓋 開孔。
[0005] 在本發(fā)明的另外一實(shí)施例中，圖案化透明導(dǎo)電層還包括多個(gè)觸控感測(cè)電極，且觸 控感測(cè)電極是設(shè)置在穿透區(qū)內(nèi)。
[0006] 在本發(fā)明的另外一實(shí)施例中，光學(xué)補(bǔ)償層是在垂直投影方向上進(jìn)一步覆蓋穿透 區(qū)。
[0007] 在本發(fā)明中，設(shè)置在開孔處的透明導(dǎo)電圖案與觸控感測(cè)電極可以用相同材料以及 同一制造工藝步驟所形成，故本發(fā)明的觸控板并不需使用額外的制造工藝即可達(dá)到提高開 孔的透射比的效果。此外，設(shè)置在開孔處的光學(xué)補(bǔ)償層也延伸覆蓋位于穿透區(qū)的觸控感測(cè) 電極，故可同時(shí)達(dá)到降低觸控感測(cè)電極可識(shí)別度的效果。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0008] 圖1所示為本發(fā)明的第一優(yōu)選實(shí)施例的觸控板的示意圖。
[0009] 圖2為沿圖1中A-A'剖線所繪示的剖視圖。
[0010] 圖3所示為本發(fā)明的第二優(yōu)選實(shí)施例的觸控板的示意圖。
[0011] 圖4所示為本發(fā)明的第三優(yōu)選實(shí)施例的觸控板的示意圖。
[0012] 圖5所示為本發(fā)明的第四優(yōu)選實(shí)施例的觸控板的示意圖。
[0013] 圖6所示為本發(fā)明的一優(yōu)選實(shí)施例的觸控感測(cè)電極的示意圖。
[0014] 圖7所示為本發(fā)明的另外一優(yōu)選實(shí)施例的觸控感測(cè)電極的示意圖。
[0015] 圖8所示為本發(fā)明的又一優(yōu)選實(shí)施例的觸控感測(cè)電極的示意圖。
[0016] 其中，附圖標(biāo)記說(shuō)明如下：
[0017] 101 觸控板
[0018] 102 觸控板
[0019] 110 基底
[0020] 120 圖案化裝飾層
[0021] R1 穿透區(qū)
[0022] R2 開孔
[0023] 130 圖案化透明導(dǎo)電層
[0024] 131 觸控感測(cè)電極
[0025] 131R 觸控信號(hào)接收電極
[0026] 131T 觸控信號(hào)傳遞電極
[0027] 131X 第一軸向電極
[0028] 131Y 第二軸向電極
[0029] 132 透明導(dǎo)電圖案
[0030] 140 光學(xué)補(bǔ)償層
[0031] 141 第一補(bǔ)償層
[0032] 142 第二補(bǔ)償層
[0033] 150 第三補(bǔ)償層
[0034] 160 絕緣塊
[0035] 190 光敏裝置
[0036] 201 觸控板
[0037] 202 觸控板
[0038] X 第一方向
[0039] Y 第二方向
[0040] Z 垂直投影方向

【具體實(shí)施方式】
[0041] 為使熟習(xí)本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員能進(jìn)一步了解本發(fā)明，下文特列舉本發(fā) 明的數(shù)個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，并配合附圖，詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的構(gòu)成內(nèi)容。
[0042] 請(qǐng)參考圖1與圖2。圖1所示為本發(fā)明的第一優(yōu)選實(shí)施例的觸控板的示意圖。圖 2為沿圖1中A-A'剖線所繪示的剖視圖。為了方便說(shuō)明，本發(fā)明的各附圖僅為示意用以容 易了解本發(fā)明，其詳細(xì)的比例可依照設(shè)計(jì)的需求進(jìn)行調(diào)整。如圖1與圖2所示，本實(shí)施例提 供一觸控板101，包括一基底110、一圖案化裝飾層120、一圖案化透明導(dǎo)電層130以及一光 學(xué)補(bǔ)償層140。基底110可包括例如玻璃基底、陶瓷基底、塑膠基底或其他適合材料所形成 的基底。圖案化裝飾層120是設(shè)置在基底110上，并在基底110上定義出一穿透區(qū)R1以及 一開孔R(shí)2位于穿透區(qū)R1的一側(cè)。值得說(shuō)明的是，本實(shí)施例的觸控板101可還包括一光敏 裝置190與開孔R(shí)2對(duì)應(yīng)設(shè)置，光敏裝置190可為一影像擷取裝置例如照照相機(jī)，而開孔R(shí)2 可為一影像擷取開孔例如照相機(jī)開孔，但并不以此為限。在本發(fā)明的其他優(yōu)選實(shí)施例中，也 可視需要使用其他的光敏裝置190例如光學(xué)近距感測(cè)（proximity sensing)器等與開孔R(shí)2 對(duì)應(yīng)設(shè)置。此外，穿透區(qū)R1的面積是遠(yuǎn)大于開孔R(shí)2的面積，且開孔R(shí)2的形狀也可視需要進(jìn) 行調(diào)整。圖案化透明導(dǎo)電層130是設(shè)置在基底110上，且圖案化透明導(dǎo)電層130包括一透 明導(dǎo)電圖案132。透明導(dǎo)電圖案132是與開孔R(shí)2對(duì)應(yīng)設(shè)置，且透明導(dǎo)電圖案132是在一垂 直基底110的垂直投影方向Z上全面覆蓋開孔R(shí)2。光學(xué)補(bǔ)償層140是設(shè)置在基底110上， 且光學(xué)補(bǔ)償層140是在垂直投影方向Z上全面覆蓋開孔R(shí)2。圖案化透明導(dǎo)電層130還包括 多個(gè)觸控感測(cè)電極131且觸控感測(cè)電極131是設(shè)置在穿透區(qū)R1內(nèi)。光學(xué)補(bǔ)償層140進(jìn)一 步是在垂直投影方向Z上全面覆蓋穿透區(qū)R1。
[0043] 進(jìn)一步說(shuō)明，本實(shí)施例的圖案化透明導(dǎo)電層130可包括氧化銦錫（indium tin oxide, ITO)、氧化銦鋒（indium zinc oxide, IZO)、氧化錯(cuò)鋒（aluminum zinc oxide, ΑΖ0) 或其他適合的透明導(dǎo)電材料。設(shè)置在開孔R(shí)2處的透明導(dǎo)電圖案132與觸控感測(cè)電極131 優(yōu)選是以相同材料以及同一制造工藝步驟所形成。值得說(shuō)明的是，透明導(dǎo)電圖案132是與 觸控感測(cè)電極131間可視需要設(shè)計(jì)為互相電連接或不電連接，且當(dāng)透明導(dǎo)電圖案132是 與觸控感測(cè)電極131電不相連時(shí)，透明導(dǎo)電圖案132優(yōu)選是為一電浮接（electrically floating)的透明導(dǎo)電圖案，但并不以此為限。在本實(shí)施例中，圖案化透明導(dǎo)電層130是設(shè) 置在基底110與光學(xué)補(bǔ)償層140之間。光學(xué)補(bǔ)償層140可包括一第一補(bǔ)償層141與一第二 補(bǔ)償層142沿垂直投影方向Z上堆棧設(shè)置，且第一補(bǔ)償層141是設(shè)置在圖案化透明導(dǎo)電層 130與第二補(bǔ)償層142之間，但并不以此為限。在本發(fā)明的其他優(yōu)選實(shí)施例中，也可視需要 使用單層或其他種多層結(jié)構(gòu)的光學(xué)補(bǔ)償層140用以達(dá)到所需的光學(xué)補(bǔ)償效果。在本實(shí)施例 中，第一補(bǔ)償層141的折射率優(yōu)選是小于圖案化透明導(dǎo)電層130的折射率以及第二補(bǔ)償層 142的折射率，且圖案化透明導(dǎo)電層130的折射率優(yōu)選是大于基底110的折射率。第一補(bǔ) 償層141與第二補(bǔ)償層142可包括透明絕緣材料例如氮化娃（silicon nitride)、氧化娃 (silicon oxide)、氮氧化娃（silicon oxynitride)、丙烯酸類樹脂（acrylic resin)或其 它適合的有機(jī)或無(wú)機(jī)的透明絕緣材料。通過(guò)上述的各層的設(shè)置位置與其折射率之間的互相 搭配，可達(dá)到提高開孔R(shí)2的透射比的效果。舉例來(lái)說(shuō)，請(qǐng)參考下列表1，并請(qǐng)一并參考圖2。 表1所列的數(shù)據(jù)為分別使用折射率約為1. 5的玻璃基底、使用折射率約為1. 9的氧化銦鋅 形成透明導(dǎo)電圖案132、使用折射率約為1. 5的二氧化硅（Si02)形成第一補(bǔ)償層141以及 使用折射率約為1.87的氮化硅（SiNx)形成第二補(bǔ)償層142時(shí)開孔R(shí)2的透射比與反射比 的改善效果，并對(duì)照一般單純玻璃基底以及僅在玻璃基底上設(shè)置二氧化硅與氮化硅層時(shí)開 孔R(shí)2的透射比與反射比的對(duì)照狀況。
[0044] 表 1
[0045]

【權(quán)利要求】
1. 一種觸控板，其特征在于，包括： 一基底； 一圖案化裝飾層，設(shè)置在該基底上，并在該基底上定義出一穿透區(qū)以及一開孔位于該 穿透區(qū)的一側(cè)； 一圖案化透明導(dǎo)電層，設(shè)置在該基底上，其中該圖案化透明導(dǎo)電層包括一透明導(dǎo)電圖 案，與該開孔對(duì)應(yīng)設(shè)置，且該透明導(dǎo)電圖案是在一垂直該基底的垂直投影方向上全面覆蓋 該開孔；以及 一光學(xué)補(bǔ)償層，設(shè)置在該基底上，其中該光學(xué)補(bǔ)償層是在該垂直投影方向上覆蓋該開 孔。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控板，其特征在于，該圖案化透明導(dǎo)電層還包括多個(gè)觸控 感測(cè)電極，設(shè)置在該穿透區(qū)。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控板，其特征在于，該光學(xué)補(bǔ)償層還近一步覆蓋該穿透區(qū)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的觸控板，其特征在于，該透明導(dǎo)電圖案是不與該些觸控感測(cè) 電極電連接，且該透明導(dǎo)電圖案是為一電浮接的透明導(dǎo)電圖案。
5. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的觸控板，其特征在于，該透明導(dǎo)電圖案是與該些觸控感測(cè)電 極電連接。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控板，其特征在于，還包括一光敏裝置與該開孔對(duì)應(yīng)設(shè)置。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的觸控板，其特征在于，該光敏裝置是為一影像擷取裝置，而該 開孔是為一影像擷取開孔。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控板，其特征在于，該圖案化透明導(dǎo)電層是設(shè)置在該基底 與該光學(xué)補(bǔ)償層之間。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的觸控板，其特征在于，該圖案化透明導(dǎo)電層的折射率是大于 該基底的折射率。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的觸控板，其特征在于，該光學(xué)補(bǔ)償層包括一第一補(bǔ)償層與一 第二補(bǔ)償層沿該垂直投影方向上堆棧設(shè)置，該第一補(bǔ)償層是設(shè)置在該圖案化透明導(dǎo)電層與 該第二補(bǔ)償層之間，且該第一補(bǔ)償層的折射率是小于該圖案化透明導(dǎo)電層的折射率以及該 第二補(bǔ)償層的折射率。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控板，其特征在于，該光學(xué)補(bǔ)償層是設(shè)置在該基底與該圖 案化透明導(dǎo)電層之間。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的觸控板，其特征在于，該光學(xué)補(bǔ)償層包括一第一補(bǔ)償層與 一第二補(bǔ)償層沿該垂直投影方向上堆棧設(shè)置，該第二補(bǔ)償層是設(shè)置在該基底與該第一補(bǔ)償 層之間，且該第二補(bǔ)償層的折射率是大于該基底的折射率以及該第一補(bǔ)償層的折射率。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的觸控板，其特征在于，該圖案化透明導(dǎo)電層的折射率是大 于該第一補(bǔ)償層的折射率。
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的觸控板，其特征在于，還包括一第三補(bǔ)償層設(shè)置在該基底 上且全面覆蓋該開孔與該穿透區(qū)，其中該圖案化透明導(dǎo)電層是設(shè)置在該第一補(bǔ)償層與該第 三補(bǔ)償層之間，且該圖案化透明導(dǎo)電層的折射率是大于該第三補(bǔ)償層的折射率。
【文檔編號(hào)】G06F3/041GK104216551SQ201310272558
【公開日】2014年12月17日 申請(qǐng)日期:2013年7月2日 優(yōu)先權(quán)日:2013年5月30日
【發(fā)明者】朱冠宇, 王愉晴, 黃敬佩, 陳明武, 莊仕韻, 曾遠(yuǎn)康 申請(qǐng)人:勝華科技股份有限公司