專利名稱：一種觸控顯示器的制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及液晶顯示器和觸摸屏的制造，尤其涉及一種觸控顯示器的制造方法。
背景技術：
液晶顯示器一般都具有由兩片玻璃夾持一層液晶層所構成的液晶盒結構，其中，對于主動矩陣的TFT液晶顯示器來說，其一片玻璃設置有TFT陣列，一般稱為陣列基板，另一片玻璃設置有彩色濾光膜，一般稱為濾光基板，陣列基板一般設置在靠近背光的一側，濾光基板一般設置在靠近使用者的一側。這種液晶顯示器的制造過程一般可分為前工序和后工序。其中，前工序主要包括以下工藝1)、將多個顯示器單元的TFT陣列制作在一片陣列基板上；2)、將多個顯示器單元的彩色濾光膜制作在一片濾色玻璃基板上；3)、在其中一片基板上制作膠圈以及滴上液
晶層；4)、將兩面基板貼合起來，使液晶層被夾置在每個顯示器單元內。因此，前工序一般設有各種大型的鍍膜、圖形化以及真空灌注/貼合設備，其對廠房的凈化要求也非常高，世界上僅有為數不多的幾個顯示器大廠擁有這種前工序的制造線。上述由陣列基板與濾光基板貼合而成的半成品，一般稱為液晶顯示器的拼板。后工序則包括拼板切割、偏光片貼附、驅動電路加入等工藝，通過后工序的加工，最終得到每個液晶顯示器的成品。一般來說，相比于前工序，后工序的投資較少，可以較靈活地進行改造。隨著顯示技術和投射式電容觸控技術的發(fā)展，有人提出液晶顯示器結合投射式電容觸控技術的電容式觸控液晶顯示器(以下簡稱“觸控顯示器”)，如果將其配置在手機、平板電腦等便攜電子裝置上，則不需要專門為這種電子裝置配置觸摸屏，降低了電子裝置的厚度和成本，具有較大的市場前景。觸控顯示器一般可分為盒內結構(in-cell)和盒外結構(on-cell)。盒內結構將全部或部分觸摸感應層制作在液晶盒的內部，也就是說，至少部分觸摸感應層須在前工序中完成，目前只能由為數不多的幾個液晶大廠進行制造，不利于這種觸控顯示器的推廣和普及。對于盒外結構來說，其觸摸感應層一般制作在濾光基板的外側，因而不需要在前工序中完成。但是，在現有技術中，由于觸摸感應層一般具有多膜層結構，這些膜層在圖形化過程一般都需采用強烈的紫外光進行照射，其中，透明的膜層(例如透明導電層和絕緣層)對紫外光的遮擋能力較差，在其圖形化過程中，液晶盒內的液晶層都會受到紫外光的照射，由于受到多次的紫外光照射，其液晶分子容易出現過量的分解，降低了液晶顯示的穩(wěn)定性。除此之外，上述各種工藝中的高溫條件，也較容易使液晶發(fā)生分解。

發(fā)明內容
本發(fā)明要解決的技術問題是提供一種觸控顯示器的制造方法，這種觸控顯示器的制造方法能夠減少液晶分子的分解，使得這種觸控顯示器具有較好的顯示穩(wěn)定性。采用的技術方案如下
一種觸控顯示器的制造方法，其特征在于包括如下步驟
(1)、制作由陣列基板和濾光基板夾持一層液晶層所構成的液晶顯示器拼板；
(2)、采用膠水將液晶顯示器拼板的邊緣密封起來；將液晶顯示器拼板的邊緣密封，能夠避免后續(xù)工藝過程中有液體滲入兩片基板的間隙中；
(3)、在濾光基板外側形成一層導電層；
(4)、對導電層進行圖形化，形成多個與液晶顯示器單元相對應的觸摸感應層；
(5)、對拼板進行切割，得到多個觸控顯示器單元，同時去掉拼板邊緣的膠水密封； (6)、在觸控顯示器單元的濾光基板上貼附前偏光片，在陣列基板上貼附后偏光片。對于單個液晶盒，在制造方法則更加簡單，一般包括如下步驟
(a)、制作由陣列基板和濾光基板夾持一層液晶層所構成的液晶盒；
(b)、采用膠水將液晶盒的邊緣密封起來；將液晶盒的邊緣密封，能夠避免后續(xù)工藝過程中有液體滲入兩片基板的間隙中；
(C)、在濾光基板外側形成一層導電層；
(d)、對導電層進行圖形化，形成觸摸感應層；
(e)、在濾光基板上貼附前偏光片，在陣列基板上貼附后偏光片。本發(fā)明的制造方法中，僅在形成觸摸感應層時采用一次紫外線光進行照射，大幅度減少紫外線光照射的次數，減少液晶分子的分解，使得這種觸控顯示器具有較好的顯示穩(wěn)定性。作為本發(fā)明的優(yōu)選方案，所述步驟(3)中，采用摻有鈦(Ti)的氧化銦錫，在常溫下進行鍍膜，然后進行加溫并在150°C以下退火，形成導電層。這種方式所形成的導電層，由于溫度只在150°C左右，有效防止液晶層在過高溫下發(fā)生分解。作為本發(fā)明進一步的優(yōu)選方案，在所述步驟(4)與步驟(5)之間，進行如下步驟在觸摸感應層上沉積一層金屬層；然后在金屬層上涂布一層光敏膠；通過掩膜、紫外光照射或顯影的方法使得光敏膠形成具有觸摸感應層相應圖形的蝕刻保護層；接著在蝕刻保護層的保護下對金屬層進行蝕刻；最后去掉蝕刻保護層而得到圖形化的金屬層。在摻有鈦(Ti)的氧化銦錫所形成透明導電層的基礎上，增加了金屬層，使得其導電性能更好，而在對于金屬層的蝕刻，液晶層在金屬層的保護下進行，不會由于紫外光的照射而發(fā)生分解。作為本發(fā)明的另一種優(yōu)選方案，所述步驟(3 )中，在濾光基板上涂布一層含有氧化銦錫顆粒的透明導電光敏膠，然后在低于100°C的溫度下對其進行烘焙，蒸發(fā)掉透明導電光敏膠中的熔劑，形成導電層。優(yōu)選透明導電光敏膠為負性膠，也就是說，其可以在紫外光的照射下而發(fā)生固化。采用透明導電光敏膠以涂布的方式形成導電層，整個過程在低于100°c的溫度下進行，有效防止液晶層在過高溫下發(fā)生分解。作為本發(fā)明的另一種優(yōu)選方案，所述步驟(3)中，在濾光基板上沉積一層金屬層，然后在金屬層上形成蝕刻保護層，在蝕刻保護層的保護下對金屬層進行蝕刻，將金屬層圖形化為網格形狀，網格中線條的密度與液晶顯示器像素間的間隙相等或成整數倍；然后在所述步驟(4)中，將網格狀的金屬層切割為各個感應電極，形成觸摸感應層。對于金屬層的蝕刻，液晶層在金屬層的保護下進行，不會受到紫外光的照射而發(fā)生分解；而由于金屬層形成網格中線條的密度與液晶顯示器像素間的間隙相等或成整數倍，因此這些線條雖然會遮掩掉像素的一部分，但是不會導致不同像素的亮度變化。上述的金屬層可以為導電率較高的單層或多層的單質金屬或合金膜，如單層的銅、鋁、銀、鉻、鋁釹合金，或者如“鑰鈮-鋁釹-鑰鈮”的三層合金。作為本發(fā)明進一步的優(yōu)選方案，所述步驟(3)中，所述蝕刻保護層為黑色，并保留在金屬層上。蝕刻保護層 最終保留在金屬層上，防止金屬層的反光干擾使用者對畫面的觀看。蝕刻保護層可以采用黑色光敏膠形成，并最終保留在金屬層上；蝕刻保護層也可以為氧化鉻等無機黑色膜層，在沉積完金屬層的工藝之后進一步沉積而成，最終在圖形化工藝中與金屬層一并圖形化。作為本發(fā)明更進一步的優(yōu)選方案，在所述步驟(2)與步驟(3)之間，將液晶盒浸泡在氫氟酸(HF)溶液中，對陣列基板和濾光基板進行減薄。通過這種減薄工藝，使得陣列基板和濾光基板的表面被氫氟酸腐蝕掉一定的厚度，使液晶盒的厚度減小，另外，還可以去掉基板表面的污潰，使得后續(xù)工藝中所沉積的膜層附著更加牢固。


圖I是本發(fā)明觸控顯示器的結構示意 圖2是實施例一中單導電層的觸摸感應層示意 圖3是實施例一中另一種單導電層的觸摸感應層示意 圖4是實施例一中另一種單導電層的觸摸感應層示意 圖5是實施例四中單導電層的觸摸感應層示意圖。
具體實施例方式下面結合附圖和本發(fā)明的優(yōu)選實施方式做進一步的說明。實施例一
如圖I所示，這種觸控顯示器的制造方法，包括如下步驟
(1)、制作由陣列基板I和濾光基板2夾持一層液晶層所構成的液晶顯示器拼板；
(2)、采用膠水將液晶顯示器拼板的邊緣密封起來；
(3)、采用摻有鈦(Ti)的氧化銦錫，在常溫下進行鍍膜，然后加溫并在150°C以下進行退火，在濾光基板2外側形成一層導電層3 ；
(4)、對導電層3進行圖形化，形成如圖2、圖3或圖4所示的觸摸感應層4。圖2所示的觸摸感應層4包括多個電極行401，每個電極行401包括兩個互補的三角形第一電極4011、第二電極4012 ;圖3所示的觸摸感應層4也包括多個電極行402，每個電極行402包括一個等腰三角形的第一電極4021與左右兩個直角三角形的第二電極4022互補而成；如圖4所示的觸摸感應層4包括多個電極列403，每個電極列403包括一個沿Y方向延伸的Y電極4031和多個X電極4032 ;這三種圖形的觸摸感應層4相比于現有on-cell技術需采用多個圖形化透明膜層，只需要采用一層圖形化的透明導電層。(5)、對拼板進行切割，得到多個觸控顯示器單元，同時去掉拼板邊緣的膠水密封；
(6)、在觸控顯示器單元的濾光基板2上貼附前偏光片5，在陣列基板6上貼附后偏光片
7。
在最后再采用FOG (Flex On Glass)工藝在感應層外接端上連接上相應的柔性連線(FPC)8、去掉液晶盒臺階9上的保護膠層，在其上采用COG工藝連接上驅動芯片以及采用FOG工藝連接上顯示部分的柔性連線8，在觸控顯示器背面加裝背光裝置。實施例二
在其它步驟均與實施例一相同的情況下，其區(qū)別在于在所述步驟(4)與步驟(5)之間，進行如下步驟在觸摸感應層4上沉積一層金屬層，然后在金屬層上涂布一層光敏膠，通過掩膜、紫外光照射或顯影的方法使得光敏膠形成具有觸摸感應層相應圖形的蝕刻保護層，接著在蝕刻保護層的保護下對金屬層進行蝕刻，最后去掉蝕刻保護層而得到圖形化的
金屬層。實施例三
在其它步驟均與實施例一相同的情況下，其區(qū)別在于所述步驟(3)中，在濾光基板2上涂布一層含有氧化銦錫顆粒的透明導電光敏膠，然后在低于100°C的溫度下對其進行烘焙，蒸發(fā)掉透明導電光敏膠中的熔劑，形成導電層3。實施例四
如圖5所示，在其它步驟均與實施例一相同的情況下，其區(qū)別在于步驟(3)中，在濾光基板2上沉積一層金屬層10，然后在金屬層10上形成蝕刻保護層，在蝕刻保護層的保護下對金屬層10進行蝕刻，將金屬層10圖形化為網格形狀，網格中線條11的密度與液晶顯示器像素間的間隙相等或成整數倍；然后在步驟(4)中，將網格狀的金屬層10切割為各個感應電極12，形成觸摸感應層4。由于金屬層10形成網格中線條11的密度與液晶顯示器像素間的間隙相等或成整數倍，因此這些線條雖然會遮掩掉像素的一部分，但是不會導致不同像素的亮度變化。作為本制造方法的一種改進，在步驟(3)中，蝕刻保護層采用黑色光敏膠形成，并最終保留在金屬層10上；或者是，蝕刻保護層為氧化鉻等無機黑色膜層，在沉積完金屬層10的工藝之后進一步沉積而成，最終在圖形化工藝中與金屬層10 —并圖形化。上述的金屬層10可以為導電率較高的單層或多層的單質金屬或合金膜，如單層的銅、鋁、銀、鉻、鋁釹合金，或者如“鑰鈮-鋁釹-鑰鈮”的三層合金。上述任一實施例中，均可以在步驟(2 )與步驟(3 )之間，將液晶顯示器拼板浸泡在氫氟酸(HF)溶液中，對陣列基板I和濾光基板2進行減薄。此外，需要說明的是，本說明書中所描述的具體實施例，其各部分名稱等可以不同，凡依本發(fā)明專利構思所述的構造、特征及原理所做的等效或簡單變化，均包括于本發(fā)明專利的保護范圍內。本發(fā)明所屬技術領域的技術人員可以對所描述的具體實施例做各種各樣的修改或補充或采用類似的方式替代，只要不偏離本發(fā)明的結構或者超越本權利要求書所定義的范圍，均應屬于本發(fā)明的保護范圍。
權利要求
1.一種觸控顯示器的制造方法，其特征在于包括如下步驟 (1)、制作由陣列基板和濾光基板夾持一層液晶層所構成的液晶顯示器拼板； (2)、采用膠水將液晶顯示器拼板的邊緣密封起來；將液晶顯示器拼板的邊緣密封，能夠避免后續(xù)工藝過程中有液體滲入兩片基板的間隙中； (3)、在濾光基板外側形成一層導電層； (4)、對導電層進行圖形化，形成多個與液晶顯示器單元相對應的觸摸感應層； (5)、對拼板進行切割，得到多個觸控顯示器單元，同時去掉拼板邊緣的膠水密封； (6)、在觸控顯示器單元的濾光基板上貼附前偏光片，在陣列基板上貼附后偏光片。
2.如權利要求I所述的觸控顯示器的制造方法，其特征在于所述步驟(3)中，采用摻有鈦的氧化銦錫，在常溫下進行鍍膜，然后進行加溫并在150°C以下退火，形成導電層。
3.如權利要求2所述的觸控顯示器的制造方法，其特征在于在所述步驟(4)與步驟(5)之間，進行如下步驟在觸摸感應層上沉積一層金屬層；然后在金屬層上涂布一層光敏膠；通過掩膜、紫外光照射或顯影的方法使得光敏膠形成具有觸摸感應層相應圖形的蝕刻保護層；接著在蝕刻保護層的保護下對金屬層進行蝕刻；最后去掉蝕刻保護層而得到圖形化的金屬層。
4.如權利要求I所述的觸控顯示器的制造方法，其特征在于所述步驟(3)中，在濾光基板上涂布一層含有氧化銦錫顆粒的透明導電光敏膠，然后在低于100°C的溫度下對其進行烘焙，蒸發(fā)掉透明導電光敏膠中的熔劑，形成導電層。
5.如權利要求I所述的觸控顯示器的制造方法，其特征在于所述步驟(3)中，在濾光基板上沉積一層金屬層，然后在金屬層上形成蝕刻保護層，在蝕刻保護層的保護下對金屬層進行蝕刻，將金屬層圖形化為網格形狀，網格中線條的密度與液晶顯示器像素間的間隙相等或成整數倍；然后在所述步驟(4)中，將網格狀的金屬層切割為各個感應電極，形成觸摸感應層。
6.如權利要求5所述的觸控顯示器的制造方法，其特征在于所述步驟(3)中，所述蝕刻保護層為黑色，并保留在金屬層上。
7.如權利要求I 6任一項所述的觸控顯示器的制造方法，其特征在于在所述步驟(2)與步驟(3)之間，將液晶盒浸泡在氫氟酸(HF)溶液中，對陣列基板和濾光基板進行減薄。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種觸控顯示器的制造方法，在濾光基板外側形成最多包含一層透明導電膜的觸摸感應層，由于僅在形成觸摸感應層時采用一次紫外線光進行照射，大幅度減少紫外線光照射的次數，減少液晶分子的分解，使得這種觸控顯示器具有較好的顯示穩(wěn)定性，另外，各種工藝中的溫度均降到150℃，有效防止液晶層在過高溫下發(fā)生分解。
文檔編號G06F3/041GK102944949SQ20121047445
公開日2013年2月27日 申請日期2012年11月21日 優(yōu)先權日2012年11月21日
發(fā)明者吳永俊, 沈奕, 林鋼, 詹前賢, 黃貴松, 吳錫淳, 孫楹煌, 劉驥 申請人:汕頭超聲顯示器(二廠)有限公司