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雙極晶體管仿真方法

文檔序號(hào):6386094閱讀:475來源:國(guó)知局
專利名稱:雙極晶體管仿真方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于半導(dǎo)體設(shè)計(jì)技術(shù),涉及一種雙極晶體管仿真方法。
背景技術(shù)
雙極晶體管是現(xiàn)代半導(dǎo)體集成電路中經(jīng)常采用的器件之一。特別在高速模擬集成 電路的設(shè)計(jì)中,該器件有廣泛的應(yīng)用。因此,雙極晶體管的器件模型仿真精度直接影響到 相關(guān)集成電路的設(shè)計(jì)精度,而科學(xué)的模型參數(shù)的提取方法是保障器件模型精度的關(guān)鍵。目 前,雙極晶體管的器件模型多采用Gummel-Poon模型,該模型包括幾十個(gè)不同的模型參數(shù), 其中和基區(qū)電阻相關(guān)的器件模型參數(shù)有三個(gè),即RB、RBM和IRB,其中RB為雙極晶體管集 電極小電流工作時(shí)的基區(qū)電阻,RBM為雙極晶體管集電極大電流工作時(shí)的基區(qū)電阻,IRB為 基區(qū)電阻從RB過渡到RBM過程中雙極晶體管集電極的中等電流,雙極晶體管集電極小電 流為小于設(shè)定值一的電流,大電流為大于設(shè)定值二的電流,中等電流為大于等于設(shè)定值一 小于等于設(shè)定值二的電流,作為一示例,雙極晶體管集電極小電流為小于luA,大電流為大 于10uA,中等電流為大于等于IuA同時(shí)小于等于10uA。和基區(qū)電阻相關(guān)的此三個(gè)模型參數(shù) 的精確提取一直是業(yè)界公認(rèn)的難點(diǎn),盡管業(yè)界陸續(xù)提出過一些基區(qū)電阻模型參數(shù)的提取方 法,但往往只注重于直流測(cè)試的數(shù)據(jù)和模型對(duì)雙極晶體管的各種直流特性的擬合,而忽略 雙極晶體管基區(qū)電阻模型參數(shù)對(duì)其高頻特性的影響,提取出的基區(qū)電阻相關(guān)的器件模型只 在直流特性的仿真方面具有一定的精度,在射頻仿真時(shí)模型參數(shù)的仿真精度卻往往較差, 從而導(dǎo)致雙極晶體管器件模型的整體仿真精度的下降。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種雙極晶體管仿真方法,考慮雙極晶體管基區(qū) 電阻模型參數(shù)對(duì)其高頻特性的影響,對(duì)雙極晶體管整體特性有較高的仿真精度。為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明的雙極晶體管仿真方法,采用Gummel-Poon雙極晶 體管模型對(duì)雙極晶體管仿真,所述Gummel-Poon雙極晶體管模型中的模型參數(shù)包括三個(gè) 與基區(qū)電阻相關(guān)的模型參數(shù)RB、RBM和IRB,其中RB為雙極晶體管集電極小電流工作時(shí)的 基區(qū)電阻,RBM為雙極晶體管集電極大電流工作時(shí)的基區(qū)電阻,IRB為基區(qū)電阻從RB過渡到 RBM過程中雙極晶體管集電極的中等電流;三個(gè)和集電結(jié)電容相關(guān)的模型參數(shù)CJC、VJC和 MJC,在物理意義上,CJC是零偏壓時(shí)的集電結(jié)電容值,VJC是集電結(jié)電容的電壓系數(shù),用于 擬合集電結(jié)電容與偏壓的關(guān)系曲線中偏壓為正部分的數(shù)據(jù),MJC是集電結(jié)電容的擬合系數(shù), 用于擬合集電結(jié)電容與偏壓的關(guān)系曲線中偏壓為負(fù)部分的數(shù)據(jù);和截止頻率相關(guān)的三個(gè)模 型參數(shù)TF、ITF和VTF,在物理意義上,TF是晶體管的渡越時(shí)間,用于擬合截止頻率與集電 極電流的關(guān)系曲線的最高值,ITF是晶體管的渡越時(shí)間的電流系數(shù),用于擬合截止頻率與集 電極電流的關(guān)系曲線中大電流區(qū)域的數(shù)據(jù),VTF是晶體管的渡越時(shí)間的電壓系數(shù),用于擬合 截止頻率與集電極電流的關(guān)系曲線隨集電極電壓的變化規(guī)律;其特征在于,所述Gummel-Poon雙極晶體管模型中的三個(gè)與基區(qū)電阻相關(guān)的模型參數(shù)通過以下方法確定一 .對(duì)雙極晶體管進(jìn)行在不同偏壓下集電結(jié)電容的射頻測(cè)試,測(cè)試得到集電結(jié)電 容Cbc與集電結(jié)偏壓的關(guān)系曲線,根據(jù)測(cè)試得到集電結(jié)電容Cbc與集電結(jié)偏壓的關(guān)系曲線, 用數(shù)值優(yōu)化和曲線擬合的方法,得到和集電結(jié)電容相關(guān)的三個(gè)模型參數(shù)CJC、VJC和MJC, 從而得到在不同偏壓條件下集電結(jié)電容Cbc的值;二 .對(duì)雙極晶體管進(jìn)行在不同集電極電流下的小信號(hào)射頻測(cè)試,測(cè)試得到雙極晶 體管的截止頻率Ft與集電極電流的關(guān)系曲線,以及雙極晶體管的最高振蕩頻Fmax與集電 極電流的關(guān)系曲線;三.根據(jù)雙極晶體管的截止頻率Ft與集電極電流的關(guān)系曲線,用數(shù)值優(yōu)化和曲線 擬合的方法,得到和截止頻率相關(guān)的三個(gè)模型參數(shù)TF、ITF和VTF,從而得到在不同集電極 電流條件下雙極晶體管的截止頻率Ft的值;四.根據(jù)得到的雙極晶體管的最高振蕩頻Fmax與集電極電流的關(guān)系曲線、不同 偏壓下條件下集電結(jié)電容Cbc的值、不同電流條件下雙極晶體管的截止頻率Ft,依據(jù)公式
權(quán)利要求
1.一種雙極晶體管仿真方法,采用Gummel-P00n雙極晶體管模型對(duì)雙極晶體管仿真, 所述Gummel-Poon雙極晶體管模型中的模型參數(shù)包括三個(gè)與基區(qū)電阻相關(guān)的模型參數(shù) RB、RBM和IRB,其中RB為雙極晶體管集電極小電流工作時(shí)的基區(qū)電阻,RBM為雙極晶體管 集電極大電流工作時(shí)的基區(qū)電阻,IRB為基區(qū)電阻從RB過渡到RBM過程中雙極晶體管集電 極的中等電流;三個(gè)和集電結(jié)電容相關(guān)的模型參數(shù)CJC、VJC和MJC,在物理意義上,CJC是 零偏壓時(shí)的集電結(jié)電容值,VJC是集電結(jié)電容的電壓系數(shù),用于擬合集電結(jié)電容與偏壓的關(guān) 系曲線中偏壓為正部分的數(shù)據(jù),MJC是集電結(jié)電容的擬合系數(shù),用于擬合集電結(jié)電容與偏壓 的關(guān)系曲線中偏壓為負(fù)部分的數(shù)據(jù);和截止頻率相關(guān)的三個(gè)模型參數(shù)TF、ITF和VTF,在物 理意義上,TF是晶體管的渡越時(shí)間,用于擬合截止頻率與集電極電流的關(guān)系曲線的最高值, ITF是晶體管的渡越時(shí)間的電流系數(shù),用于擬合截止頻率與集電極電流的關(guān)系曲線中大電 流區(qū)域的數(shù)據(jù),VTF是晶體管的渡越時(shí)間的電壓系數(shù),用于擬合截止頻率與集電極電流的關(guān) 系曲線隨集電極電壓的變化規(guī)律;其特征在于,所述Gummel-Poon雙極晶體管模型中的三個(gè)與基區(qū)電阻相關(guān)的模型參數(shù) 通過以下方法確定一.對(duì)雙極晶體管進(jìn)行在不同偏壓下集電結(jié)電容的射頻測(cè)試,測(cè)試得到集電結(jié)電容 Cbc與集電結(jié)偏壓的關(guān)系曲線,根據(jù)測(cè)試得到集電結(jié)電容Cbc與集電結(jié)偏壓的關(guān)系曲線,用 數(shù)值優(yōu)化和曲線擬合的方法,得到和集電結(jié)電容相關(guān)的三個(gè)模型參數(shù)CJC、VJC和MJC,從 而得到在不同偏壓條件下集電結(jié)電容Cbc的值;二 .對(duì)雙極晶體管進(jìn)行在不同集電極電流下的小信號(hào)射頻測(cè)試,測(cè)試得到雙極晶體管 的截止頻率Ft與集電極電流的關(guān)系曲線,以及雙極晶體管的最高振蕩頻Fmax與集電極電 流的關(guān)系曲線;三.根據(jù)雙極晶體管的截止頻率Ft與集電極電流的關(guān)系曲線,用數(shù)值優(yōu)化和曲線擬合 的方法,得到和截止頻率相關(guān)的三個(gè)模型參數(shù)TF、ITF和VTF,從而得到在不同集電極電流 條件下雙極晶體管的截止頻率Ft的值;四.根據(jù)得到的雙極晶體管的最高振蕩頻Fmax與集電極電流的關(guān)系曲線、不同偏 壓下條件下集電結(jié)電容Cbc的值、不同電流條件下雙極晶體管的截止頻率Ft,依據(jù)公式Fmax = J——^——,得到在不同電流條件下雙極晶體管的基區(qū)電阻Rb的值; V 8λ· χ Rb χ Cbc五.根據(jù)得到的不同電流條件下雙極晶體管的基區(qū)電阻Rb的值,確定雙極晶體管模型 中的三個(gè)與基區(qū)電阻相關(guān)的模型參數(shù)RB、IRB和RBM。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙極晶體管仿真方法,其特征在于,所述雙極晶體管集電極 小電流為小于設(shè)定值一的電流,大電流為大于設(shè)定值二的電流,中等電流為大于等于設(shè)定 值一小于等于設(shè)定值二的電流,所述小信號(hào)為功率小于設(shè)定值的射頻信號(hào)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的雙極晶體管仿真方法,其特征在于,所述雙極晶體管集電極 小電流為小于IuA的電流,大電流為大于IOuA的電流,中等電流為大于等于IuA小于等于 IOuA的電流,所述小信號(hào)為功率小于IOuW射頻信號(hào)。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種雙極晶體管仿真方法,采用Gummel-Poon模型對(duì)雙極晶體管仿真,保持電阻模型參數(shù)對(duì)雙極晶體管的各種直流特性的擬合,同時(shí)考慮雙極晶體管基區(qū)電阻對(duì)其高頻特性的較大影響,在確定Gummel-Poon雙極晶體管模型中的三個(gè)與基區(qū)電阻相關(guān)的模型參數(shù)時(shí),利用雙極晶體管在不同工作狀態(tài)下不同的高頻特性,提取出三個(gè)與基區(qū)電阻相關(guān)的模型參數(shù),從而保證了雙極晶體管基區(qū)電阻模型參數(shù)在高頻條件下的擬合精度,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)了對(duì)雙極晶體管整體特性的高精度仿真。
文檔編號(hào)G06F17/50GK102063516SQ20091020183
公開日2011年5月18日 申請(qǐng)日期2009年11月18日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月18日
發(fā)明者周天舒 申請(qǐng)人:上海華虹Nec電子有限公司
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