通過測量光性質(zhì)來進行的閉環(huán)控制的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本公開案的實施方式涉及處理方法以及用于操作所述方法的設(shè)備。更具體地，本 公開案的實施方式涉及處理方法和設(shè)備，其中工藝參數(shù)基于基板的監(jiān)測到的性質(zhì)而受控。 本公開案尤其涉及尤其適于處理并測量豎直地布置的大面積基板的串聯(lián)（in-line)處理 方法和設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002] 在許多技術(shù)應(yīng)用中，多種不同的材料層在基板上以疊置的方式沉積在彼此上。一 般來說，通過一連串的涂覆或沉積步驟（例如，濺射步驟）來這樣做。例如，可沉積具有"材 料一"材料二"材料一"的序列的多層的疊層。為了沉積多層的疊層，可使用多個沉積 模塊的串聯(lián)式布置。典型的串聯(lián)式系統(tǒng)包括許多接續(xù)的處理模塊，其中，多個處理步驟是在 一個接著一個的腔室內(nèi)進行，使得可利用串聯(lián)式系統(tǒng)連續(xù)地或準連續(xù)地處理多個基板。通 過改變工藝參數(shù)（諸如，沉積速率、基板通過多個沉積模塊的傳輸速度或其他工藝參數(shù)）， 就可獲取不同涂層物理性質(zhì)，例如，不同光學折射性質(zhì)。
[0003] 大面積基板的處理需要進行工藝監(jiān)測和質(zhì)量檢查以確保已處理的大面積基板的 高且可再現(xiàn)的質(zhì)量。例如，對于大面積基板上的涂層的質(zhì)量檢查，需以低持有成本（costof ownership)來確定經(jīng)涂覆的基板的光學性質(zhì)。在常規(guī)意義上，在用于質(zhì)量檢查的分開的設(shè) 備中進行對已處理的基板的質(zhì)量檢查。當檢測到已處理的基板的性質(zhì)偏離已處理的基板的 期望性質(zhì)時，參照導致所述性質(zhì)偏離的可能來源來分析生產(chǎn)工藝。這會導致工藝產(chǎn)生停工 時間，從而減少可實現(xiàn)的產(chǎn)出能力。
[0004] 因此，仍然存在對改進基板處理系統(tǒng)的需求，在所述改進基板處理系統(tǒng)中，可以最 優(yōu)產(chǎn)出能力實現(xiàn)已處理的大面積基板的質(zhì)量改進。因此，也存在對用于處理基板、特別是能 夠優(yōu)化產(chǎn)出能力的改進方法的需求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 鑒于上述內(nèi)容，本公開案提供一種用于處理大面積基板的方法，所述方法克服本 領(lǐng)域的至少一些問題。通過根據(jù)獨立權(quán)利要求所述的用于處理大面積基板的方法和設(shè)備至 少在某些程度上實現(xiàn)這一目標。通過從屬權(quán)利要求、說明書和所附附圖，本公開案的進一步 的方面、優(yōu)點和特征顯而易見。
[0006] 鑒于上述內(nèi)容，提供了一種用于處理大面積基板的方法。用于處理大面積基板的 方法包括：以一傳輸速度傳輸處于基本上豎直地布置的狀態(tài)的大面積基板通過用于處理大 面積基板的設(shè)備的腔室布置；使用用于處理大面積基板的設(shè)備的處理裝置來處理大面積基 板；使用測量布置監(jiān)測基本上豎直地布置的大面積基板的至少一個光學性質(zhì)，其中基本上 豎直地布置的大面積基板用漫射光來照射；以及基于大面積基板的監(jiān)測到的至少一個光學 性質(zhì)來控制至少一個工藝參數(shù)。
[0007] 根據(jù)本公開案的一個方面，提供一種用于處理大面積基板的設(shè)備，其中所述設(shè)備 包括腔室布置，用于以豎直地布置的狀態(tài)來傳輸大面積基板通過其中，其中腔室布置包括 至少一個腔室、用于處理豎直地布置的大面積基板的處理裝置和用于豎直地布置的大面積 基板的出口端口。此外，用于處理大面積基板的設(shè)備包括：傳輸系統(tǒng)，用于傳輸豎直地布置 的大面積基板通過腔室布置；測量布置，所述測量布置包括至少一個光學測量裝置，其中所 述至少一個光學測量布置包括發(fā)光裝置和第一光檢測裝置，發(fā)光裝置用于將漫射光發(fā)射至 豎直地布置的大面積基板上，第一光檢測裝置用于測量豎直地布置的大面積基板的至少一 個光學性質(zhì)；以及控制器，用于基于基本上豎直地布置的大面積基板的測量到的至少一個 光學性質(zhì)來對至少一個工藝參數(shù)進行閉環(huán)控制。
[0008] 根據(jù)本公開案的另一方面，用于處理大面積基板的設(shè)備可以利用本文所述測量布 置以及用于閉環(huán)控制的控制器進行改進。公開一種用于改進用于處理大面積基板的設(shè)備的 方法，所述方法包括提供如本文所述的用于利用本文所述測量布置以及用于閉環(huán)控制的控 制器處理大面積基板的設(shè)備。
[0009] 本公開案還涉及了用于執(zhí)行所公開的方法的設(shè)備，并且所述設(shè)備包括用于執(zhí)行每 一個所描述的方法步驟的設(shè)備零件。這些方法步驟可通過硬件組件、通過適當?shù)能浖幊?的計算機、通過這兩者的任何組合或以任何其他方式來執(zhí)行。此外，本公開案也涉及所述的 設(shè)備通過其進行操作的方法。它包括用于執(zhí)行所述設(shè)備的每一個功能的方法步驟。
[0010] 本公開案的另外方面、優(yōu)點和特征將從所附權(quán)利要求書、說明書和附圖清楚。
【附圖說明】
[0011] 因此，為了可詳細地理解本公開案的上述特征的方式，上文簡要概述的本公開案 的更具體的描述可以參照實施方式進行。附圖涉及本公開案的各個實施方式，并且在下文 中進行描述。典型實施方式在附圖中進行描繪，并且在以下描述中詳細說明。在附圖中：
[0012] 圖1示出根據(jù)本文所述實施方式的用于處理大面積基板的方法的說明性的實施 方式；
[0013] 圖2示出根據(jù)本文所述實施方式的用于處理大面積基板的設(shè)備的示意性透視圖；
[0014] 圖3示出根據(jù)本文所述實施方式的用于處理大面積基板的設(shè)備的示意性透視圖；
[0015] 圖4示出根據(jù)本文所述實施方式的用于處理大面積基板的設(shè)備的實施方式中的 光學測量裝置的實施方式的示意性剖面圖；
[0016] 圖5示出根據(jù)圖4的光學測量裝置的實施方式的示意性剖面圖，其中相比圖4所 示基板與光學測量裝置的相對位置，基板相對于光學測量裝置的相對位置橫向偏移；
[0017] 圖6示出根據(jù)圖4的光學測量裝置的實施方式的示意性剖面圖，其中相比圖4所 不基板的取向，基板取向是傾斜的；
[0018] 圖7示出根據(jù)本文所述實施方式的用于處理大面積基板的設(shè)備的實施方式中的 光學測量裝置的實施方式的示意性剖面圖；以及
[0019] 圖8示出根據(jù)本文所述實施方式的測量布置的實施方式的示意性剖面圖，所述測 量布置包括用于處理大面積基板的設(shè)備的實施方式中的光阱（lighttrap)和光學測量裝 置。
【具體實施方式】
[0020] 現(xiàn)在將詳細參照各實施方式，在每一個附圖中示出這些實施方式中的一個或多個 示例。每一個示例通過解釋的方式來提供，并且不意味著作為限制。例如，被示出或描述為 一個實施方式的部分的多個特性可用于或可結(jié)合任何其他實施方式以獲得進一步的實施 方式。本公開案旨在包括此類修改及變型。
[0021] 在以下對附圖的描述中，相同的參考編號是指相同或類似的部件。一般來說，僅相 對于多個單個的實施方式的區(qū)別被描述。除非另外指定，否則對一個實施方式中的某部分 或某方面的描述是也適用于另一實施方式中的對應(yīng)的部分或方面。
[0022] 本文中所使用的術(shù)語"基板"應(yīng)涵蓋通常用于顯示器制造的基板，諸如，玻璃或塑 料基板。例如，如本文中所述的基板應(yīng)涵蓋通常用于LCD(液晶顯示器）、rop(等離子體顯 示面板）等的基板。除非在說明中另外明確地指定，否則術(shù)語"基板"將理解為本文中所指 定的"大面積基板"。根據(jù)本公開案，大面積基板可具有至少0.174m2的尺寸。典型地，尺寸 可以是約1. 4m2至約8m2,更典型地，約2m2至約9m2,或甚至高達12m2。
[0023]根據(jù)本公開案，基板（為所述基板提供了根據(jù)本文所述實施方式的設(shè)備、設(shè)備的 腔室和方法）是如本文中所述的大面積基板或傳輸載件，所述傳輸載件具有大面積基板的 尺度或用于大面積基板。例如，具有對應(yīng)于作為大面積基板的單個基板的尺寸的載件可以 是第4. 5代、第5代、第7. 5代、第8. 5代、或甚至第10代，其中，第4. 5代對應(yīng)于約0. 67m2 的基板（730x920mm)、第5代對應(yīng)于約1. 4m2的基板（1.lmX1. 3m)、第7. 5代對應(yīng)于約 4. 29m2的基板（1. 95mX2. 2m)、第8. 5代對應(yīng)于約5. 7m2的基板（2. 2mX2. 5m)、第10代 對應(yīng)于約8. 7m2的基板（2. 85mX3. 05m)。甚至更新的代（諸如，第11代、第12代）與對應(yīng) 的基板面積可以類似地實現(xiàn)。但是，此類尺寸的各自載件也用于支撐多個基板。
[0024]根據(jù)本文所述實施方式，基板是基本上豎直地取向的。因此將理解，豎直地取向的 基板在處理系統(tǒng)中可具有偏離垂直方向（即，90° )某個偏離取向，，以便允許以幾度的傾 斜（例如，15°或更小的傾斜）進行的穩(wěn)定的傳輸。
[0025] 如圖1中示意性地所示，根據(jù)本文所述實施方式的用于處理大面積基板的方法包 括：在151處，以傳輸速度傳輸處于基本上豎直地布置狀態(tài)的大面積基板通過用于處理大 面積基板的設(shè)備的腔室布置；在152處，使用用于處理大面積基板的設(shè)備的處理裝置來處 理大面積基板；在153處，使用測量布置監(jiān)測基本上豎直地布置的大面積基板的至少一個 光學性質(zhì)，其中基本上豎直地布置的大面積基板用漫射光來照射；以及在154處，基于大面 積基板的監(jiān)測到的至少一光學性質(zhì)來控制至少一個工藝參數(shù)。由此提供一種用于處理大面 積基板的方法，利用所述方法，可響應(yīng)于檢測到的偏離所期望的預選性質(zhì)的偏差來調(diào)整用 于處理大面積基板的工藝參數(shù)，所述所期望的預選性質(zhì)旨在通過處理基板獲取。因此，根據(jù) 本文所述實施方式的用于處理大面積基板的方法是能夠基本上消除或至少減少工藝停機 時間。由此，通過采用根據(jù)本文所述實施方式的用于處理大面積基板的方法，就可增加產(chǎn)出 能力和處理效率。
[0026]根據(jù)可與本文所述方法的其他實施方式結(jié)合的方法的實施方式，在152處，處理 大面積基板包括以下至少一者：將涂層沉積到大面積基板上；以機械的方式處理大面積基 板的表面；以及以化學的方式處理大面積基板。根據(jù)多個實施方式，在152處，處理大面積 基板包括使用如本文所述的用于處理大面積基板的設(shè)備，特別是使用如本文所述的處理裝 置。
[0027] 根據(jù)可與本文所述方法的其他實施方式結(jié)合的方法的實施方式，在153處，監(jiān)測 大面積基板的至少一個光學性質(zhì)包括以下至少一者：測量來自大面積基板的反射率；以及 測量透過大面積基板的透射率。根