本發(fā)明是應(yīng)用于自動化領(lǐng)域里的一種設(shè)備異常反饋的系統(tǒng)及方法。

背景技術(shù)：

隨著產(chǎn)線精益化管理，設(shè)備自動化的提高，減少人員進入生產(chǎn)線，避免人員攜帶灰塵顆粒進入產(chǎn)線，人員無需在產(chǎn)線待命，而當(dāng)產(chǎn)線機臺出現(xiàn)異常時，人員無法立即出現(xiàn)在現(xiàn)場，這樣會導(dǎo)致產(chǎn)線出現(xiàn)塞片現(xiàn)象，當(dāng)設(shè)備異常不能運轉(zhuǎn)(down)的時間無法確定，前制程不立即禁止受入，將造成大量的在制品(wip，workinprocess)堵塞在設(shè)備內(nèi)部，會直接造成不良品(ng)處理，會引起大量產(chǎn)品品質(zhì)不良。當(dāng)前設(shè)備信號交握模式為前后機臺交握模式，中間相隔一個或幾個設(shè)備時無法控制前制程幾臺設(shè)備禁止投入。

如圖1所示，是現(xiàn)有液晶面板產(chǎn)線加工控制示意圖，玻璃基板依次經(jīng)過載入單元設(shè)備、清洗單元設(shè)備、清洗單元設(shè)備、涂料單元設(shè)備、真空干燥器等，直至卸料單元設(shè)備完成整個加工產(chǎn)線的加工。目前產(chǎn)線電子計算機(bc)只能監(jiān)控各單元也就是各個設(shè)備的信號交握情況及產(chǎn)線生產(chǎn)履歷，單并未能有效減少因設(shè)備異常不能運轉(zhuǎn)引起產(chǎn)品的不良。如：若涂料單元設(shè)備(cot)不能正常運轉(zhuǎn)，清洗單元設(shè)備(cln)和載入單元設(shè)備(ld)將會滿載，其中清洗單元設(shè)備的清洗時間長將直接影響產(chǎn)品品質(zhì)。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于為減少產(chǎn)線設(shè)備異常而引起的線體塞片現(xiàn)象，避免出現(xiàn)人員未到現(xiàn)場，而引起線體存片過多導(dǎo)致批量性不良的產(chǎn)生。

一種產(chǎn)線設(shè)備異常反饋系統(tǒng)，包括用于控制各個設(shè)備的plc模塊，所述plc模塊包括：初始脈沖模塊，控制整個反饋系統(tǒng)的啟停；

單元設(shè)備控制模塊，與各個設(shè)備相連，用于控制各個設(shè)備的啟停；

單元設(shè)備轉(zhuǎn)移模塊，與單元設(shè)備控制模塊相連，用于接收設(shè)備異常信號，并停止異常設(shè)備及異常設(shè)備之前的設(shè)備運行；

產(chǎn)線設(shè)備運行模塊，與單元設(shè)備轉(zhuǎn)移模塊相連，用于啟動異常設(shè)備之后設(shè)備的運行；

產(chǎn)線設(shè)備結(jié)束模塊，單元設(shè)備控制模塊相連，待異常設(shè)備之后的設(shè)備運行完成后停止整個產(chǎn)線的運行。

所述的產(chǎn)線設(shè)備異常反饋系統(tǒng)，其中：所述每個設(shè)備對應(yīng)相應(yīng)的單元設(shè)備控制模塊、產(chǎn)線設(shè)備運行模塊以及單元設(shè)備轉(zhuǎn)移模塊。

所述的產(chǎn)線設(shè)備異常反饋系統(tǒng)，其中：所述設(shè)備包括：載入單元設(shè)備、清洗單元設(shè)備、清洗單元設(shè)備、涂料單元設(shè)備、真空干燥器、預(yù)烘機、膜厚測量設(shè)備、掃描儀或調(diào)整設(shè)備、顯影設(shè)備、光學(xué)檢查設(shè)備、烘烤單元設(shè)備以及卸料單元設(shè)備。

所述的產(chǎn)線設(shè)備異常反饋系統(tǒng)，其中：所述設(shè)備按照載入單元設(shè)備、清洗單元設(shè)備、清洗單元設(shè)備、涂料單元設(shè)備、真空干燥器、預(yù)烘機、膜厚測量設(shè)備、掃描儀或調(diào)整設(shè)備、顯影設(shè)備、光學(xué)檢查設(shè)備、烘烤單元設(shè)備以及卸料單元設(shè)備的順序運行。

所述的產(chǎn)線設(shè)備異常反饋系統(tǒng)，其中：所述單元設(shè)備控制模塊還與產(chǎn)線設(shè)備運行模塊連接，當(dāng)設(shè)備出現(xiàn)異常時，產(chǎn)線設(shè)備運行模塊啟動，控制異常設(shè)備之后的設(shè)備運行。

一種產(chǎn)線設(shè)備異常反饋方法，其中：啟動初始脈沖模塊，產(chǎn)線設(shè)備依次運行，當(dāng)產(chǎn)線中其中一臺設(shè)備出現(xiàn)異常時，異常信號反饋至單元設(shè)備轉(zhuǎn)移模塊，異常設(shè)備轉(zhuǎn)移模塊停止異常設(shè)備及異常設(shè)備之前的設(shè)備運行，同時啟動產(chǎn)線運行模塊，控制異常設(shè)備之后的設(shè)備正常運行，待異常設(shè)備之后的設(shè)備依次運行完畢后停止整個產(chǎn)線的運行。

所述的產(chǎn)線設(shè)備異常反饋方法，其中，所述設(shè)備包括：順序運行載入單元設(shè)備、清洗單元設(shè)備、清洗單元設(shè)備、涂料單元設(shè)備、真空干燥器、預(yù)烘機、膜厚測量設(shè)備、掃描儀或調(diào)整設(shè)備、顯影設(shè)備、光學(xué)檢查設(shè)備、烘烤單元設(shè)備以及卸料單元設(shè)備。

所述的產(chǎn)線設(shè)備異常反饋方法，其中，所述清洗單元設(shè)備出現(xiàn)異常時，清洗單元設(shè)備控制模塊停止清洗單元設(shè)備的運行，清洗單元設(shè)備轉(zhuǎn)移模塊接受到異常信號，停止順序運行載入單元設(shè)備以及清洗單元設(shè)備的運行，并開啟產(chǎn)線設(shè)備運行模塊，控制涂料單元設(shè)備、真空干燥器、預(yù)烘機、膜厚測量設(shè)備、掃描儀或調(diào)整設(shè)備、顯影設(shè)備、光學(xué)檢查設(shè)備、烘烤單元設(shè)備以及卸料單元設(shè)備依次運行。

所述的產(chǎn)線設(shè)備異常反饋方法，其中，所述卸料單元運行完畢后，啟動產(chǎn)線設(shè)備結(jié)束模塊，停止所有設(shè)備運行。

所述的產(chǎn)線設(shè)備異常反饋方法，其特征在于，所述設(shè)備發(fā)生異常，對應(yīng)的單元設(shè)備轉(zhuǎn)移模塊控制異常設(shè)備之后的產(chǎn)線設(shè)備運行模塊的開啟。

本發(fā)明具有以下優(yōu)點：當(dāng)一個單元設(shè)備出現(xiàn)異常時，本系統(tǒng)可以自動停止前制程單元設(shè)備，不影響后續(xù)的設(shè)備的正常運行。

附圖說明

在下文中將基于實施例并參考附圖來對本發(fā)明進行更詳細(xì)的描述。其中：

圖1是現(xiàn)有液晶面板產(chǎn)線加工控制示意圖；

圖2為本發(fā)明實施例的plc程序圖；

圖3為本發(fā)明實施例的流程示意圖；

在附圖中，相同的部件使用相同的附圖標(biāo)記。附圖并未按照實際的比例。

具體實施方式

下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步說明。

一種產(chǎn)線設(shè)備異常反饋系統(tǒng)，包括用于控制各個設(shè)備的plc模塊，所述plc模塊包括：初始脈沖模塊，控制整個反饋系統(tǒng)的啟停；

單元設(shè)備控制模塊，與各個設(shè)備相連，用于控制各個設(shè)備的啟停；

單元設(shè)備轉(zhuǎn)移模塊，與單元設(shè)備控制模塊相連，用于接收設(shè)備異常信號，并停止異常設(shè)備及異常設(shè)備之前的設(shè)備運行；

產(chǎn)線設(shè)備運行模塊，與單元設(shè)備轉(zhuǎn)移模塊相連，用于啟動異常設(shè)備之后設(shè)備的運行；

產(chǎn)線設(shè)備結(jié)束模塊，單元設(shè)備控制模塊相連，待異常設(shè)備之后的設(shè)備運行完成后停止整個產(chǎn)線的運行。

所所述每個設(shè)備對應(yīng)相應(yīng)的單元設(shè)備控制模塊、產(chǎn)線設(shè)備運行模塊以及單元設(shè)備轉(zhuǎn)移模塊。通過單元設(shè)備轉(zhuǎn)移模塊，一方面將異常設(shè)備之前的設(shè)備停止，另一方面與產(chǎn)線設(shè)備運行模塊連接，通過產(chǎn)線設(shè)備運行模塊的啟動控制后續(xù)設(shè)備的正常運行。

所述設(shè)備包括：載入單元設(shè)備、清洗單元設(shè)備、清洗單元設(shè)備、涂料單元設(shè)備、真空干燥器、預(yù)烘機、膜厚測量設(shè)備、掃描儀或調(diào)整設(shè)備、顯影設(shè)備、光學(xué)檢查設(shè)備、烘烤單元設(shè)備以及卸料單元設(shè)備。所述設(shè)備按照載入單元設(shè)備、清洗單元設(shè)備、清洗單元設(shè)備、涂料單元設(shè)備、真空干燥器、預(yù)烘機、膜厚測量設(shè)備、掃描儀或調(diào)整設(shè)備、顯影設(shè)備、光學(xué)檢查設(shè)備、烘烤單元設(shè)備以及卸料單元設(shè)備的順序運行。

所述單元設(shè)備控制模塊還與產(chǎn)線設(shè)備運行模塊連接，當(dāng)設(shè)備出現(xiàn)異常時，產(chǎn)線設(shè)備運行模塊啟動，控制異常設(shè)備之后的設(shè)備運行。

一種產(chǎn)線設(shè)備異常反饋方法，包括，啟動初始脈沖模塊，產(chǎn)線設(shè)備依次運行，當(dāng)產(chǎn)線中其中一臺設(shè)備出現(xiàn)異常時，異常信號反饋至單元設(shè)備轉(zhuǎn)移模塊，異常設(shè)備轉(zhuǎn)移模塊停止異常設(shè)備及異常設(shè)備之前的設(shè)備運行，同時啟動產(chǎn)線運行模塊，控制異常設(shè)備之后的設(shè)備正常運行，待異常設(shè)備之后的設(shè)備依次運行完畢后停止整個產(chǎn)線的運行。

所述設(shè)備包括：順序運行載入單元設(shè)備、清洗單元設(shè)備、清洗單元設(shè)備、涂料單元設(shè)備、真空干燥器、預(yù)烘機、膜厚測量設(shè)備、掃描儀或調(diào)整設(shè)備、顯影設(shè)備、光學(xué)檢查設(shè)備、烘烤單元設(shè)備以及卸料單元設(shè)備。

所述卸料單元運行完畢后，啟動產(chǎn)線設(shè)備結(jié)束模塊，停止所有設(shè)備運行。

所述設(shè)備發(fā)生異常，對應(yīng)的單元設(shè)備轉(zhuǎn)移模塊控制異常設(shè)備之后的產(chǎn)線設(shè)備運行模塊的開啟。

如圖2所示，為本發(fā)明實施例的plc程序圖，該程序涉及l(fā)ed生產(chǎn)過程中載入單元設(shè)備(ld)、清洗單元設(shè)備(cln)、涂料單元設(shè)備(cot)以及卸料單元設(shè)備(uld)依次運行，其中，q0.1、q0.2、q0.3以及q0.4分別代表載入單元設(shè)備(ld)、清洗單元設(shè)備(cln)、涂料單元設(shè)備(cot)以及卸料單元設(shè)備(uld)的控制模塊，s0.0、s0.1、s0.2以及s0.3分別代表載入單元設(shè)備(ld)、清洗單元設(shè)備(cln)、涂料單元設(shè)備(cot)以及卸料單元設(shè)備(uld)的轉(zhuǎn)移模塊，scr為與轉(zhuǎn)移模塊相連的產(chǎn)線設(shè)備運行模塊，sm0.1代表初始脈沖模塊，scre代表產(chǎn)線設(shè)備結(jié)束模塊。啟動初始脈沖模塊，產(chǎn)線設(shè)備依次運行，當(dāng)產(chǎn)線中其中一臺設(shè)備出現(xiàn)異常時，異常信號反饋至單元設(shè)備轉(zhuǎn)移模塊，異常設(shè)備轉(zhuǎn)移模塊停止異常設(shè)備及異常設(shè)備之前的設(shè)備運行，同時啟動產(chǎn)線運行模塊，控制異常設(shè)備之后的設(shè)備正常運行，待異常設(shè)備之后的設(shè)備依次運行完畢后停止整個產(chǎn)線的運行。

如圖3所示，為本發(fā)明實施例的流程示意圖，載入單元設(shè)備(ld)、清洗單元設(shè)備(cln)、涂料單元設(shè)備(cot)、烘烤單元設(shè)備(oven)以及卸料單元設(shè)備(uld)依次運行，所述涂料單元設(shè)備出現(xiàn)異常時，涂料單元設(shè)備控制模塊停止涂料單元設(shè)備的運行，涂料單元設(shè)備轉(zhuǎn)移模塊接受到異常信號，停止順序運行載入單元設(shè)備以及清洗單元設(shè)備的運行，并開啟產(chǎn)線設(shè)備運行模塊，控制烘烤單元設(shè)備，以及卸料單元設(shè)備依次運行。

如此設(shè)置，單獨對產(chǎn)線設(shè)備進行管控，當(dāng)后制成設(shè)備出現(xiàn)異常時，前制程設(shè)備單元停止運行，減少產(chǎn)線設(shè)備異常引起的線體塞片現(xiàn)象，同時不影響后置設(shè)備的正常運行。

雖然已經(jīng)參考優(yōu)選實施例對本發(fā)明進行了描述，但在不脫離本發(fā)明的范圍的情況下，可以對其進行各種改進并且可以用等效物替換其中的部件。尤其是，只要不存在結(jié)構(gòu)沖突，各個實施例中所提到的各項技術(shù)特征均可以任意方式組合起來。本發(fā)明并不局限于文中公開的特定實施例，而是包括落入權(quán)利要求的范圍內(nèi)的所有技術(shù)方案。