一種液位計(jì)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本實(shí)用新型涉及測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種液位計(jì)。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有技術(shù)中氧化鎂涂液在罐內(nèi)配置時(shí)，通常使用雷達(dá)液位計(jì)用于測(cè)量罐內(nèi)液面，但是由于在配置過(guò)程中攪拌器高速攪拌會(huì)產(chǎn)生很多泡沫，且泡沫對(duì)雷達(dá)波散射造成所述雷達(dá)液位計(jì)較大的概率不能接收到液面反饋信號(hào)，從而不能準(zhǔn)確測(cè)量出罐內(nèi)氧化鎂液體的實(shí)際液位。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型提供了一種液位計(jì)，能夠準(zhǔn)確的測(cè)量出容置裝置內(nèi)氧化鎂液體的實(shí)際液位。
[0004]本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種液位計(jì)，應(yīng)用于容置有液體的容置裝置中，包括:
[0005]加壓管道；
[0006]導(dǎo)壓管，前端與所述加壓管道接通，后端設(shè)置在所述容置裝置內(nèi)；
[0007]減壓閥，設(shè)置在所述導(dǎo)壓管與所述加壓管道之間；
[0008]壓差變送器，設(shè)置在所述導(dǎo)壓管上。
[0009]可選的，所述導(dǎo)壓管包括第一部分導(dǎo)壓管和第二部分導(dǎo)壓管，其中，所述第一部分導(dǎo)壓管設(shè)置在所述容置裝置的上部，所述第二部分導(dǎo)壓管設(shè)置在所述容置裝置內(nèi)。
[0010]可選的，所述壓差變送器設(shè)置在所述第一部分導(dǎo)壓管上。
[0011 ]可選的，所述液位計(jì)還包括:
[0012]法蘭連接盤，設(shè)置在所述第一部分導(dǎo)壓管上。
[0013]可選的，所述液位計(jì)還包括:
[0014]處理器，電性連接所述壓差變送器。
[0015]可選的，所述導(dǎo)壓管的后端與所述容置裝置的底部接觸。
[0016]通過(guò)一個(gè)實(shí)施例或多個(gè)實(shí)施例，本實(shí)用新型具有以下有益效果或者優(yōu)點(diǎn):
[0017]由于本申請(qǐng)實(shí)施例是將導(dǎo)壓管前端與加壓管道接通，后端設(shè)置在容置裝置內(nèi)，減壓閥設(shè)置在所述導(dǎo)壓管與所述加壓管道之間，以及壓差變送器設(shè)置在所述導(dǎo)壓管上，使得所述加壓管道中的壓縮氣體通過(guò)所述減壓閥使得壓縮氣體的壓力變?yōu)橐辉O(shè)定壓強(qiáng)，而該設(shè)定壓強(qiáng)包括兩部分，一部分為氣體從所述容置裝置內(nèi)溢出的第一壓強(qiáng)和保持所述導(dǎo)壓管內(nèi)無(wú)液體進(jìn)入的第二壓強(qiáng)，而通過(guò)所述壓差變送器能夠測(cè)量出所述第一壓強(qiáng)，從而可以根據(jù)液體壓強(qiáng)公式P = Pgh可精確計(jì)算出所述容置裝置中的液體高度為h = P/ Pg，如此，通過(guò)該液位計(jì)能夠準(zhǔn)確測(cè)量出容置裝置內(nèi)氧化鎂液體的實(shí)際液位。
【附圖說(shuō)明】
[0018]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例中液位計(jì)的結(jié)構(gòu)圖；
[0019]圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例中液位計(jì)測(cè)量液位高度的曲線圖。
[0020]圖中有關(guān)附圖標(biāo)記如下:
[0021 ] I一一容置裝置，2一一加壓管道，3一一導(dǎo)壓管，31—一第一部分導(dǎo)壓管，32一一第二部分導(dǎo)壓管，4 減壓閥，5 壓差變送器，6 法蘭連接盤，10 曲線，20 曲線。
【具體實(shí)施方式】
[0022]本實(shí)用新型提供了一種液位計(jì)，能夠準(zhǔn)確的測(cè)量出容置裝置內(nèi)氧化鎂液體的實(shí)際液位。
[0023]下面具體結(jié)合附圖對(duì)本申請(qǐng)的裝置結(jié)構(gòu)進(jìn)行詳細(xì)的描述，具體如下所述。
[0024]本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種液位計(jì)，參見(jiàn)圖1，應(yīng)用于容置有液體的容置裝置I中，包括:加壓管道2，用于輸送壓縮氣體;導(dǎo)壓管3，前端與加壓管道2接通，后端設(shè)置在容置裝置I內(nèi)；減壓閥4，設(shè)置在導(dǎo)壓管3與加壓管道2之間;壓差變送器5設(shè)置在導(dǎo)壓管3上，其中，所述液體具體可以為氧化鎂液體。
[0025]其中，加壓管道2中的壓縮氣體的壓強(qiáng)根據(jù)實(shí)際情況來(lái)設(shè)定，例如可以設(shè)置為6bar、7bar、8bar等，其中，容置裝置I具體可以為密封罐等設(shè)備，上部設(shè)置有開(kāi)孔，以使得導(dǎo)壓管3通過(guò)所述開(kāi)孔進(jìn)入到容置裝置I中，且導(dǎo)壓管3和加壓管道2均可以是不銹鋼材料制成。
[0026]具體的，導(dǎo)壓管3包括第一部分導(dǎo)壓管31和第二部分導(dǎo)壓管32，其中，第一部分導(dǎo)壓管31設(shè)置在容置裝置I的上部，第二部分導(dǎo)壓管32設(shè)置在容置裝置I內(nèi)，其中，壓差變送器5可以設(shè)置在第一部分導(dǎo)壓管31上，用于測(cè)量第一部分導(dǎo)壓管31中的第一壓強(qiáng)，具體用P表不O
[0027]具體的，由于氧化鎂易于沉積，為避免氧化鎂在第二部分導(dǎo)壓管32的管口堵塞，所述液位計(jì)還包括法蘭連接盤6，設(shè)置在第一部分導(dǎo)壓管31上，法蘭連接盤6能夠進(jìn)行拆卸，進(jìn)而可以通過(guò)拆卸法蘭連接盤6對(duì)第二部分導(dǎo)壓管32內(nèi)沉積的氧化鎂進(jìn)行清理。
[0028]具體的，導(dǎo)壓管3的后端與容置裝置I的底部接觸，使得加壓管道2中壓縮氣體通過(guò)減壓閥4進(jìn)行減壓后進(jìn)入導(dǎo)壓管3中，使得減壓后的壓縮氣體通過(guò)從容置裝置I的底部溢出，如此，可以通過(guò)減壓閥4調(diào)節(jié)壓強(qiáng)，確保容置裝置I內(nèi)液體處于最高時(shí)減壓后的壓縮空氣仍能從容置裝置I的底部溢出，減壓閥4減壓后的壓縮空氣的壓強(qiáng)p。包括兩部分，一部分為保持導(dǎo)壓管3內(nèi)無(wú)液體進(jìn)入的第二壓強(qiáng)P1和氣體從容置裝置I底部溢出的第一壓強(qiáng)P，即ρο = ρ+Pi;而根據(jù)液體壓強(qiáng)公式P = Pgh，由于P為壓差變送器5測(cè)量出的第一部分導(dǎo)壓管31中的第一壓強(qiáng)，同時(shí)也是容置裝置I內(nèi)底部導(dǎo)壓管3的后端氣體溢出處液體產(chǎn)生的壓強(qiáng)，液體密度P通過(guò)液體配制方案計(jì)算或測(cè)量及可知，g為重力加速度，從而可以精確計(jì)算出容置裝置I中的液體高度為h = P/Pg，如此，通過(guò)該液位計(jì)能夠準(zhǔn)確測(cè)量出容置裝置內(nèi)氧化鎂液體的實(shí)際液位。
[0029]在另一實(shí)施例中，所述液位計(jì)還包括處理器，電性連接壓差變送器5，用于接收壓差變送器5測(cè)量獲得的第一壓強(qiáng)，所述處理器具體可以單片機(jī)、處理芯片等電子設(shè)備，所述液位計(jì)隨著液位增加，氣體壓強(qiáng)反饋會(huì)呈現(xiàn)非線性變化，為此，所述處理器設(shè)置有一液位補(bǔ)償模塊，通過(guò)反復(fù)試驗(yàn)，捕捉合適的液位補(bǔ)償參數(shù)，保證液位變化時(shí)被測(cè)氣體壓強(qiáng)呈現(xiàn)線性變化趨勢(shì)，從而可以根據(jù)所述液位補(bǔ)償參數(shù)，進(jìn)一步精確獲取到容置裝置I中的液體高度。
[0030]具體的，由于所述液位計(jì)反饋壓強(qiáng)會(huì)受到攪拌器攪拌速度的影響，攪拌速度越快，測(cè)量值與實(shí)際值偏差越大，如此，所述處理器還包括速度補(bǔ)償模塊，通過(guò)反復(fù)試驗(yàn)，捕捉最優(yōu)的速度補(bǔ)償參數(shù)，保證攪拌器動(dòng)作時(shí)被測(cè)氣體壓強(qiáng)呈現(xiàn)線性變化趨勢(shì)，從而可以根據(jù)所述速度補(bǔ)償參數(shù)，進(jìn)一步精確獲取到容置裝置I中的液體高度。
[0031]具體的，參見(jiàn)圖2，具體為混合罐配液全過(guò)程液位計(jì)測(cè)量曲線，其中曲線10為雷達(dá)液位計(jì)測(cè)量而獲得液位高度，受環(huán)境影響頻繁出現(xiàn)液位異常波動(dòng);而曲線20為本申請(qǐng)實(shí)施例中液位計(jì)測(cè)量的液位高度，其測(cè)量值穩(wěn)定、精確，與測(cè)量準(zhǔn)確時(shí)的雷達(dá)液位計(jì)測(cè)量值差
0.01L，并且在不同液位、不同攪拌速度下測(cè)量值沒(méi)有出現(xiàn)與雷達(dá)液位計(jì)測(cè)量值誤差增加的趨勢(shì)，如此，使得本申請(qǐng)實(shí)施例中的液位計(jì)測(cè)量液位高度時(shí)，不會(huì)受到泡沫產(chǎn)生的影響，同時(shí)容置裝置I內(nèi)漩渦產(chǎn)生的液面差也不會(huì)影響測(cè)量精度。
[0032]通過(guò)一個(gè)實(shí)施例或多個(gè)實(shí)施例，本實(shí)用新型具有以下有益效果或者優(yōu)點(diǎn):
[0033]由于本申請(qǐng)實(shí)施例是將導(dǎo)壓管前端與加壓管道接通，后端設(shè)置在容置裝置內(nèi)，減壓閥設(shè)置在所述導(dǎo)壓管與所述加壓管道之間，以及壓差變送器設(shè)置在所述導(dǎo)壓管上，使得所述加壓管道中的壓縮氣體通過(guò)所述減壓閥使得壓縮氣體的壓力變?yōu)橐辉O(shè)定壓強(qiáng)，而該設(shè)定壓強(qiáng)包括兩部分，一部分為所述導(dǎo)壓管內(nèi)無(wú)液體進(jìn)入的第一壓強(qiáng)和氣體從所述容置裝置內(nèi)溢出的第二壓強(qiáng)，而通過(guò)所述壓差變送器能夠測(cè)量出所述第二壓強(qiáng)，從而可以根據(jù)液體壓強(qiáng)公式P = Pgh可精確計(jì)算出所述容置裝置中的液體高度為h = P/pg，如此，通過(guò)該液位計(jì)能夠準(zhǔn)確測(cè)量出容置裝置內(nèi)氧化鎂液體的實(shí)際液位。
[0034]對(duì)所公開(kāi)的實(shí)施例的上述說(shuō)明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本實(shí)用新型。對(duì)這些實(shí)施例的多種修改對(duì)本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來(lái)說(shuō)將是顯而易見(jiàn)的，本文所定義的一般原理可以在不脫離實(shí)用新型的精神或范圍的情況下，在其他實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本實(shí)用新型將不會(huì)被限制與本文所示的這些實(shí)施例，而是要符合與本文所公開(kāi)的原理和新穎性特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種液位計(jì)，應(yīng)用于容置有液體的容置裝置中，其特征在于，所述液位計(jì)包括: 加壓管道； 導(dǎo)壓管，前端與所述加壓管道接通，后端設(shè)置在所述容置裝置內(nèi)； 減壓閥，設(shè)置在所述導(dǎo)壓管與所述加壓管道之間； 壓差變送器，設(shè)置在所述導(dǎo)壓管上。2.如權(quán)利要求1所述的液位計(jì)，其特征在于，所述導(dǎo)壓管包括第一部分導(dǎo)壓管和第二部分導(dǎo)壓管，其中，所述第一部分導(dǎo)壓管設(shè)置在所述容置裝置的上部，所述第二部分導(dǎo)壓管設(shè)置在所述容置裝置內(nèi)。3.如權(quán)利要求2所述的液位計(jì)，其特征在于，所述壓差變送器設(shè)置在所述第一部分導(dǎo)壓管上。4.如權(quán)利要求3所述的液位計(jì)，其特征在于，所述液位計(jì)還包括: 法蘭連接盤，設(shè)置在所述第一部分導(dǎo)壓管上。5.如權(quán)利要求1所述的液位計(jì)，其特征在于，所述液位計(jì)還包括: 處理器，電性連接所述壓差變送器。6.如權(quán)利要求1所述的液位計(jì)，其特征在于，所述導(dǎo)壓管的后端與所述容置裝置的底部接觸。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種液位計(jì)，應(yīng)用于容置有液體的容置裝置中，包括加壓管道；導(dǎo)壓管，前端與所述加壓管道接通，后端設(shè)置在所述容置裝置內(nèi)；減壓閥，設(shè)置在所述導(dǎo)壓管與所述加壓管道之間；壓差變送器，設(shè)置在所述導(dǎo)壓管上。本實(shí)用新型提供的一種液位計(jì)，能夠準(zhǔn)確的測(cè)量出容置裝置內(nèi)氧化鎂液體的實(shí)際液位。
【IPC分類】G01F23/14
【公開(kāi)號(hào)】CN205175506
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520892213
【發(fā)明人】張志杰, 李寶娟, 胡曉周, 張葉成, 張立強(qiáng), 苗賀武, 楊良
【申請(qǐng)人】北京首鋼股份有限公司
【公開(kāi)日】2016年4月20日
【申請(qǐng)日】2015年11月10日